The invention provides a substrate alignment method. The substrate alignment method presupposes a reflective interference recognition area on the first alignment mark on the hood, then moves the substrate so that the second alignment mark on the substrate is below the first alignment mark, and the second alignment mark is located outside the reflective interference recognition area. The image sensor focuses on the first alignment mark for recognition, which can be avoided in the recognition process. It is not necessary to modify the structure of the alignment device. It is only necessary to change the alignment logic of the alignment device to avoid the influence of the second alignment mark on the accuracy of alignment, and to improve the accuracy and success of the identification of the first alignment mark on the optical mask.
【技术实现步骤摘要】
基板对位方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种基板对位方法。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)是目前液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay,LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode,AMOLED)中的主要驱动元件,直接关系平板显示装置的显示性能。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate,TFTArraySubstrate)与彩色滤光片(ColorFilter,CF)基板之间灌入液晶分子,并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压,通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线透射出来产生画面。在基板的制作过程中,普遍使用接近式曝光机,曝光机使用过程中需将玻璃基板上的标识(Mark)和光罩上的标识进行对位,对位的主要方式是使用上方高亮度的灯源照射,依靠玻璃基板和光罩上Mark反光后显现的不同形态,在普通的制程要求中,一般光罩上的Mark为金属材料,高亮光照射后呈亮白色,玻璃基板上的Mark为非金属材料,高亮光照射后呈暗黑色,由于黑白形态特征明显,较为容易识别,在经过用于识别Mark的电荷耦合器件图像传感器(CCD)调整焦距识别时的不同清晰度,来进行Mark的对位。现有技术中进行玻璃基板Mark与光罩Mark对位 ...
【技术保护点】
1.一种基板对位方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、移动图像传感器至位于光罩(10)上的第一对位标识(11)的上方,并在第一对位标识(11)上预设一反光干扰识别区域(12);步骤S2、移动基板(20)使位于基板(20)上的第二对位标识(21)至光罩(10)上的第一对位标识(11)的下方,且该第二对位标识(21)位于所述反光干扰识别区域(12)的外部;步骤S3、图像传感器聚焦第一对位标识(11)进行识别,得到第一对位标识(11)的位置;步骤S4、移动基板(20)使第二对位标识(21)处于所述反光干扰识别区域(12)的内部,图像传感器聚焦第二对位标识(21)进行识别,得到第二对位标识(21)的位置;步骤S5、根据第一对位标识(11)的位置与第二对位标识(21)的位置将基板(20)与光罩(10)进行对位,使第二对位标识(21)的正投影与第一对位标识(11)的正投影重叠。
【技术特征摘要】
1.一种基板对位方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、移动图像传感器至位于光罩(10)上的第一对位标识(11)的上方,并在第一对位标识(11)上预设一反光干扰识别区域(12);步骤S2、移动基板(20)使位于基板(20)上的第二对位标识(21)至光罩(10)上的第一对位标识(11)的下方,且该第二对位标识(21)位于所述反光干扰识别区域(12)的外部;步骤S3、图像传感器聚焦第一对位标识(11)进行识别,得到第一对位标识(11)的位置;步骤S4、移动基板(20)使第二对位标识(21)处于所述反光干扰识别区域(12)的内部,图像传感器聚焦第二对位标识(21)进行识别,得到第二对位标识(21)的位置;步骤S5、根据第一对位标识(11)的位置与第二对位标识(21)的位置将基板(20)与光罩(10)进行对位,使第二对位标识(21)的正投影与第一对位标识(11)的正投影重叠。2.如权利要求1所述的基板对位方法,其特征在于,所述第一对位标识(11)与第二对位标识(21)的材料均为金属。3.如权利要求2所述的基板对位方法,其特征在于,当第二对位标识(21)位于光罩(10)的下方时会反光形成一反光区域,所述步骤S1中,根据该反光区域的面积大小对应在第一对位标识(11)上预设一面积与反光区域的面积相同的反光干扰识别区域(12)。4.如权利要求1所述的基板对位方法,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡立巍,叶人豪,王载忠,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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