阵列基板、阵列基板制造方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种阵列基板、阵列基板制造方法及显示装置，其中，阵列基板包括：显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置；所述虚拟透明导电层的形状与透明导电层的形状相匹配。

Manufacturing Method and Display Device of Array Substrate and Array Substrate

The invention discloses an array substrate, a manufacturing method of an array substrate and a display device, in which the array substrate comprises a display area and a non-display area located outside the display area, in which a transparent conductive layer is arranged, and the non-display area is provided with a virtual transparent conductive layer, and the virtual transparent conductive layer is arranged in the same layer as the transparent conductive layer. The shape of the virtual transparent conductive layer matches that of the transparent conductive layer.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、阵列基板制造方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板、阵列基板的制造方法以及包含此阵列基板的显示装置。
技术介绍
这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息，而不必然地构成示例性技术。TFT-LCD(ThinFilm-TransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)是液晶显示器中的主流产品。液晶面板是液晶显示器的重要部件，示例性液晶显示面板包括两个基板：彩膜(CF)基板和阵列(Array)基板，两基板的四周通过封胶框对盒，两基板之间设置有液晶材料组成的液晶层。通常液晶面板分为显示区域(AA)以及形成于显示区域(AA)外围的周边区域，阵列基板上设置有由透明导电层形成的像素电极和公共电极，为了增加透过率，现在阵列基板上的条纹状的透明导电层(ITO层)的宽度越来越小。而透明导电层覆盖于显示区域(AA)，阵列基板上条纹状的透明导电层是通过光刻工艺形成，由于条纹状的透明导电层的宽度很窄，经过曝光、显影之后，在刻蚀的过程中，显示区域(AA)的中心位置与边缘位置的刻蚀液消耗速率不同，导致刻蚀液浓度不均，最终导致刻蚀之后显示区域(AA)的中心位置与边缘位置的透明导电层(ITO)不均匀(线宽有细微差异)，从而导致mura不良。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种阵列基板，实现了透明导电层线宽均匀以及显示区域的亮度均匀。为实现上述目的，本专利技术提供的阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置。可选地，所述虚拟透明导电层的厚度等于所述透明导电层的的厚度。可选地，所述虚拟透明导电层的形状与透明导电层的形状相匹配。可选地，所述非显示区域还设置有静电防护环，所述虚拟透明导电层位于所述显示区域和所述静电防护环之间。可选地，所述虚拟透明导电层抵接于所述静电防护环。可选地，所述显示区域还设置有栅线和数据线；所述非显示区域的还设置有栅线引线和数据引线，所述栅线引线与所述栅线连接，所述数据引线与所述数据线连接。可选地，所述虚拟透明导电层开设有多个避让孔，所述栅线引线和所述数据引线分别位于所述避让孔。可选地，所述虚拟透明导电层远离所述显示区域的一侧设置有沟槽。本专利技术还提出一种显示装置，一种阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，其特征在于，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置；所述虚拟透明导电层的厚度等于所述透明导电层的的厚度；所述透明导电层的边缘位置的厚度为L1,所述透明导电层的中央位置的厚度为L2,其中，L1＞L2。本专利技术还提出一种阵列基板的制造方法，包括：提供一基板，该基板的表面具有一显示区与一非显示区域，其中所述非显示区域位于所述显示区外侧；形成薄膜晶体管阵列在所述基板的显示区上，形成虚拟薄膜晶体管阵列在所述基板的非显示区；透明导电层经过清洗、光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离和检查，以形成透明导电层图案；本专利技术还提出一种显示装置，包括阵列基板，该阵列基板包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置。本专利技术技术方案通过在非显示区域设置与显示区域的透明导电层10处于同一层的虚拟透明导电层，这样，在光刻工艺中，由于显示区域的边缘位置外围的非显示区域还设置有透明导电层，也就是说，透明导电层的边缘位于非显示区域而不位于显示区域的边缘位置，这样即可保证刻蚀液在显示区域的中央位置与边缘位置的消耗速率相同，刻蚀液浓度均匀，从而使得透明导电层在显示区域的中央位置与边缘位置均匀(线宽无差异)，可以解决显示区域的中央位置与边缘位置的透明导电层不均匀的问题，降低斑点不良的产生；而将虚拟透明导电层的形状和透明导电层的形状设置成相匹配，相当于将透明导电层的蚀刻环境变成和透明导电层的中央位置的蚀刻环境相一致，从而进一步保证了透明导电层的内部和边缘处蚀液侵蚀消耗速率相同，刻蚀液浓度均匀，进而使得透明导电层在显示区域(AA)的中央位置与边缘位置均匀(线宽无差异)。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或示例性技术中的技术方案，下面将对实施例或示例性技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本专利技术阵列基板较佳实施例的结构示意图；图2为本专利技术阵列基板驱动电路的结构示意图；图3为本专利技术阵列基板驱动电路和虚拟透明导电层的装配示意图。附图标号说明：标号名称标号名称100阵列基板50静电防护环10透明导电层70栅线30虚拟透明导电层71栅线引线31避让孔90数据线33沟槽91数据引线本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明，本专利技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，在本专利技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。本专利技术提出一种阵列基板100，如图1至图3所示，包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层10，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层30，且所述虚拟透明导电层30与所述透明导电层10同层设置，所述虚拟透明导电层30的形状与透明导电层10的形状相匹配。通过在非显示区域设置与显示区域AA的透明导电层10处于同一层的虚拟透明导电层30，这样，在光刻工艺中，由于显示区域(AA)的边缘位置外围的非显示区域还设置有透明导电层10，也就是说，透明导电层10的边缘位于非显示区域而不位于显示区域(AA)的边缘位置，这样即可保证刻蚀液在显示区域(AA)的中央位置与边缘位置的消耗速率相同，刻蚀液浓度均匀，从而使得透明导电层10在显示区域(AA)的中央位置与边缘位置均匀(线宽无差异)，可以解决显示区域AA的中央位置与边缘位置的透明导电层10不均匀的问题，降低斑点不良的产生；而将虚拟透明导电层30的形状和透明导电层10的形状设置成相匹配，相当于将透明导电层10的蚀刻环境变成和透明导电层10的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，其特征在于，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置；所述虚拟透明导电层的形状与透明导电层的形状相匹配。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域，所述显示区域内设置有透明导电层，其特征在于，所述非显示区域设置有虚拟透明导电层，且所述虚拟透明导电层与所述透明导电层同层设置；所述虚拟透明导电层的形状与透明导电层的形状相匹配。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述虚拟透明导电层的厚度等于所述透明导电层的的厚度。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区域还设置有静电防护环，所述虚拟透明导电层位于所述显示区域和所述静电防护环之间。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述虚拟透明导电层抵接于所述静电防护环。5.根据权利要求1至4任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域还设置有栅线和数据线；所述非显示区域的还设置有栅线引线和数据引线，所述栅线引线与所述栅线连接，所述数据引线与所述数据线连接。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述虚拟透明导电层开设有多个避让孔，所述栅线引线和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：常红燕，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44