一种投影物镜制造技术

本发明专利技术提供了一种投影物镜，用于将物方的图像投影在像方上，所述物镜从物方开始沿光轴依次包括；具有正光焦度的第一透镜组、具有负光焦度的第二透镜组、具有正光焦度的第三透镜组、具有负光焦度的第四透镜组、以及具有正光焦度的第五透镜组，在第一透镜组、第二透镜组、第四透镜组和第五透镜组设有非球面镜面的透镜，采用此设计减少了透镜的个数，使得所述物镜结构更加紧凑，提升了所述物镜的透过率，另一方面，优化了非球面镜面的结构设计，降低其非球面度，减少了非球面镜面的加工难度与成本，除此之外所述物镜具有双远心结构，降低所述物镜对掩模面上微小的凹凸缺陷的灵敏度。

A Projection Object

The present invention provides a projection objective for projecting an image of an object onto an image side, which includes, in turn, a first lens group with positive focal power, a second lens group with negative focal power, a third lens group with positive focal power, a fourth lens group with negative focal power and a fifth lens group with positive focal power, in the first transmittance. The lens group, the second lens group, the fourth lens group and the fifth lens group are equipped with aspherical lenses. By using this design, the number of lenses is reduced, the structure of the objective lens is more compact, and the transmittance of the objective lens is improved. On the other hand, the structure design of the aspheric lens is optimized, the asphericity is reduced, and the processing difficulty and cost of the aspheric lens are reduced. The objective lens has a double telecentric structure, which reduces the sensitivity of the objective lens to small concave and convex defects on the mask surface.

【技术实现步骤摘要】
一种投影物镜
本专利技术属于光学
，涉及一种投影物镜。
技术介绍
光学投影光刻是利用光学投影成像的原理将掩模版上IC图形以分布重复或扫描的方式转移至涂胶硅片上的光学曝光过程。在通常情况下，光刻的分辨率可以通过缩短波长、增大数值孔径、降低工艺因子等途径来实现。随着集成电路器件集成度的不断提高，对光刻物镜的分辨率提出了更高的要求。受限于整机体积的空间约束，在保证投影物镜的曝光性能不受影响的条件下，光刻技术对投影物镜的体积要求越来越严格。光刻投影物镜的体积小形化、结构紧凑、性能优异、成本合理越来越成为一种技术发展的趋势和需要。在现有技术中，一方面，光刻投影物镜系统的透镜镜片个数较多，然而较多的镜片将会导致镜片对系统能量的吸收，从而影响物镜总的透过率降低；另一方面，所述系统的物方远心较大，导致物镜对于掩模面上由于加工产生的不平整度非常敏感，尤其是畸变的灵敏度非常高，掩模面上微小的凹凸缺陷会被投影物镜的放大，从而影响硅片面上曝光质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种投影物镜，以解决现有技术中物镜组透镜个数多和物方远心大的问题，达到了减少透镜个数、降低物镜系统对掩模版缺陷的灵敏度。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种投影物镜，用于将物方的图像投影在像方上，其特征在于，所述投影物镜从物方开始沿光轴依次包括：具有正光焦度的第一透镜组，所述第一透镜组包括第一负透镜组，在所述第一负透镜组的透镜中靠近所述物方的一侧的镜面为非球面镜面；具有负光焦度的第二透镜组，所述第二透镜组包括第一双凹形透镜组，在所述第一双凹形透镜组靠近所述像方一侧的透镜中靠近物方一侧的镜面为非球面镜面镜面；具有正光焦度的第三透镜组；具有负光焦度的第四透镜组，所述第四透镜组包括第二双凹形透镜组，在所述第二双凹形透镜组靠近所述物方一侧的透镜中靠近所述像方一侧的镜面为非球面镜面；以及具有正光焦度的第五透镜组，所述第五透镜组包括第三双凹形透镜组，...

【技术特征摘要】
1.一种投影物镜，用于将物方的图像投影在像方上，其特征在于，所述投影物镜从物方开始沿光轴依次包括：具有正光焦度的第一透镜组，所述第一透镜组包括第一负透镜组，在所述第一负透镜组的透镜中靠近所述物方的一侧的镜面为非球面镜面；具有负光焦度的第二透镜组，所述第二透镜组包括第一双凹形透镜组，在所述第一双凹形透镜组靠近所述像方一侧的透镜中靠近物方一侧的镜面为非球面镜面镜面；具有正光焦度的第三透镜组；具有负光焦度的第四透镜组，所述第四透镜组包括第二双凹形透镜组，在所述第二双凹形透镜组靠近所述物方一侧的透镜中靠近所述像方一侧的镜面为非球面镜面；以及具有正光焦度的第五透镜组，所述第五透镜组包括第三双凹形透镜组，在所述第三双凹形透镜组的透镜中靠近所述像方一侧的镜面为非球面镜面。2.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组包括具有负光焦度的第一子透镜组和具有正光焦度的第二子透镜组，所述第一子透镜组包括所述第一负透镜组，所述第一负透镜组至少包括一片负光焦度透镜，所述第二子透镜组至少包括两片正光焦度透镜。3.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第二透镜组至少包括四片负光焦度透镜，所述第一双凹形透镜组为负光焦度透镜组且至少包括两片双凹形透镜。4.如权利要求3所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第二透镜组的透镜个数为N，N为大于或者等于4的偶数；所述第一双凹形透镜组的透镜个数为M，M为大于或者等于2的偶数。5.如权利要求4所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第一双凹形透镜组的透镜排布在所述光轴贯穿所述第二透镜组光路的中点两侧，所述第一双凹形透镜的透镜排布位置关于所述光路的中点对称。6.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第三透镜组至少包括两片正光焦度透镜。7.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第三透镜组透镜使用材料的折射率小于1.6。8.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第四透镜组至少包括三片负光焦度透镜。9.如权利要求8所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第四透镜组至少包括一片弯月形负光焦度透镜。10.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第五透镜组包括第三子透镜组、第四子透镜组和第五子透镜组，所述第三子透镜组包括至少两片透镜，所述第四子透镜组至少包括三片透镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：安福平，褚兆祥，郭银章，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31