可伸缩金属支架驱动平台制造技术

本发明专利技术涉及一种可伸缩金属支架驱动平台，包括：气压提取设备，设置在压电陶瓷灶体的喷嘴内，用于提取喷嘴内的气流的气压值，以作为即时气流气压；数据分析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内，用于在即时气流气压超限时，发出气压超限指令，否则，发出气压合规指令；自动调节设备，用于在接收到气压超限指令时，根据即时气流气压自动调节喷嘴内的气流的气压值，以使得喷嘴内的气流的气压值低于限量；可伸缩金属支架，默认状态下位于压电陶瓷灶体的喷嘴附近的不锈钢外壳内，伸缩状态从不锈钢外壳内向上伸出，以对压电陶瓷灶体的喷嘴上方的锅体进行支撑。通过本发明专利技术，能够提高压电陶瓷灶体中气体的燃烧效率。

【技术实现步骤摘要】
可伸缩金属支架驱动平台
本专利技术涉及压电陶瓷灶体领域，尤其涉及一种可伸缩金属支架驱动平台。
技术介绍
压电陶瓷灶体工作原理主要是电陶瓷受冲击力作用时将产生高电压，这种点火器由两组压电陶瓷组成，需要点燃燃烧具时，凭借旋转点火开关动作的外力，在弹簧的作用下，使压电陶瓷发生撞击，把这个机械能转换成5000-10000伏的瞬间高电压，电极之间在高电压作用下放电，燃气从电极之间穿过能被电火花点燃。包括阀座，阀体，在阀座，阀体内装有阀杠，阀芯，在阀芯上的扁端套装有拨块，在阀座，阀体内还装有击发簧、击锤、压电陶瓷，其特征在于在拨块上设有两个能拨动击锤、使之打击压电陶瓷而产生电火花的拨齿。开阀时阀杠在转动90度范围内拨动击锤两次，打两次火，确保了燃气阀体的着火率合格。
技术实现思路
为了解决当前压电陶瓷灶体中锅体距离喷嘴太近容易导致气体燃烧不充分的技术问题，本专利技术提供了一种可伸缩金属支架驱动平台。本专利技术至少具有以下两个重要专利技术点：(1)将压电陶瓷灶体的喷嘴上方接近的锅体目标的在选择性处理图像中的景深作为其距离压电陶瓷灶体的喷嘴的距离参考值，以在锅体过于贴近时，使用可伸缩金属支架使其进入伸缩状态，并基于所述景深调整所述可伸缩金属支架的伸起高度，从而保证喷嘴处火体的正常燃烧和有效利用；(2)在图像的选择处理中，通过对像素点的蓝色通道值的异常分析，将异常像素点最集中的区域作为价值区域，以减少后续处理占据的运算资源。根据本专利技术的一方面，提供了一种可伸缩金属支架驱动平台，所述平台包括：气压提取设备，设置在压电陶瓷灶体的喷嘴内，用于提取所述喷嘴内的气流的气压值，以作为即时气流气压，并输出所述即时气流气压。更具体地，在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：数据分析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内，与所述气压提取设备连接，用于接收所述即时气流气压，并在所述即时气流气压超限时，发出气压超限指令，否则，发出气压合规指令。更具体地，在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：自动调节设备，与所述数据分析设备连接，用于在接收到所述气压超限指令时，根据所述即时气流气压自动调节所述喷嘴内的气流的气压值，以使得所述喷嘴内的气流的气压值低于限量。更具体地，在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：可伸缩金属支架，默认状态下位于压电陶瓷灶体的喷嘴附近的不锈钢外壳内，伸缩状态从所述不锈钢外壳内向上伸出，以对压电陶瓷灶体的喷嘴上方的锅体进行支撑；可调式摄像结构，位于压电陶瓷灶体的喷嘴的附近，包括两个摄像组件，所述两个摄像组件分别被放置在椭圆形防火外壳上的垂直布置的两个安装孔内，并分别输出第一区域图像和第二区域图像；异常解析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述可调式摄像结构连接，用于接收所述第一区域图像和所述第二区域图像，面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，对所述区域图像中每一个像素点的蓝色通道值是否为异常通道值进行判断，并在蓝色通道值为异常通道值时，确定对应的像素点为异常像素点，以获得所述区域图像中的各个异常像素点；集中度检测设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述异常解析设备连接，用于面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，获取在所述区域图像中各个异常像素点最集中的区域，并将所述最集中的区域作为价值区域输出；亮度均衡设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述集中度检测设备连接，用于面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，接收所述价值区域，对所述价值区域执行亮度均衡，以获得相应的均衡处理图像，并输出所述均衡处理图像；位置配对设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述亮度均衡设备连接，用于接收所述第一区域图像和所述第二区域图像各自的均衡处理图像，提取所述第一区域图像的均衡处理图像的熵值和所述第二区域图像的均衡处理图像的熵值，将熵值最大的均衡处理图像所对应的区域图像作为高参考性图像；目标分析设备，分别与所述支架驱动设备和所述位置配对设备连接，用于提取出所述高参考性图像中的锅体目标，并在所述锅体目标在所述高参考性图像中的景深小于等于预设景深阈值时，发出距离过近信号，否则，发出距离正常信号；支架驱动设备，用于在接收到所述距离过近信号时，将所述可伸缩金属支架的当前状态切换为伸缩状态，并基于所述锅体目标在所述高参考性图像中的景深调整所述可伸缩金属支架的伸起高度；其中，对所述区域图像中每一个像素点的蓝色通道值是否为异常通道值进行判断包括：计算所述区域图像中各个像素点的蓝色通道值的均值，在像素点的蓝色通道值偏离所述均值未超过限量时，确定所述像素点为正常像素点；其中，对所述区域图像中每一个像素点的蓝色通道值是否为异常通道值进行判断包括：计算所述区域图像中各个像素点的蓝色通道值的均值，在像素点的蓝色通道值偏离所述均值超过限量时，确定所述像素点为异常像素点。具体实施方式下面将对本专利技术的可伸缩金属支架驱动平台的实施方案进行详细说明。压电陶瓷是一类具有压电特性的电子陶瓷材料.与典型的不包含铁电成分的压电石英晶体的主要区别是：构成其主要成分的晶相都是具有铁电性的晶粒.由于陶瓷是晶粒随机取向的多晶聚集体，因此其中各个铁电晶粒的自发极化矢量也是混乱取向的.为了使陶瓷能表现出宏观的压电特性，就必须在压电陶瓷烧成并于端面被复电极之后，将其置于强直流电场下进行极化处理，以使原来混乱取向的各自发极化矢量沿电场方向择优取向。经过极化处理后的压电陶瓷，在电场取消之后，会保留一定的宏观剩余极化强度，从而使陶瓷具有了一定的压电性质。为了克服上述不足，本专利技术搭建了一种可伸缩金属支架驱动平台，能够有效解决相应的技术问题。根据本专利技术实施方案示出的可伸缩金属支架驱动平台包括：气压提取设备，设置在压电陶瓷灶体的喷嘴内，用于提取所述喷嘴内的气流的气压值，以作为即时气流气压，并输出所述即时气流气压。接着，继续对本专利技术的可伸缩金属支架驱动平台的具体结构进行进一步的说明。在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：数据分析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内，与所述气压提取设备连接，用于接收所述即时气流气压，并在所述即时气流气压超限时，发出气压超限指令，否则，发出气压合规指令。在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：自动调节设备，与所述数据分析设备连接，用于在接收到所述气压超限指令时，根据所述即时气流气压自动调节所述喷嘴内的气流的气压值，以使得所述喷嘴内的气流的气压值低于限量。在所述可伸缩金属支架驱动平台中，还包括：可伸缩金属支架，默认状态下位于压电陶瓷灶体的喷嘴附近的不锈钢外壳内，伸缩状态从所述不锈钢外壳内向上伸出，以对压电陶瓷灶体的喷嘴上方的锅体进行支撑；可调式摄像结构，位于压电陶瓷灶体的喷嘴的附近，包括两个摄像组件，所述两个摄像组件分别被放置在椭圆形防火外壳上的垂直布置的两个安装孔内，并分别输出第一区域图像和第二区域图像；异常解析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述可调式摄像结构连接，用于接收所述第一区域图像和所述第二区域图像，面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，对所述区域图像中每一个像素点的蓝色通道值是否为异常通道值进行判断，并在蓝色通道值为异常通道值时，确定对应的像素点为异常像素点，以获得所述区域图像中的各个异常像素点；集中度检测设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述异常解析设备连本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可伸缩金属支架驱动平台，所述平台包括：气压提取设备，设置在压电陶瓷灶体的喷嘴内，用于提取所述喷嘴内的气流的气压值，以作为即时气流气压，并输出所述即时气流气压。

【技术特征摘要】
1.一种可伸缩金属支架驱动平台，所述平台包括：气压提取设备，设置在压电陶瓷灶体的喷嘴内，用于提取所述喷嘴内的气流的气压值，以作为即时气流气压，并输出所述即时气流气压。2.如权利要求1所述的可伸缩金属支架驱动平台，其特征在于，所述平台还包括：数据分析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内，与所述气压提取设备连接，用于接收所述即时气流气压，并在所述即时气流气压超限时，发出气压超限指令，否则，发出气压合规指令。3.如权利要求2所述的可伸缩金属支架驱动平台，其特征在于，所述平台还包括：自动调节设备，与所述数据分析设备连接，用于在接收到所述气压超限指令时，根据所述即时气流气压自动调节所述喷嘴内的气流的气压值，以使得所述喷嘴内的气流的气压值低于限量。4.如权利要求3所述的可伸缩金属支架驱动平台，其特征在于，所述平台还包括：可伸缩金属支架，默认状态下位于压电陶瓷灶体的喷嘴附近的不锈钢外壳内，伸缩状态从所述不锈钢外壳内向上伸出，以对压电陶瓷灶体的喷嘴上方的锅体进行支撑；可调式摄像结构，位于压电陶瓷灶体的喷嘴的附近，包括两个摄像组件，所述两个摄像组件分别被放置在椭圆形防火外壳上的垂直布置的两个安装孔内，并分别输出第一区域图像和第二区域图像；异常解析设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述可调式摄像结构连接，用于接收所述第一区域图像和所述第二区域图像，面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，对所述区域图像中每一个像素点的蓝色通道值是否为异常通道值进行判断，并在蓝色通道值为异常通道值时，确定对应的像素点为异常像素点，以获得所述区域图像中的各个异常像素点；集中度检测设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述异常解析设备连接，用于面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，获取在所述区域图像中各个异常像素点最集中的区域，并将所述最集中的区域作为价值区域输出；亮度均衡设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述集中度检测设备连接，用于面向所述第一区域图像和所述第二区域图像之一，接收所述价值区域，对所述价值区域执行亮度均衡，以获得相应的均衡处理图像，并输出所述均衡处理图像；位置配对设备，设置在压电陶瓷灶体的控制盒内与所述亮度均衡设备连接，用于接收所述第一区域图像和所述第二区域图像各自的均衡处理图像，提取所述第一区域图像的均衡处理图像的熵值和所述第二区域图像的均衡处理图像的熵值，将熵值最大的均衡处理图像所对应的区域图像作为高参...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱迪，
申请(专利权)人：邱迪，
类型：发明
国别省市：浙江,33