光罩和曝光系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种光罩和应用该光罩的曝光系统，其中，光罩包括完全透光区和围设于所述完全透光区外围的完全遮光区，所述完全透光区内设有遮光区，定义所述遮光区的光穿透率为T，0≤T＜100％。本实用新型专利技术的技术方案能够提升隔垫物的自由端面的平整度，提升隔垫物与阵列基板抵持的稳定性，从而避免液晶盒的盒厚异常，提升液晶面板的显示品质。

【技术实现步骤摘要】
光罩和曝光系统
本技术涉及液晶显示
，特别涉及一种光罩和应用该光罩的曝光系统。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay)的液晶面板包括阵列基板(ThinFilmTransistor)、液晶层、以及彩色滤光片(ColorFilter)，彩色滤光片与阵列基板之间还设置有若干起支撑作用的隔垫物，用以保证液晶盒的盒厚。进一步地，为了确保液晶盒具有足够大的液晶冗余，以抵御温度变化和压力变化对液晶盒的影响，在液晶面板设计时，若干隔垫物中的一部分将会被设置成为主隔垫物、另一部分将会被设置成为辅隔垫物，并且，主隔垫物与辅隔垫物之间还需保证足够的段差。但是，在实际的隔垫物制程中，隔垫物的自由端面，即隔垫物的用于抵持阵列基板的端面并不是平整的，而是呈球面形式。此时，由于球面滑动的影响，实际起作用的隔垫物将远远小于设计值，从而使得液晶盒的盒厚异常，影响显示品质。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种光罩，旨在提升隔垫物的自由端面的平整度，提升隔垫物与阵列基板抵持的稳定性，从而避免液晶盒的盒厚异常，提升液晶面板的显示品质。为实现上述目的，本技术提出的光罩，包括完全透光区和围设于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光罩，其特征在于，包括完全透光区和围设于所述完全透光区外围的完全遮光区，所述完全透光区内设有遮光区，定义所述遮光区的光穿透率为T，0≤T＜100％。

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括完全透光区和围设于所述完全透光区外围的完全遮光区，所述完全透光区内设有遮光区，定义所述遮光区的光穿透率为T，0≤T＜100％。2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光区的外轮廓形状与所述完全透光区的外轮廓形状相同。3.如权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述遮光区的中心与所述完全透光区的中心重合设置。4.如权利要求3所述的光罩，其特征在于，所述遮光区的外轮廓与所述完全透光区的外轮廓之间的最小距离为2μm～10μm。5.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光区包括若干子遮光区，若干所述子遮光区间隔分布，每一所述子遮光区的光穿透率均大...

【专利技术属性】
技术研发人员：李泽尧，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44