下载光罩和曝光系统的技术资料

文档序号:20789726

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本实用新型公开一种光罩和应用该光罩的曝光系统,其中,光罩包括完全透光区和围设于所述完全透光区外围的完全遮光区,所述完全透光区内设有遮光区,定义所述遮光区的光穿透率为T,0≤T<100%。本实用新型的技术方案能够提升隔垫物的自由端面的平整度,...
该专利属于惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司授权不得商用。

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