电子设备洗涤用的碱水的制造装置及制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制来源于气体溶解膜装置的微粒向氢水中混入的碱水的制造方法及制造装置。一种电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其具备：将超纯水调整为碱性的pH调整装置(11)、将调整为碱性的超纯水进行脱气的脱气装置(13)和在脱气后的超纯水中介由气体溶解膜使功能性气体溶解的气体溶解膜装置(14)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电子设备洗涤用的碱水的制造装置及制造方法
本专利技术涉及电子设备洗涤用的碱水的制造装置及制造方法。
技术介绍
在LSI(大规模集成电路等)等电子部件构件的制造工序中，通过超纯水或使化学药品溶解于超纯水中而得到的洗涤液进行表面的洗涤。例如，在硅晶片的情况下，采用在超纯水或洗涤液中浸渍硅晶片、或者流过超纯水或洗涤液的方法。作为洗涤液，在以除去附着于表面的有机物作为目的的情况下，使用硫酸与过氧化氢的混合溶液，在以除去微粒作为目的的情况下，使用氨与双氧水的混合洗涤液，在以除去金属杂质作为目的的情况下，使用盐酸与双氧水的混合洗涤液，在以除去硅晶片表面的自然氧化膜作为目的的情况下，使用氢氟酸洗涤液等。这里，从上述洗涤液的减量、洗涤后的冲洗用超纯水的减量、降低废水负荷等观点出发，近年来，在LSI的制造工序中，为了除去电子部件构件类的微粒，作为洗涤用水，使用了所谓的功能水。该功能水是使用气体溶解膜装置使氢气、臭氧气体、二氧化碳气体等特定的气体(功能性气体)溶解于超纯水中而制造的。作为洗涤用的功能水，已知有使氢气溶解于超纯水中而得到的氢水(例如参照专利文献1。)。另外，在电子部件构件类的洗涤中，为了抑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其特征在于，其具备：pH调整装置，其将超纯水调整为碱性；脱气装置，其将所述调整为碱性的超纯水进行脱气；和气体溶解膜装置，其在所述脱气后的超纯水中介由气体透过膜使功能性气体溶解。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.02 JP 2016-1521391.一种电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其特征在于，其具备：pH调整装置，其将超纯水调整为碱性；脱气装置，其将所述调整为碱性的超纯水进行脱气；和气体溶解膜装置，其在所述脱气后的超纯水中介由气体透过膜使功能性气体溶解。2.根据权利要求1所述的电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其特征在于，所述pH调整装置将所述超纯水的pH调整为8～11。3.根据权利要求1或2所述的电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其特征在于，所述pH调整装置在所述超纯水中添加选自氨、四甲基氢氧化铵钠、2-羟乙基三甲基氢氧化铵(胆碱)、氢氧化钠及氢氧化钾中的1种以上的碱性成分。4.根据权利要求3所述的电子设备洗涤用的碱水的制造装置，其特征在于，所述pH调整装置在所述超纯水中以所述碱水中的浓度成为2mg/L～100mg/L的量添加所述碱性成分。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：自在丸隆行，
申请(专利权)人：野村微科学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP