坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法技术

本发明专利技术公开了一种坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法，涉及显示技术领域，主要目的是用于更加方便的清理坩埚喷嘴装置上的凝结物。本发明专利技术的主要技术方案为：一种坩埚喷嘴装置，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔内还套设有围绕所述喷孔内壁一周的套件，所述套件的的径向截面为多边形形状。本发明专利技术主要用于进行真空热蒸镀工艺。

【技术实现步骤摘要】
坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法。
技术介绍
在OLED显示面板的制备工艺中，很多功能层都需要采用真空热蒸镀方式形成，具体的，首先将材料放置坩埚内，然后在真空环境下加热坩埚，使坩埚内的材料气化并从坩埚的喷最出喷出，而喷出后的气态材料遇到温度较低的玻璃板上，就能够在玻璃板上形成有机膜。然而，材料气体在喷射过程中经过喷嘴时，如果喷嘴的温度不够高，就会使材料气体在喷嘴内进行凝结，这样就会使喷嘴的喷口尺寸越来越小，甚至会发生堵塞现象，严重影响显示面板的生产品质。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法，主要目的是用于更加方便的清理坩埚喷嘴装置上的凝结物。为达到上述目的，本专利技术主要提供如下技术方案：一方面，本专利技术实施例提供了一种坩埚喷嘴装置，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔的径向截面为多边形形状。可选地，所述喷孔的径向截面为锯齿圆形形状。可选地，所述喷孔的径向截面为矩形形状。可选地，所述喷嘴本体包括支撑部和内套部，所述支撑部具有连接通孔，所述内套部可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种坩埚喷嘴装置，其特征在于，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔内还套设有围绕所述喷孔内壁一周的套件，所述套件的的径向截面为多边形形状。

【技术特征摘要】
1.一种坩埚喷嘴装置，其特征在于，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔内还套设有围绕所述喷孔内壁一周的套件，所述套件的的径向截面为多边形形状。2.根据权利要求1所述的坩埚喷嘴装置，其特征在于，所述套件的径向截面为锯齿圆形形状。3.根据权利要求1所述的坩埚喷嘴装置，其特征在于，所述套件的径向截面为矩形形状。4.根据权利要求1所述的坩埚喷嘴装置，其特征在于，所述套件的部分或全部与所述喷孔的内壁之间具有间隙。5.根据权利要求1所述的坩埚喷嘴装置，其特征在于，所述套件与所述喷嘴本体之间为可拆卸连接。6.根据权利要求1所述的坩埚喷嘴装置，其特征在于，所述喷嘴本体上的喷孔为多个，每个所述喷孔上均设有所述套件。7.一种坩埚，其特征在于，包括：坩埚本体和如权利要求1至6中任一项所述的坩埚喷嘴装置，所述坩埚本体固定连接于...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙力，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34