一种光谱的预处理方法技术

本发明专利技术涉及一种光谱的预处理方法，首先是对光谱进行去噪：将光谱输入卷积去噪层C1进行去噪，再对光谱进行基线校正：将经过C1去噪后的光谱输入基线校正层C2。本发明专利技术方法中去噪和基线校正以卷积的方式融入中，从而将预处理过程和鉴别问题转化在统一的模型框架中求解，实现了数据的自适应处理，弥补了传统方法的不足；去噪和基线校正过程中每一个卷积层中都只有一个卷积核，相比于传统的网络解释性更强，而且更容易监控卷积层的输出，以查看是否达到预期的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种光谱的预处理方法
本专利技术涉及光谱分析方法领域，特别涉及一种光谱的预处理方法。
技术介绍
通过仪器测量得到原始光谱通常都伴有严重的噪声和基线漂移，鉴别时限制了对光谱数据中有用信息的提取，因此，光谱分析过程中通常有较为繁琐的去噪和基线校正的过程。目前大多数的去噪和基线校正的方法均独立于模型，这增加了因预处理不当而造成的模型预测能力下降的风险。同时受待测物质的物理特性(如颗粒度，装填密度和均匀性等)、环境温度和探测器的非线性响应等影响，光谱与待测物质的性质和成分含量存在一定的非线性关系，但是现阶段的大多数光谱定性或定量的校正方法都是线性模型，对于这种非线性关系不能进行较好的表示。现有技术在建立分类模型时，大都是根据经验预设模型参数，这种方法一方面限定了光谱分析的准确性，另一方面根据待分类物质的特性不同，分类模型的参数也需要做调整，因此根据经验值设定的预测模型参数后，只能用于对一些特定物质进行分类，每次在测定不同物质时都需要对分类模型的参数进行重新设定，这不但导致分类模型的通用性差，更重要的是分类模型分类的准确性也很难保证。
技术实现思路
针对现有技术存在的上述问题，本专利技术的目的是一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱的预处理方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：对光谱进行去噪：将光谱输入卷积去噪层C1进行去噪，所述卷积去噪层层C1的输出表示如下：

【技术特征摘要】
1.一种光谱的预处理方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：对光谱进行去噪：将光谱输入卷积去噪层C1进行去噪，所述卷积去噪层层C1的输出表示如下：其中，x1表示卷积去噪层C1的输入，xc1表示卷积去噪层C1的输出，Wc1表示卷积去噪层C1的卷积核权重；Wc1,i是卷积去噪层C1层第i个权重，nc1是...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪明坚，沈东旭，董家林，
申请(专利权)人：重庆大学，
类型：发明
国别省市：重庆,50