【技术实现步骤摘要】
光学滤波器和分光计本申请是申请日为2015年1月29日,申请号为201580010174.9,专利技术名称为“光学滤波器和分光计”的申请的分案申请。
本公开涉及光学部件,并且特别涉及光学滤波器和分光计。背景光学滤波器用于选择射入光的光谱带或光谱分量。例如,高通滤波器选择波长长于该滤波器的边缘波长(edgewavelength)的光。相反,低通滤波器选择波长短于临界波长的光。带通滤波器是不同类型的滤波器,其选择波长接近滤波器的在该滤波器的带宽范围内的中心波长的光。可调谐的带通滤波器是光学滤波器,该可调谐的带通滤波器的中心波长可被调整或调谐。分光计测量射入光的光谱。扫描型分光计可使用一个或多个可调谐的带通滤波器来选择射入光的不同光谱分量。扫描型分光计通过扫描可调谐的带通滤波器的中心波长运行,以便获取光谱。可替换地,多色型分光计使用光学地耦合到检测器阵列的波长分散元件,以便并行检测光谱。然而,传统的光学滤波器和分光计通常是大且笨重的,使得在便携式设备和应用中使用它们成为挑战。鉴于前述内容,可理解,可能存在与光学滤波器和分光计的当前解决方案和技术相关联的重要问题和缺点 ...
【技术保护点】
1.一种光学滤波器,包括:第一薄膜锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的介质上;以及第二薄膜锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的所述介质上,其中,所述第一薄膜锲型干扰涂层沉积在所述介质的第一侧上并且所述第二薄膜锲型干扰涂层相对于光束的光路沉积在所述介质的第二相对侧上,或者所述介质位于所述第一薄膜锲型干扰涂层与所述第二薄膜锲型干扰涂层之间,并且其中所述介质是单个公共基片。
【技术特征摘要】
2014.01.31 US 61/934,5471.一种光学滤波器,包括:第一薄膜锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的介质上;以及第二薄膜锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的所述介质上,其中,所述第一薄膜锲型干扰涂层沉积在所述介质的第一侧上并且所述第二薄膜锲型干扰涂层相对于光束的光路沉积在所述介质的第二相对侧上,或者所述介质位于所述第一薄膜锲型干扰涂层与所述第二薄膜锲型干扰涂层之间,并且其中所述介质是单个公共基片。2.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述第一薄膜锲型干扰涂层是上游薄膜锲型干扰涂层。3.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述光学滤波器包括上游滤波器和下游滤波器,其中,所述上游滤波器包括所述第一薄膜锲型干扰涂层,并且其中,所述下游滤波器包括所述第二薄膜锲型干扰涂层。4.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述介质是在所述第一薄膜锲型干扰涂层与所述第二薄膜锲型干扰涂层之间的具有折射率n的透明介质。5.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述第一薄膜锲型干扰涂层与所述第二薄膜锲型干扰涂层之间的距离L是变化的。6.一种光学滤波器,包括:第一锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的基片上;以及第二锲型干扰涂层,沉积在所述光学滤波器的所述基片上,其中,所述第一锲型干扰涂层沉积在所述基片的第一侧上并且所述第二锲型干扰涂层沉积在所述基片的第二相对侧上,并且其中,所述基片是单个公共基片。7.根据权利要求6所述的光学滤波器,其中,所述光学滤波器包括上游滤波器和下游滤波器,其中,所述上游滤波器包括所述第一锲型干扰涂层,并且其中,所述下游滤波器包括所述第二锲型干扰涂层。8.根据权利要求6所述的光学滤波器,其中,所述第一锲型干扰涂层与所述第二锲型干扰涂层之间存在空间。9.根据权利要求6所述的光学滤波器,还包...
【专利技术属性】
技术研发人员:柯蒂斯·R·胡斯卡,本杰明·F·卡钦斯,保拉·史密斯,
申请(专利权)人:唯亚威通讯技术有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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