【技术实现步骤摘要】
机架系统及其滑轨总成
本专利技术涉及一种用于机架系统的滑轨总成,特别是指一种具有支撑机制可用以支撑一承载物的机架系统或滑轨总成。
技术介绍
一般而言,在一机架系统中,一承载物(如电子设备)通常是通过一对滑轨总成而安装至一机架。其中,每一滑轨总成通常包含一固定轨固定至机架,以及一活动轨可相对该固定轨位移,用以将电子设备自机架内位移至机架外;或者,从机架外将电子设备推入至机架内。其中,有时候因为环境空间或承载物的结构形状的需求,所述活动轨仅能被连接或安装至承载物的特定部位(或局部),因此,如何提升滑轨总成对承载物的支撑可靠度显然成为一项不容忽视的议题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有支撑机制可用以支撑一承载物的机架系统或滑轨总成。根据本专利技术的一观点,一种机架系统包含一机架、一承载物、一第一滑轨总成、一第二滑轨总成及一支撑件。该承载物具有一第一侧与一第二侧,且该承载物包含一前部与一后部,该承载物的前部与后部的第一侧实质上是位于同一平面,以及该承载物的前部与后部的第二侧实质上是位于同一平面,其中,该前部具有一空间,且该前部的第一侧具有一开口连通该空间;该第一滑轨总成与该第二滑轨总成分别安排在该机架的两个位置,且每一滑轨总成包含一第一轨及一第二轨可相对该第一轨位移,该第一滑轨总成的第一轨与该第二滑轨总成的第一轨分别通过一托架能够安装至该机架的一机柱,且该第一滑轨总成的第二轨与该第二滑轨总成的第二轨分别连接至该后部的第一侧与第二侧;该支撑件连接至该托架与该机柱的其中之一;其中,当该第二轨相对该第一轨处于一预定位置时,该支撑件用以支撑该承载物的前部。较佳 ...
【技术保护点】
1.一种机架系统,包含一机架、一承载物、一第一滑轨总成及一第二滑轨总成,其特征在于:所述承载物具有一第一侧与一第二侧,且该承载物包含一前部与一后部,该承载物的前部与后部的第一侧实质上是位于同一平面,以及该承载物的前部与后部的第二侧实质上是位于同一平面,其中,该前部具有一空间,且该前部的第一侧具有一开口连通该空间;所述第一滑轨总成与一第二滑轨总成分别安排在该机架的两个位置,且每一滑轨总成包含一第一轨及一第二轨可相对该第一轨位移,该第一滑轨总成的第一轨与该第二滑轨总成的第一轨分别通过一托架能够安装至该机架的一机柱,且该第一滑轨总成的第二轨与该第二滑轨总成的第二轨分别连接至该后部的第一侧与第二侧;以及一支撑件连接至该托架与该机柱的其中之一;其中,当该第二轨相对该第一轨处于一预定位置时,该支撑件用以支撑该承载物的前部。
【技术特征摘要】
1.一种机架系统,包含一机架、一承载物、一第一滑轨总成及一第二滑轨总成,其特征在于:所述承载物具有一第一侧与一第二侧,且该承载物包含一前部与一后部,该承载物的前部与后部的第一侧实质上是位于同一平面,以及该承载物的前部与后部的第二侧实质上是位于同一平面,其中,该前部具有一空间,且该前部的第一侧具有一开口连通该空间;所述第一滑轨总成与一第二滑轨总成分别安排在该机架的两个位置,且每一滑轨总成包含一第一轨及一第二轨可相对该第一轨位移,该第一滑轨总成的第一轨与该第二滑轨总成的第一轨分别通过一托架能够安装至该机架的一机柱,且该第一滑轨总成的第二轨与该第二滑轨总成的第二轨分别连接至该后部的第一侧与第二侧;以及一支撑件连接至该托架与该机柱的其中之一;其中,当该第二轨相对该第一轨处于一预定位置时,该支撑件用以支撑该承载物的前部。2.根据权利要求1所述的机架系统,其特征在于,所述支撑件包含一支撑部,且该支撑部相对该托架与该机柱的其中之一的高度方向是呈侧向配置,当该第二轨处于该预定位置时,该支撑部用以支撑该承载物的前部的底部。3.根据权利要求2所述的机架系统,其特征在于,所述支撑件还包含一连接部,该连接部实质上相对该支撑部垂直地弯折,且该支撑部通过该连接部连接至该托架与该机柱的其中之一。4.根据权利要求1所述的机架系统,其特征在于,所述支撑件是固定地连接至该托架与该机柱的其中之一。5.根据权利要求1所述的机架系统,其特征在于,所述第一滑轨总成与该第二滑轨总成皆包含一第三轨,该第三轨活动地安装在该第一轨与该第二轨之间,用以延长该第二轨相对该第一轨的位移行程。6.根据权利要求5所述的机架系统,其特征在于,所述第二轨的长度是较短于该第一轨与该第三轨的长度。7.一种滑轨总成,包含一第一轨、一托架及一第二轨,其中,该托架依附至该第一轨,该托架包含一侧墙与至少一安装件位于相邻该侧墙,该第二轨可相对该第一轨位移,该第二轨包含一上墙、一下墙及一纵向墙连接在该上墙与该下墙之间,其特征在于:一支撑件位于该托架,该支撑件包含一支撑部;其中,当该第二轨相对该第一轨处于一收合位置时,该第二轨的一端未超出该支撑件的支撑部。8.根据权利要求7所述的滑轨总成,其特征在于,当该第二轨相对该第一轨处于一延伸位置时,该第二轨包含该端的一部分...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈庚金,杨顺和,郭美佐,王俊强,
申请(专利权)人:川湖科技股份有限公司,川益科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾,71
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