【技术实现步骤摘要】
判断缺陷叠图聚集的方法及其系统
本申请涉及显示器制造
，尤其涉及一种判断缺陷叠图聚集的方法及其系统。
技术介绍
显示器生产过程中，一些缺陷会产生会集中在产品的固定区域内，因此通过对缺陷进行叠图会发现缺陷聚集的趋势，当发现某种缺陷具有聚集趋势时，此类异常需要及时解决，不然将导致后续生产的产品继续出现同样的异常从而导致更大范围的产品缺陷。目前，主要通过人员手动对产品上存在的缺陷进行叠图并观察缺陷叠图的结果来判断是否存在缺陷聚集现象，然而由于人员的失误会导致异常发现不及时问题。因此，有必要提供一种技术方案以解决现有技术由于不能自动化判断缺陷叠图是否存在缺陷聚集现象导致异常发现不及时的问题。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种判断缺陷叠图聚集的方法，以实现自动化地判断缺陷叠图聚集，从而快速地发现缺陷叠图聚集现象。为实现上述目的，技术方案如下。一种判断缺陷叠图聚集的方法，所述判断缺陷叠图聚集的方法包括如下步骤：筛选出缺陷叠图中的缺陷群，所述缺陷叠图是将具有相同缺陷的批次产品的缺陷进行叠图得到的，所述缺陷群中有至少两个所述相同缺陷；若所述缺陷叠图中存在所述相同缺陷的数目...
【技术保护点】
1.一种判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述判断缺陷叠图聚集的方法包括如下步骤：筛选出缺陷叠图中的缺陷群，所述缺陷叠图是将具有相同缺陷的批次产品的缺陷进行叠图得到的，所述缺陷群中有至少两个所述相同缺陷；若所述缺陷叠图中存在所述相同缺陷的数目大于第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为聚集；若所述缺陷叠图中不存在所述相同缺陷的数目大于所述第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为未聚集。
【技术特征摘要】
1.一种判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述判断缺陷叠图聚集的方法包括如下步骤：筛选出缺陷叠图中的缺陷群，所述缺陷叠图是将具有相同缺陷的批次产品的缺陷进行叠图得到的，所述缺陷群中有至少两个所述相同缺陷；若所述缺陷叠图中存在所述相同缺陷的数目大于第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为聚集；若所述缺陷叠图中不存在所述相同缺陷的数目大于所述第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为未聚集。2.根据权利要求1所述的判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述筛选出所述缺陷叠图中的缺陷群包括如下步骤：若所述缺陷叠图中的任意两个缺陷之间的距离小于第二预设值，则所述任意两个缺陷属于同一个缺陷群。3.根据权利要求1所述的判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述判断缺陷叠图聚集的方法还包括追溯缺陷叠图聚集的来源，所述追溯缺陷叠图聚集的来源包括如下步骤：对所述判断为缺陷叠图聚集所对应的批次产品的识别码进行识别，以追溯所述缺陷叠图聚集所对应的批次产品的加工设备，所述识别码记录所述批次产品的缺陷信息，所述加工设备包括单路径机台及反应腔。4.根据权利要求3所述的判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，若所述缺陷叠图聚集所对应的批次产品的加工设备为单路径机台，则从所述缺陷叠图中提取出所述单路径机台所生产的批次产品的缺陷并进行叠图，同时发出所述单路径机台造成缺陷叠图聚集的警报信息；若所述缺陷叠图聚集所对应的批次产品的加工设备为反应室，则从所述缺陷叠图中提取出所述反应室所生产的批次产品的缺陷并进行叠图，并发出所述反应室造成缺陷叠图聚集的警报信息。5.根据权利要求3所述的判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述缺陷信息包括第一类缺陷信息和第二类缺陷信息，所述第一类缺陷信息的所述缺陷叠图需要对至少3个所述批次产品的所述识别码进行识别以得到，所述第二类缺陷信息的所述缺陷叠图需要对至少一个批次产品的所述识别码进行识别以得到。6.一种判断缺陷叠图聚集的系统，其特征在于，所述判断缺陷叠图聚集的系统包括：第一筛选模块，用于筛选出缺陷叠...
【专利技术属性】
技术研发人员：高嵩，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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