一种新型高分子下料机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种新型高分子下料机构，包括机架、设于机架上的基座、设于基座上用于高分子下料的箱体、设于基座下端的两个调整板、设于机架上位于调整板下端的下料辊，所述箱体下端设有出料口，所述基座上设有连通出料口的下料孔，两调整板相互靠近的部位形成下料通道，各调整板上设有条形孔，各调整板通过螺栓锁紧条形孔的方式锁紧于基座上，所述下料辊上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆盖凹坑数量小于五个且大于一个。其解决了现有高分子下料机构高分子容易泄露，高分子下料辊负载大、阻力大的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种新型高分子下料机构
本技术涉及卫生用品领域，尤其涉及一种新型高分子下料机构。
技术介绍
在一次性卫生用品领域，最主要的吸收材料就是高分子，高分子的均匀添加对产品及其总要，直接影响到产品的使用性能，常用的高分子下料机构如图1所示，高分子由下料箱体91进入基座92，然后高分子掉入高分子下料辊93之中，刮刀板94将多余的高分子挡住，通过高分子下料辊93旋转就可以均匀下料了，通过高分子下料辊93旋转快慢来实现高分子的施加量，但是这种结构存在一个问题，就是停机时，高分子会从刮刀片与下料辊之间的缝隙掉落出来，就算将刮刀片与辊贴得很紧，使用一段时间之后，还是会有缝隙，让高分子掉落。存在的另外一个问题就是，高分子与高分子下料辊接触面积很大，导致高分子下料辊负载变大，阻力较大。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种高分子不易跑出、高分子与下料辊接触面积小的新型在下料机构。为达到上述目的，本技术的技术方案是：一种新型高分子下料机构，包括机架、设于机架上的基座、设于基座上用于高分子下料的箱体、设于基座下端的两个调整板、设于机架上位于调整板下端的下料辊，所述箱体下端设有出料口，所述基座上设有连通出料口的下料孔，两调整板相互靠近的部位形成下料通道，各调整板上设有条形孔，各调整板通过螺栓锁紧条形孔的方式锁紧于基座上，所述下料辊上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆盖凹坑数量小于五个且大于一个。优选的，所述箱体内靠近出料口的部位上设有用于限制高分子出料速度的两个导引辊，两导引辊通过伺服电机传动，两导引辊上均匀分布地设有复数个承载凹槽。优选的，两导引辊转动方向相反。优选的，各承载凹槽为弧形凹槽。优选的，各调整板相互靠近的一端分别设有引导高分子下落的倾斜面。优选的，各凹坑为弧形凹坑。上述技术方案具有如下有益效果：本新型高分子下料机构通过两调整板的设置，可以形成可调整的下料通道，即两调整板左右调整，即可实现下料通道的扩大或缩小，即使扩大到最大也只有覆盖五个凹坑，另外通过下料辊上设置凹坑，这样下料通道与下料辊的配合就可以实现较小缝隙，即使下料通道的扩大，缝隙的扩大实际行并不大，即使有高分子漏出，也会存放在凹坑内，而不会掉落。另外，导引辊、承载凹槽、伺服电机的设置，可以实现高分子下料速度的调整，其可以配合下料辊，实现高分子下料的加速与减速，效率更高，而且当停机时，又可以形成阻挡高分子跑出的阻挡装置。另外，倾斜面的设置，可以使得高分子不会滞留在调整板的上表面，使得下料的效果更好。附图说明图1是现有高分子下料机构的结构示意图；图2是本技术的结构示意图；图3是图2的右视图。具体实施方式下面结合附图和具体的实施方式对本技术作进一步详细说明。参考图2、图3所示，本实施例提供一种新型高分子下料机构，包括机架、设于机架上的基座1、设于基座1上用于高分子下料的箱体2、设于基座1下端的两个调整板3、设于机架上位于调整板3下端的下料辊4，所述箱体2下端设有出料口21，所述基座1上设有连通出料口21的下料孔11，两调整板3相互靠近的部位形成下料通道31，各调整板3上设有条形孔32，各调整板3通过螺栓33锁紧条形孔32的方式锁紧于基座1上，所述下料辊4上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑41，所述下料通道31覆盖凹坑41数量为三个，其也可以是两个或四个。所述箱体2内靠近出料口21的部位上设有用于限制高分子出料速度的两个导引辊5，两导引辊5通过伺服电机传动，两导引辊5上均匀分布地设有复数个承载凹槽51。两导引辊5转动方向相反。各承载凹槽51为弧形凹槽。各调整板3相互靠近的一端分别设有引导高分子下落的倾斜面34。各凹坑41为弧形凹坑。本新型高分子下料机构通过两调整板的设置，可以形成可调整的下料通道，即两调整板左右调整，即可实现下料通道的扩大或缩小，即使扩大到最大也只有覆盖五个凹坑，另外通过下料辊上设置凹坑，这样下料通道与下料辊的配合就可以实现较小缝隙，即使下料通道的扩大，缝隙的扩大实际行并不大，即使有高分子漏出，也会存放在凹坑内，而不会掉落。另外，导引辊、承载凹槽、伺服电机的设置，可以实现高分子下料速度的调整，其可以配合下料辊，实现高分子下料的加速与减速，效率更高，而且当停机时，又可以形成阻挡高分子跑出的阻挡装置。另外，倾斜面的设置，可以使得高分子不会滞留在调整板的上表面，使得下料的效果更好。以上仅是本技术一个较佳的实施例，本领域的技术人员按权利要求作等同的改变都落入本案的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型高分子下料机构，其特征在于：包括机架、设于机架上的基座、设于基座上用于高分子下料的箱体、设于基座下端的两个调整板、设于机架上位于调整板下端的下料辊，所述箱体下端设有出料口，所述基座上设有连通出料口的下料孔，两调整板相互靠近的部位形成下料通道，各调整板上设有条形孔，各调整板通过螺栓锁紧条形孔的方式锁紧于基座上，所述下料辊上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆盖凹坑数量小于五个且大于一个。

【技术特征摘要】
1.一种新型高分子下料机构，其特征在于：包括机架、设于机架上的基座、设于基座上用于高分子下料的箱体、设于基座下端的两个调整板、设于机架上位于调整板下端的下料辊，所述箱体下端设有出料口，所述基座上设有连通出料口的下料孔，两调整板相互靠近的部位形成下料通道，各调整板上设有条形孔，各调整板通过螺栓锁紧条形孔的方式锁紧于基座上，所述下料辊上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆盖凹坑数量小于五个且大于一个。2.根据权利要求1所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：所述箱体内靠近...

【专利技术属性】
技术研发人员：林秉正，
申请(专利权)人：泉州市汉威机械制造有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35