一种可改善光学偏移的摄像模组支架制造技术

技术编号:20590965 阅读:50 留言:0更新日期:2019-03-16 07:48
本实用新型专利技术涉及一种可改善光学偏移的摄像模组支架,包括一体模压成型制成的承载平台、外挡墙、内挡墙,所述外挡墙和内挡墙均设置在承载平台的同一侧,所述内挡墙设置在外挡墙的内部,内挡墙的高度小于外挡墙的高度,在承载平台的中部开设有容纳槽,所述容纳槽的底部与内挡墙的顶部保持一致,内挡墙的底部与摄像模组的感光芯片蓝膜区相贴合,所述内挡墙的中部开设有光通孔,所述光通孔与容纳槽相连通,所述外挡墙与内挡墙之间包围一个容纳腔,所述容纳腔与光通孔相连通。本摄像模组支架结构能够有效改善光学偏移,对模组的成像效果和解析力有很大的改善,并且使得模组的一致性良好。

【技术实现步骤摘要】
一种可改善光学偏移的摄像模组支架
本技术涉及摄像模组
,尤其涉及一种小型化摄像模组,具体地说是一种可改善光学偏移的摄像模组支架。
技术介绍
目前常规小型化FF模组采用H/M+AA工艺制作,组装方式主要是先H/M支架,然后通过AA封合镜头组件。由于支架的外形公差、材质、工艺精度等对光学中心偏移影响很大,目前常规的支架设计方案无法改善模组光轴偏移精度,对于模组的解析力也有很大的影响。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构稳定且能够改善光学偏移的适用于小型化摄像模组的支架。为了实现上述目的,本技术采用的技术方案为,一种可改善光学偏移的摄像模组支架,包括一体模压成型制成的承载平台、外挡墙、内挡墙,所述外挡墙和内挡墙均设置在承载平台的同一侧,所述内挡墙设置在外挡墙的内部,内挡墙的高度小于外挡墙的高度,在承载平台的中部开设有容纳槽,所述容纳槽的底部与内挡墙的顶部保持一致,内挡墙的底部与摄像模组的感光芯片蓝膜区相贴合,所述内挡墙的中部开设有光通孔,所述光通孔与容纳槽相连通,所述外挡墙与内挡墙之间包围一个容纳腔,所述容纳腔与光通孔相连通。作为本技术的一种改进,所述内挡墙底部的平面度不超过2°本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可改善光学偏移的摄像模组支架,其特征在于:包括一体模压成型制成的承载平台、外挡墙、内挡墙,所述外挡墙和内挡墙均设置在承载平台的同一侧,所述内挡墙设置在外挡墙的内部,内挡墙的高度小于外挡墙的高度,在承载平台的中部开设有容纳槽,所述容纳槽的底部与内挡墙的顶部保持一致,内挡墙的底部与摄像模组的感光芯片蓝膜区相贴合,所述内挡墙的中部开设有光通孔,所述光通孔与容纳槽相连通,所述外挡墙与内挡墙之间包围一个容纳腔,所述容纳腔与光通孔相连通。

【技术特征摘要】
1.一种可改善光学偏移的摄像模组支架,其特征在于:包括一体模压成型制成的承载平台、外挡墙、内挡墙,所述外挡墙和内挡墙均设置在承载平台的同一侧,所述内挡墙设置在外挡墙的内部,内挡墙的高度小于外挡墙的高度,在承载平台的中部开设有容纳槽,所述容纳槽的底部与内挡墙的顶部保持一致,内挡墙的底部与摄像模组的感光芯片蓝膜区相贴合,所述内挡墙的中部开设有光通孔,所述光通孔与容纳槽相连通,所述外挡墙与内挡墙之间包围一个容纳腔,所述容纳腔与光通孔相连通。2.如权利要求1所述的一种可改善光学偏移的摄像模组支架,其特征在于,所述内挡墙底部的平面度不超过2°,所述外挡墙的内侧壁和光通孔的孔壁均朝内倾斜设置,外挡墙的外侧壁直立设置。3.如权利要求2所述的一种可改善光学偏移的摄像模组支架,其特征在于,所述内...

【专利技术属性】
技术研发人员:王槐程群群钱金波
申请(专利权)人:盐城鸿石智能科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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