相似版图判断方法技术

本发明专利技术公开了一种相似版图判断方法，包括：以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。本发明专利技术通过识别必要子区域的必要图形标识能够避免非必要子区域中非必要图形对相似图形判断的影响，进而提高相似图形识别准确率，并提高相似图形识别效率。

【技术实现步骤摘要】
相似版图判断方法
本专利技术涉及集成电路领域，特别是涉及一种，用于OPC工艺之前的相似版图判断方法。
技术介绍
在先进的光刻工艺中，因曝光图形尺寸的缩小，简单的全局光学临近修正(OPC)也逐渐遇到各种问题。针对特殊图形做不同的OPC成为解决这些问题的关键，而这也往往增加了OPC的出版时间。因此，对OPC前的版图分析成为行业习惯。这种版图分析就是用标准图形库匹配版图，进而检查版图上是否出现已知的图形库图形。高效的图形比对工具可以用较小的特殊图形库检查出大量的图形，而低效的图形比对工具就需要巨大的图形库来检查相同数量的图形。分析低效的图形比对工具的图形库，会发现里面有大量相似的图形，但又不完全一样(某些边，或者某些图形边缘Polygon不一样)。也就是两张相似图形，仅有一条边缘Polygon的差异。如何高效的认为该两张图形是相似图形成为关键技术。现有技术中判断相似图形的有两种常用方法：1)给定Polygon的边一个移动范围，也就是只要边在一定范围内，就认为是相似图形。2)将图形的一定范围内点阵化，一定范围内的点阵匹配值达到一定值就认为是相似图形。现有技术的相似图形识别方法容易产生误判，比如遗漏相似图形。并且，识别判断效率不高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于OPC工艺之前能提高相似版图分辨效率的相似版图判断方法。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，包括以下步骤：1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。其中，所述预设方向是水平和垂直方向。其中，所述预设长度是2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。其中，所述预设长度大于2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。当预设长度大于2倍Pitch，执行步骤2)时，以1倍Pitch作为待分析版图区域的子区域均分长度。其中，所述非必要图形标识和必要图形标识是颜色标识，分别用不同的颜色表示。其中，所述非必要图形标识采用灰色表示，必要图形标识采用绿色表示。本专利技术的相似版图判断方法通过在版图中建立n×n矩阵,划定非必要子区域和必要子区域，通过识别必要子区域的必要图形标识能够避免非必要子区域中非必要图形对相似图形判断的影响，进而提高相似图形识别准确率，识别准确率提高避免了二次识别判断等，因而能进一步提高相似图形识别效率。附图说明下面结合附图与具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明：图1是本专利技术的流程示意图。图2是本专利技术第一实施例示意图一。图3是本专利技术第一具体实施例示意图二。图4是本专利技术第一具体实施例示意图三。图5是本专利技术第一具体实施例示意图四。附图标记说明A、B、C、D是非必要子区域1是非必要图形标识2是必要图形标识具体实施方式如图1所示，本专利技术提供一种相似版图判断方法第一实施例，用于OPC工艺之前的相似版图分析，包括以下步骤：1)如图2所示，以待分析版图几何中心点为起点向水平和垂直方向外扩展2倍Pitch长度，形成待分析版图区域；2)如图3所示，将待分析版图区域在水平和垂直方向分别平均分成4个子区域，形成4×4矩阵；3)如图4所示，将位于4×4矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)如图5所示，对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识,本实施例中填充灰色进行标识。由于附图只能采用黑白线条图，所以采用附图标记1表示灰色标识；5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识，本实施例采用绿色,采用附图标记2表示绿色标识；若图形部分位于非必要子区域内则该图形属于必要子区域，比如部分位于B区域的图形，仅部分位于非必要子区域则该图形划为必要子区域的图形，添加必要图形标识；6)若两幅待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，即采用绿色标识一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。其中，所述预设长度是2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。本专利技术提供一种相似版图判断方法第二实施例，用于OPC工艺之前的相似版图分析，包括以下步骤：1)以待分析版图几何中心点为起点向水平和垂直方向外扩展5倍Pitch长度，形成待分析版图区域；2)将待分析版图区域在水平和垂直方向分别以1倍Pitch作为待分析版图区域的子区域均分长度，分成5个子区域，形成5×5矩阵；3)将位于5×5矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识,本实施例中填充灰色进行标识。5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；6)若两幅待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，即必要图形标识一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。以上通过具体实施方式和实施例对本专利技术进行了详细的说明，但这些并非构成对本专利技术的限制。在不脱离本专利技术原理的情况下，本领域的技术人员还可做出许多变形和改进，这些也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，其特征在于，包括以下步骤：1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。

【技术特征摘要】
1.一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，其特征在于，包括以下步骤：1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。2.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述预设方向是水平和垂直方向。3.如权利要求1所述的相...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴青，陈翰，张辰明，孟鸿林，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31