The present invention relates to a molecular flow injection system and control method based on comparative method for calibrating positive pressure leak holes. A leak detection gas injection system based on dynamic molecular flow injection method and cumulative molecular flow injection method is proposed. After the leak gas has accumulated for a period of time, dynamic comparison and cumulative comparison are realized on a comparative positive pressure leak calibration system. Molecular flow injection of a mass spectrometry method breaks through the key technology of calibrating positive pressure leak mass spectrometry injection by comparative method, and solves the technical problems of mixed gas molecular flow injection and trace He gas accumulation measurement under cumulative condition and in the calibration process of positive pressure leak.
【技术实现步骤摘要】
一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法
本专利技术涉及一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法，属于真空测量
技术介绍
正压漏孔入口是指向大气环境下提供稳定气体流量的装置。漏率小于10-8Pam3/s的正压漏孔在高可靠长寿命电子元器件检漏标定中得到广泛应用，为了保证真空电子器件向大气条件下的泄漏漏率满足产品质量要求，需要对作为参考漏率的正压漏孔定期校准，从而保证真空电子器件标定漏率的正确性。比较法正压漏孔校准方法(基于比较法校准正压漏孔)是利用四级质谱仪作为比较器，通过对漏孔泄漏形成的泄漏混合气体和由标准气体配置的取样混合气体进行测量和比较，进而推算正压漏孔漏率的方法。文献“Twodynamiccomparisonmethodsforcalibratingtherateofpressureleaks”，《Vacuum》1999年53卷第1-2期、第187～191页，提出基于动态比较法的正压漏孔校准装置，校准范围为1×10-2～1×10-7Pam3/s；文献“正压漏孔校准装置”，《真空科学技术学报》2001年21卷第1期、第55～...
【技术保护点】
1.一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统，其特征在于：包括机械泵RP、分子泵TMP、第一真空阀门V1、第二真空阀门V2、第三真空阀门V3、第四真空阀门V4、第五真空阀门V5、第六真空阀门V6、第七真空阀门V7、质谱分析装置VC1、第一真空计G1、第二真空计G2、吸气剂泵NEG、第一分子流进样元件C1、第二分子流进样元件C2和四极质谱仪QMS；其中，机械泵RP分别与第一真空阀门V1的其中一端、第二真空阀门V2的其中一端相连接；第一真空阀门V1的另一端与分子泵TMP的抽气出口相连接；分子泵TMP的抽气入口分别与第一真空计G1、第二真空阀门V2的另一端、第三真空阀门V3的其...
【技术特征摘要】
1.一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统，其特征在于：包括机械泵RP、分子泵TMP、第一真空阀门V1、第二真空阀门V2、第三真空阀门V3、第四真空阀门V4、第五真空阀门V5、第六真空阀门V6、第七真空阀门V7、质谱分析装置VC1、第一真空计G1、第二真空计G2、吸气剂泵NEG、第一分子流进样元件C1、第二分子流进样元件C2和四极质谱仪QMS；其中，机械泵RP分别与第一真空阀门V1的其中一端、第二真空阀门V2的其中一端相连接；第一真空阀门V1的另一端与分子泵TMP的抽气出口相连接；分子泵TMP的抽气入口分别与第一真空计G1、第二真空阀门V2的另一端、第三真空阀门V3的其中一端相连接；第三真空阀门V3的另一端分别与第四真空阀门V4的其中一端、第一分子流进样元件C1的其中一端连接；第四真空阀门V4的另一端和第一分子流进样元件C1的另一端与质谱分析装置VC1相连接；质谱分析装置VC1分别与第五真空阀门V5的其中一端、第二真空计G2、四极质谱仪QMS、第六真空阀门V6的其中一端、第二分子流进样元件C2的其中一端相连接；第五真空阀门V5的另一端与吸气剂泵NEG相连接；第六真空阀门V6的另一端、第二分子流进样元件C2的另一端、第七真空阀门V7的其中一端三者相对接；第七真空阀门V7的另一端对接混合气取样系统。2.根据权利要求1所述的分子流进样系统，其特征在于：还包括恒温箱，所述第四真空阀门V4、第五真空阀门V5、第六真空阀门V6、质谱分析装置VC1、第二真空计G2、吸气剂泵NEG、第一分子流进样元件C1、第二分子流进样元件C2、四极质谱仪QMS所构结构固定设置于恒温箱中。3.根据权利要求1所述的分子流进样系统，其特征在于：所述质谱分析装置VC1的加工过程采用包括清洗、高温退火、镀膜超高真空处理；且使用期间、按预设周期以预设烘烤温度进行整体烘烤除气处理。4.根据权利要求1所述的分子流进样系统，其特征在于：所述第一真空计G1是满量程为1000Torr的电阻式真空规，所述第二真空计G2是满作为副标准的超高真空分离规；且第二真空计G2使用前需要进行除气处理。5.根据权利要求1所述的分子流进样系统，其特征在于：所述第一分子流进样元件C1的结构、尺寸和第二分子流进样元件C2的结构、尺寸彼此相同，均为内壁光滑、直径为5um、厚度为2mm的短管，且该短管的两端的最大承受压力差...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢耀文，刘志宏，杨传森，董云宁，邵壮，
申请(专利权)人：北京东方计量测试研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11
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