A method for forming three-dimensional micro-components is provided, including steps: (i) forming three-dimensional (3D) geometric profiles in photoresist materials by two-photon absorption polymerization, in which the three-dimensional geometric profiles formed in photoresist have been baked to form cross-linked aggregation profiles that limit the outer surface of micro-components; and (i i) applying UV (ultraviolet) aggregation. A process for crosslinking a polymer material with a photoresist adjacent to the three-dimensional geometric profile is described.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】LIGA制造方法
本专利技术涉及一种形成微型部件的方法，特别是，本专利技术涉及利用LIGA形成的微型部件，即利用光刻(Lithographie)、电铸(Galvanoformung)、注塑(Abformung)微型模制工艺。
技术介绍
随着机械设备和部件及电子设备和部件的小型化的来临，对于具有高且一致的尺寸精度和公差的微型部件的制造有着很高的需求。由于利用光刻技术带来的2D(二维)设计的多样性和高制造精度，如已知的，X射线LIGA和UV-LIGA技术可以被认为较普遍地用于制造和生产微型部件。在本领域中，X射线LIGA提供的有利特性包括：高纵横比(约100∶1)，具有高镜面光滑度的直侧壁的部件特性，以及在从数十微米到几毫米的范围中且具有超高分辨率的结构高度。通常，X射线LIGA使用对X射线敏感的聚合物光致抗蚀剂(通常为PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯))来用于聚合物模制工艺。该工艺所需的这种类型的X射线通常提供来自同步加速器辐射源的高能量X射线的平行光束。但是，这样的X射线源不能广泛获得，常被认为异常昂贵并且制造成本高。与X射线LIGA工艺相比，UV-LIGA(紫外LIG...
【技术保护点】
1.一种形成三维微型部件的方法，所述方法包括步骤：(i)利用双光子吸收聚合在光致抗蚀剂材料中形成三维(3D)几何轮廓，其中在形成于光致抗蚀剂中的三维几何部分已被烘烤时，所述三维几何轮廓形成限定微型部件的外表面部分的交联的聚合轮廓，以及(ii)应用UV(紫外)聚合工艺，以使与所述三维几何轮廓相邻的光致抗蚀剂的聚合物材料交联。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种形成三维微型部件的方法，所述方法包括步骤：(i)利用双光子吸收聚合在光致抗蚀剂材料中形成三维(3D)几何轮廓，其中在形成于光致抗蚀剂中的三维几何部分已被烘烤时，所述三维几何轮廓形成限定微型部件的外表面部分的交联的聚合轮廓，以及(ii)应用UV(紫外)聚合工艺，以使与所述三维几何轮廓相邻的光致抗蚀剂的聚合物材料交联。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述三维几何轮廓形成封闭的壳体，在所述封闭的壳体中限定模腔，所述模腔限定用于形成微型部件的形状和几何尺寸，并且所述方法进一步包括步骤：对光致抗蚀剂进行显影，以在所述封闭的壳体中提供模腔，其中通过UV(紫外)聚合方法聚合光致抗蚀剂的步骤使得光致抗蚀剂材料交联以便形成模具，以用于在所述模具中形成所述微型部件。3.根据权利要求2所述的方法，进一步包括步骤：通过电铸工艺在所述模腔中形成微型部件，其中所述微型部件由金属材料或金属合金材料形成。4.根据权利要求3所述的方法，进一步包括步骤：移除所述微型部件周围的光致抗蚀剂，以便暴露所述微型部件。5.根据权利要求1所述的方法，其中在烘烤光致抗蚀剂的步骤(i)之后，在通过UV(紫外)聚合工艺曝光剩余的光致抗蚀剂使得光致抗蚀剂聚合而使所述光致抗蚀剂形成聚合的微型部件的步骤(ii)之前，所述方法进一步包括移除所述三维几何轮廓外部的光致抗蚀剂的步骤。6.一种微型部件，其根据先前权利要求中的任一项所述的方法形成。7.根据权利要求6所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王英男，江争，
申请(专利权)人：动力专家有限公司，
类型：发明
国别省市：中国香港,81
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