一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置制造方法及图纸

本发明专利技术是涉及传感器单晶硅的技术领域，具体是涉及一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置，所述转动柱与反应室转动连接，所述转动柱下平面开设有排管通道，所述圆环板内开设有冷却室，所述冷却室与排管通道连通；所述冷却室内设置有冷却管，所述反应室下端固定连接有支架，所述支架上固定连接有贯穿支架的排水管和进水管，且排水管与进水管伸入排管通道内；所述冷却管的进水口与进水管连通，冷却管的出水口与出水管连通，本发明专利技术具有使用方便、提高刻蚀效果、降温效果好等优点。

A Single Crystal Silicon Etching Device for Sensors with Cooling Function

The invention relates to the technical field of sensor monocrystalline silicon, in particular to a sensor monocrystalline silicon etching device with cooling function. The rotating column is rotationally connected with the reaction chamber, the lower plane of the rotating column is provided with a row pipe channel, the ring plate is provided with a cooling chamber, the cooling chamber is connected with the row pipe channel, and the cooling chamber is provided with a cooling tube, and the reaction chamber is provided with a cooling tube. The lower end of the chamber is fixedly connected with a bracket, and the bracket is fixedly connected with the drainage pipe and the intake pipe through the bracket, and the drainage pipe and the intake pipe extend into the drainage pipe channel; the intake of the cooling pipe is connected with the intake pipe, and the outlet of the cooling pipe is connected with the outlet pipe. The invention has the advantages of convenient use, improved etching effect and good cooling effect.

【技术实现步骤摘要】
一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置
本专利技术是涉及传感器单晶硅的
，具体是涉及一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置。
技术介绍
传感器用单晶硅在加工过程中，均需对其进行刻蚀处理；现有的刻蚀加工过程中，其往往通过将多个单晶硅叠放在片架之上，并通过向片架所在位置导入反应气体，并使得反应气体在电场环境下产生等离子体，以对单晶硅进行刻蚀；片架在刻蚀过程中通常需要进行旋转以增加单晶硅与等离子体的接触均度，现在的传感器单晶硅刻蚀装置过程中，会产生大量的热，如果不能及时的散除热量，就会对单晶硅的刻蚀造成一定的破坏，影响产品的质量，而现有单晶硅刻蚀装置散热效果较弱。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置，用于解决现有的传感器单晶硅刻蚀装置散热能力弱的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术公开了一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置，包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室外侧设置有电磁线圈；所述反应室的轴本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置，包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室外侧设置有电磁线圈；所述反应室的轴线位置设置有片架，所述片架由转动柱与均匀固定连接在转动柱外壁的圆环板组成；其特征在于：所述转动柱与反应室转动连接，所述转动柱下平面开设有排管通道，所述圆环板内开设有冷却室，所述冷却室与排管通道连通；所述冷却室内设置有冷却管，所述反应室下端固定连接有支架，所述支架上固定连接有贯穿支架的排水管和进水管，且排水管与进水管伸入排管通道内；所述冷却管的进水口与进水管连通，冷却管...

【技术特征摘要】
1.一种具有冷却功能的传感器单晶硅刻蚀装置，包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室外侧设置有电磁线圈；所述反应室的轴线位置设置有片架，所述片架由转动柱与均匀固定连接在转动柱外壁的圆环板组成；其特征在于：所述转动柱与反应室转动连接，所述转动柱下平面开设有排管通道，所述圆环板内开设有冷却室，所述冷却室与排管通道连通；所述冷却室内设置有冷却管，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张如根，
申请(专利权)人：蚌埠市龙子湖区金力传感器厂，
类型：发明
国别省市：安徽,34