The utility model provides an anti-corrosion device for an inductance thickness gauge of corroded silicon wafers, which comprises a base, a support, a measuring mechanism and an anti-corrosion mechanism. The measuring mechanism comprises a host computer, an anti-corrosion component and a metal probe connected with the host computer. The host computer is installed on the support, and the anti-corrosion component includes a protective sleeve sleeve and an inductive probe arranged under the protective sleeve sleeve sleeve and integrated with the protective sleeve sleeve. Installation holes are arranged in the protective sleeve, and the protective sleeve is installed on the peripheral surface of the lower end of the metal probe. The inductive probe is arranged along the direction of its central axis. The upper surface of the base is provided with a cylinder and a test disk. The output end of the cylinder is connected with the bottom end of the test disk. The upper surface of the test disk is provided with a convex platform for placing silicon wafers and a number of supporting columns surrounding the convex platform. By installing tetrafluoro support pillars and tetrafluoro anticorrosive components, the corrosion device can prevent acid solution from contacting metal probes and test pans on silicon wafers, thus preventing acid solution from corroding metal probes and test pans.
【技术实现步骤摘要】
一种用于腐蚀硅片电感测厚仪的防腐蚀装置
本技术属于半导体制造
,主要目的是提供一种用于腐蚀硅片电感测厚仪的防腐蚀装置。
技术介绍
在半导体行业中,作为衬底的半导体硅抛光片质量对器件制造工艺、器件质量有重要的影响。特别是随着集成电路(LSI)和超大规模(ULSI)方向发展,对硅片的表面质量、表面晶格的完整性、平整度提出了更高的要求,其中腐蚀片厚度控制直接影响到衬底质量。目前我公司腐蚀工序厚度测量使用的是电感测厚仪,其工作原理为金属探针接触硅片表面来完成测量。由于是在酸腐蚀岗位,所以往往测量硅片厚度时,硅片表面不可避免的会引入稀释的酸溶液,酸溶液会与金属探针产生化学反应,在硅片表面引入金属残留,会在后续的硅片热处理工序产生极大的负面影响。而且经过长期的腐蚀作用,电感测厚仪测量精度会越来越差,直接影响腐蚀岗位的硅片厚度控制,严重情况下,可能导致硅片报废。
技术实现思路
针对现有技术所存在的问题,本技术提出了一种用于腐蚀硅片测厚仪防腐蚀装置,用以对腐蚀硅片厚度进行测量,以解决目前测量硅片中所存在的几个技术难题。本技术为解决上述技术问题采用的技术方案是:一种用于腐蚀硅片电感测厚仪的防腐蚀装置,该装置包括底座、支架、测量机构及防腐机构,所述支架固定设置在所述底座的上表面,测量机构包括主机、防腐组件及与所述主机相连的金属探针,所述主机安装在所述支架上,所述防腐组件包括保护套及设置在所述保护套下方且与所述保护套一体设置的感应探头,所述保护套内设置有用于安装所述金属探针的安装孔,所述安装孔贯穿所述保护套的两端,所述保护套通过安装孔安装在所述金属探针下端的外周面上,所述感应探头 ...
【技术保护点】
1.一种用于腐蚀硅片电感测厚仪的防腐蚀装置,该装置包括底座(1)、支架(2)、测量机构及防腐机构,所述支架(2)固定设置在所述底座(1)的上表面,其特征在于:测量机构包括主机(3)、防腐组件及与所述主机(3)相连的金属探针(4),所述主机(3)安装在所述支架(2)上,所述防腐组件包括保护套(5)及设置在所述保护套(5)下方且与所述保护套(5)一体设置的感应探头(6),所述保护套(5)内设置有用于安装所述金属探针(4)的安装孔(501),所述安装孔(501)贯穿所述保护套(5)的两端,所述保护套(5)通过安装孔(501)安装在所述金属探针(4)下端的外周面上,所述感应探头(6)为圆锥型,所述感应探头(6)沿其中心轴线方向设置有感应通孔(601),所述感应通孔(601)贯穿所述感应探头(6)的两端,所述感应通孔(601)与所述安装孔(501)相连通;所述底座(1)的上表面上设置有气缸(7)及测试盘(8),所述气缸(7)的输出端与所述测试盘(8)的底端相连,所述测试盘(8)的上表面上设置有用于放置硅片的凸台(10)和若干个环绕所述凸台(10)的支撑柱(9),所述凸台(10)的上表面上设有若干 ...
【技术特征摘要】
1.一种用于腐蚀硅片电感测厚仪的防腐蚀装置,该装置包括底座(1)、支架(2)、测量机构及防腐机构,所述支架(2)固定设置在所述底座(1)的上表面,其特征在于:测量机构包括主机(3)、防腐组件及与所述主机(3)相连的金属探针(4),所述主机(3)安装在所述支架(2)上,所述防腐组件包括保护套(5)及设置在所述保护套(5)下方且与所述保护套(5)一体设置的感应探头(6),所述保护套(5)内设置有用于安装所述金属探针(4)的安装孔(501),所述安装孔(501)贯穿所述保护套(5)的两端,所述保护套(5)通过安装孔(501)安装在所述金属探针(4)下端的外周面上,所述感应探头(6)为圆锥型,所述感应探头(6)沿其中心轴线方向设置有感应通孔(601),所述感应通孔(601)贯穿所述感应探头(6)的两端,所述感应通孔(601)与所述安装孔(501)相连通;所述底座(1)的上表面上设置有气缸(7)及测试盘(8),...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩云霄,杨波,张倩,张奇,
申请(专利权)人:麦斯克电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:河南,41
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