以高熵液态合金靶材制作的手机镀膜制造技术

本发明专利技术公开了一种以高熵液态合金(High Entropy Liquid Metal Alloy)靶材溅镀于手机上以制作成手机镀膜，具有高硬度、极强的抗腐蚀及抗氧化能力，且与其底材有良好的附着力，并拥有超高的镀率、高产能与高良率。

Mobile Phone Coating Made of High Entropy Liquid Alloy Target

The invention discloses a high Entropy Liquid Metal Alloy target sputtered on a mobile phone to make a mobile phone coating, which has high hardness, strong corrosion resistance and oxidation resistance, good adhesion with its substrate, and super high plating rate, high production capacity and high yield.

【技术实现步骤摘要】
以高熵液态合金靶材制作的手机镀膜
本专利技术是关于一种手机镀膜，尤其是指一种以高熵液态合金靶材镀着于手机上的手机镀膜。
技术介绍
现有的手机上的金属膜层镀膜遭遇到耐候性与耐刮性的问题。一般强调耐候性佳的手机金属膜则不耐刮擦；而耐刮性好的金属膜则耐候性差，耐候性与耐刮性两者不易兼得。就算是陶瓷镀膜虽能兼具耐候性与耐刮性，但镀膜成色不均，色差大，镀率慢，良率低，常常需要退镀、重镀，制作过程繁琐，因而大增制造成本，不利市场竞争条件，这些都是现有手机镀膜技术的缺点。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术主要目的在于提供一种能够兼具耐候性，耐刮性且镀膜成色均匀，镀率高，良率高的手机镀膜。本专利技术提供的手机镀膜，以高熵液态合金的靶材，以溅镀的方式，将高熵液态合金靶材溅镀于手机的底材或基材上，以制成手机镀膜；其中该高熵液态合金靶材的合金比例采用下例通式，令金属元素混以非金属元素：该金属元素包括：AlaCobCrcCudFeeMnfMogNihTiiWjAgkAulGamSnnZnoZrp；该非金属元素包括：BqCrPsSit，其中各原子百分比各介于下述范围之间：Al(铝)：a＝1~50%；Co(钴)：b＝0~50%；Cr(铬)：c＝0~50%；Cu(铜)：d＝0~70%；Fe(铁)：e＝0~50%；Mn(锰)：f＝1~35%；Mo(钼)：g＝0~35%；Ni(镍)：h＝0~50%；Ti(钛)：i＝0~50%；W(钨)：j＝1~35%；Ag(银)：k＝0~20%；Au(金)：l＝0~30%；Ga(镓)：m＝0~10%；Sn(锡)：n＝0~10%；Zn(锌)：o＝0~20%；Zr(锆)：p＝0~50%；B(硼)：q＝0~20%；C(碳)：r＝0~20%；P(磷)：s＝0~20%；Si(硅)：t＝0~20%；上式中，选出至少5种或多种金属元素，以为高熵合金；并选出多种液态合金元素，加以混合以制成该高熵液态合金靶材。作为其中一具体实施方式，该金属元素与非金属元素包括下式：CrcFeeMogNihCrBqSit，其中，c，e，g，h，r，q及t的原子百分比分别为：c＝15~50%；e＝20~50%；g＝10~30%；h＝0~50%；r＝5~20%；q＝4~20%；t＝1~10%。作为其中一具体实施方式，该金属元素与非金属元素包括下式：CobCrcFeeMogNihTiiWjCrBqSit，其中，b，c，e，g，h，i，j，r，q及t的原子百分比分别为：b＝5~30%；c＝10~35%；e＝10~35%；g＝0~30%；h＝10~35%；i＝5~35%；j＝0~30%；r＝0~20%；q＝0~20%；t＝1~10%。作为其中一具体实施方式，该金属元素与非金属元素包括下式：CrcFeeMogNihCrPsBq，其中︳c，e，g，h，r，s，及q的原子百分比分别为：c＝5~30%；e＝10~30%；g＝5~20%；h＝10~50%；r＝3~15%；s＝5~20%；q＝3~10%。作为其中一具体实施方式，该金属元素与非金属元素包括下式：AgkAlaAulCudGamNihSnnTiiZnoZrpCrBqSit，其中，k，a，l，d，m，h，n，i，o，p，r，q，及t的原子百分比分别为：k＝1~15%；a＝0~15%；l＝0~30%；d＝30~70%；m＝0~10%；h＝1~15%；n＝0~10%；i＝1~35%；o＝0~15%；p＝5~50%；r＝0~10%；q＝0~10%；t＝0~10%。作为优选技术方案，该靶材依下法加以制造：将特定比例的元素材料配好后，使用熔炉熔解混合成熔液，再浇铸至预先准备好的模具内，将其冷却后即得母合金，再依各种规格尺寸加工制成符合不同溅镀设备的靶材。作为优选技术方案，该靶材依下法加以制造：将各元素利用细化或熔射的方法先制成原料粉末，再依特定比例将粉末均匀混合后，将混匀粉末置入预先准备好的模具内，用热压成型或烧结方式直接制作成符合不同溅镀设备的靶材。作为优选技术方案，该靶材是借磁控溅镀，于电场及磁场下，将靶材溅镀到手机底材或基材上，以制成手机镀膜。作为优选技术方案，该手机镀膜的底材为陶瓷、玻璃、金属或合金、塑胶、人造纤维或复合材。为了达到上述目的，本专利技术提供一种以高熵液态合金(HighEntropyLiquidMetalAlloy)当靶材以制作手机镀膜其能集合了高硬度、高强度、高抗蚀性、高耐候性，以及高镀率与高良率的多种优点。附图说明图1为本专利技术利用磁控溅镀的操作示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本专利技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本专利技术的限定。本专利技术的实施宜先制作高熵液态合金(HighEntropyLiquidMetalAlloy，简称HELMA)的靶材，然后再以溅镀(Sputtering)的方式，例如以磁控溅镀(MagnetronSputtering)的方式，于电场及磁场下将HELMA靶材溅镀于手机的底材(Substrate)上，以制成手机镀膜。关于HELMA靶材的合金比例可采用下式令金属元素混以非金属元素，其中a，b，….t表示组成合金中各元素之原子百分比(Atomic%)。合金比例的通式：金属元素(AlaCobCrcCudFeeMnfMogNihTiiWjAgkAulGamSnnZnoZrp)＋非金属元素(BqCrPsSit)，其中：Al(铝)：a＝1~50%；Co(钴)：b＝0~50%；Cr(铬)：c＝0~50%；Cu(铜)：d＝0~70%；Fe(铁)：e＝0~50%；Mn(锰)：f＝1~35%；Mo(钼)：g＝0~35%；Ni(镍)：h＝0~50%；Ti(钛)：i＝0~50%；W(钨)：j＝1~35%；Ag(银)：k＝0~20%；Au(金)：l＝0~30%；Ga(镓)：m＝0~10%；Sn(锡)：n＝0~10%；Zn(锌)：o＝0~20%；Zr(锆)：p＝0~50%；B(硼)：q＝0~20%；C(碳)：r＝0~20%；P(磷)：s＝0~20%；Si(硅)：t＝0~20%。而上式是一广泛的通式，宜自其中选出至少5种或多种元素，以构成高熵合金(HighEntropyAlloy)其内部微组织多为结晶结构，其中各元素的原子百分比介于0%~50%；而以介于5%~35%为宜。并自上式中选出多种液态合金(LiquidMetalAlloy)的元素，该液态合金的内部微组织是非晶态结构(Amorphous)。依本专利技术，令5种以上的元素构成高熵合金(HighEntropyAlloy，HEA)，可有良好的抗匐强度(creepstrength)，良好的抗氧化抗腐蚀性，耐磨，且硬度高，有良好的热安全性与化学安定性。已然有不错的特性，但高熵合金主要为结晶结构其抵抗弹性变型(elasticdeformation)的性质仍逊于非晶态结构(Amorphous)，故本专利技术除高熵合金(HEA)外，尚需佐以液态合金(LiquidMetalAlloy，LMA)，以赋予其更多非晶质特性，此于调配或设计合金中元素成份比例(如原子百分比)时尤为重要。在合金成份比例设计时，可依照原子半径大小，如大、中、小型原子加以掺配，使其原子半径差异在12%以上，以获得较高的堆积本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种手机镀膜，其特征在于，以高熵液态合金的靶材，以溅镀的方式，将高熵液态合金靶材溅镀于手机的底材或基材上，以制成手机镀膜；其中该高熵液态合金靶材的合金比例采用下例通式，令金属元素混以非金属元素：该金属元素包括：AlaCobCrcCudFeeMnfMogNihTiiWjAgkAulGamSnnZnoZrp；该非金属元素包括：BqCrPsSit，其中各原子百分比各介于下述范围之间：Al：a＝1~50%；Co：b＝0~50%；Cr：c＝0~50%； Cu：d＝0~70%；Fe：e＝0~50%；Mn：f＝1~35%； Mo：g＝0~35%；Ni：h＝0~50%；Ti：i＝0~50%； W：j＝1~35%；Ag：k＝0~20%；Au：l＝0~30%； Ga：m＝0~10%；Sn：n＝0~10%；Zn：o＝0~20%； Zr：p＝0~50%；B：q＝0~20%；C：r＝0~20%； P：s＝0~20%；Si：t＝0~20%； 上式中，选出至少5种或多种金属元素，以为高熵合金；并选出多种液态合金元素，加以混合以制成该高熵液态合金靶材。

【技术特征摘要】
1.一种手机镀膜，其特征在于，以高熵液态合金的靶材，以溅镀的方式，将高熵液态合金靶材溅镀于手机的底材或基材上，以制成手机镀膜；其中该高熵液态合金靶材的合金比例采用下例通式，令金属元素混以非金属元素：该金属元素包括：AlaCobCrcCudFeeMnfMogNihTiiWjAgkAulGamSnnZnoZrp；该非金属元素包括：BqCrPsSit，其中各原子百分比各介于下述范围之间：Al：a＝1~50%；Co：b＝0~50%；Cr：c＝0~50%；Cu：d＝0~70%；Fe：e＝0~50%；Mn：f＝1~35%；Mo：g＝0~35%；Ni：h＝0~50%；Ti：i＝0~50%；W：j＝1~35%；Ag：k＝0~20%；Au：l＝0~30%；Ga：m＝0~10%；Sn：n＝0~10%；Zn：o＝0~20%；Zr：p＝0~50%；B：q＝0~20%；C：r＝0~20%；P：s＝0~20%；Si：t＝0~20%；上式中，选出至少5种或多种金属元素，以为高熵合金；并选出多种液态合金元素，加以混合以制成该高熵液态合金靶材。2.如权利要求1的手机镀膜，其特征在于，该金属元素与非金属元素包括下式：CrcFeeMogNihCrBqSit，其中，c，e，g，h，r，q及t的原子百分比分别为：c＝15~50%；e＝20~50%；g＝10~30%；h＝0~50%；r＝5~20%；q＝4~20%；t＝1~10%。3.如权利要求1的手机镀膜，其特征在于，该金属元素与非金属元素包括下式：CobCrcFeeMogNihTiiWjCrBqSit，其中，b，c，e，g，h，i，j，r，q及t的原子百分比分别为：b＝5~30%；c＝10~35%；e＝10~35%；g＝0~30%；h＝1...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈冠维，
申请(专利权)人：态金材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71