一种用于载玻片低残留清洗的存取装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于载玻片低残留清洗的存取装置，包括放置架、限位板、清洗板、喷嘴、滑块、滑槽、支撑架、载玻片、进水管和热风机，所述放置架两侧内壁等距开设有滑槽，所述放置架内部与滑槽同距设置有支撑架，所述支撑架靠近滑槽的两侧对称固定有滑块，所述支撑架通过滑块与放置架滑槽滑动连接，所述放置架与滑槽垂直的两侧固定有限位板，所述限位板等距开设有限位槽，所述放置架侧壁位于底部相邻支撑架之间固定有清洗板，所述清洗板内部开设有蓄水槽，所述蓄水槽一侧与进水管一端连通，该载取装置放置量多，不仅可以对载玻片进行分类放置，而且可以对载玻片进行批量放入取出，还可以对载玻片进行批量清洗和干燥。

An Access Device for Low Residual Cleaning of Glass Slides

The utility model discloses an access device for low residual cleaning of glass slide, which comprises a placement frame, a limit plate, a cleaning plate, a nozzle, a slider, a sliding chute, a support frame, a glass slide, a water inlet pipe and a hot air fan. A sliding chute is arranged on both sides of the placement frame at the same distance as the sliding chute, and a support frame is symmetrically fixed on both sides of the support frame near the sliding chute. A slider is fixed, and the support frame is sliding connected with the sliding chute of the support frame. The two sides of the support frame and the sliding chute are fixed with a finite position plate, the limit plate is equidistantly provided with a finite position slot, the side wall of the support frame is fixed with a cleaning plate between the adjacent support frames at the bottom, and the cleaning plate is internally provided with a water storage tank, and one side of the water storage tank is connected with one end of the intake pipe. The device can not only classify and place the slide, but also put the slide in and out in batches. It can also clean and dry the slide in batches.

【技术实现步骤摘要】
一种用于载玻片低残留清洗的存取装置
本技术涉及实验设备
，具体涉及一种用于载玻片低残留清洗的存取装置。
技术介绍
载玻片是用显微镜观察东西时用来放东西的玻璃片或石英片，制作样本时，将细胞或组织切片放在载玻片上，将盖玻片放置其上，用作观察。在光学上，用于产生相位差的一种类似玻璃材料的薄片，载玻片是在实验时用来放置实验材料的玻璃片，呈长方形，大小为76×26mm，较厚，透光性较好。现有的载玻片放置装置一般为放置盒，不能对使用过后的载玻片进行清洗，为此，我们提出了一种用于载玻片低残留清洗的存取装置；对载玻片的拿取存储不太方便，而且放置数量也不是很多，对载玻片不能分类放置。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术的不足，而提供一种结构简单、成本低、便于存放、便于清洗的载玻片架，包括放置架、限位板、清洗板、喷嘴、滑块、滑槽、支撑架、载玻片、进水管和热风机，所述放置架两侧内壁均等距开设有滑槽，所述放置架内部与滑槽同距设置有支撑架，所述支撑架的两侧对称固定有滑块，所述支撑架通过滑块与放置架滑槽滑动连接，所述支撑架顶部对称固定有限位板，所述限位板顶部等距开设有限位槽，所述放置架侧壁位于底部相邻支撑架之间固定有清洗板，所述清洗板内部开设有蓄水槽，所述蓄水槽一侧与进水管一端连通，且进水管另一端穿过支撑架侧壁裸露在空气中，所述清洗板底部等距固定有喷嘴，且喷嘴顶部与蓄水槽连通，所述放置架两侧外壁位于清洗板底部对称固定有热风机，所述热风机的出风口穿过放置架侧壁裸露在放置架内部，所述放置架底部内壁开设有引流槽，所述放置架位于引流槽一侧开设有排水孔，所述排水孔与引流槽一端相连通。作为优选，所述热风机的出风口处设置有过滤网。作为优选，所述放置架侧壁位于清洗板上方等距固定有标识牌。作为优选，所述支撑架与滑块垂直的一侧固定有拉把。作为优选，所述放置架底部固定有防震垫。本技术的有益效果是：与现有技术相比，本技术的有益效果如下:1、本技术首先拉动拉把，使支撑架上的滑块在滑槽内滑动，从而把限位板从放置架内拉出，把需要放置的载玻片放入限位槽内，不同的载玻片可以根据标识牌来区分，放在不同的限位板内，当需要清洗时，把支撑架拉出，放入清洗板下方，使滑块与清洗板下方滑槽滑动连接，推入放置架内，在通过进水管排入水，通过喷嘴喷出清水清洗载玻片，清洗完成时打开热风机，通过热风对载玻片进行加速干燥，清洗过的水流会通过引流槽流入排水孔出。2、本技术在放置架上的滑槽与支撑架上的滑块滑动连接，便于支撑架上的载玻片批量取出和放入。附图说明本技术将通过例子并参照附图的方式说明，其中：图1是本技术的整体结构主视图；图2是本技术的左视剖视图；图3是本技术的整体结构示意图；图4是本技术的俯视剖视图；图5是本技术的俯视剖视图。图中：1、放置架；2、限位板；3、限位槽；4、清洗板；5、喷嘴；6、滑块；7、滑槽；8、支撑架；9、引流槽；10、排水孔；11、载玻片；12、进水管；13、蓄水槽；14、热风机；15、过滤网；16、标识牌；17、拉把；18、防震垫。具体实施方式本说明书中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。如图1-图5所示的一种用于载玻片低残留清洗的存取装置，包括放置架1、限位板2、清洗板4、喷嘴5、滑块6、滑槽7、支撑架8、载玻片11、进水管12和热风机14，所述放置架1两侧内壁均等距开设有滑槽7，所述放置架1内部与滑槽7同距设置有支撑架8，所述支撑架8的两侧对称固定有滑块6，所述支撑架8通过滑块6与放置架1滑槽7滑动连接，所述支撑架8顶部对称固定有限位板2，所述限位板2顶部等距开设有限位槽3，所述放置架1侧壁位于底部相邻支撑架8之间固定有清洗板4，所述清洗板4内部开设有蓄水槽13，所述蓄水槽13一侧与进水管12一端连通，且进水管12另一端穿过支撑架8侧壁裸露在空气中，所述清洗板4底部等距固定有喷嘴5，且喷嘴5顶部与蓄水槽13连通，所述放置架1两侧外壁位于清洗板4底部对称固定有热风机14，所述热风机14的出风口穿过放置架1侧壁裸露在放置架1内部，所述放置架1底部内壁开设有引流槽9，所述放置架1位于引流槽9一侧开设有排水孔10，所述排水孔10与引流槽9一端相连通，所述热风机14的出风口处设置有过滤网15，防止空气中灰尘进入影响清洗，所述放置架1侧壁位于清洗板4上方等距固定有标识牌16，便于区分不同的载玻片11，所述支撑架8与滑块6垂直的一侧固定有拉把17，方便来回拉动，使用时更加方便，所述放置架1底部固定有防震垫18，防止震动，减少对载玻片11的损坏。本具体实施方式的工作原理为：首先拉动拉把，使支撑架8上的滑块6在滑槽7内滑动，从而把限位板2从放置架1内拉出，把需要放置的载玻片11放入限位槽3内，不同的载玻片11可以根据标识牌来区分，放在不同的限位板2内，当需要清洗时，把支撑架8拉出，放入清洗板4下方，使滑块6与清洗板4下方滑槽7滑动连接，推入放置架1内，在通过进水管12排入水，通过喷嘴5喷出清水清洗载玻片11，清洗完成时打开热风机14，通过热风对载玻片11进行加速干燥，清洗过的水流会通过引流槽9流入排水孔10出。本技术并不局限于前述的具体实施方式。本技术扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于载玻片低残留清洗的存取装置，包括放置架(1)、限位板(2)、清洗板(4)、喷嘴(5)、滑块(6)、滑槽(7)、支撑架(8)、载玻片(11)、进水管(12)和热风机(14)，其特征在于：所述放置架(1)两侧内壁均等距开设有滑槽(7)，所述放置架(1)内部与滑槽(7)同距设置有支撑架(8)，所述支撑架(8)的两侧对称固定有滑块(6)，所述支撑架(8)通过滑块(6)与放置架(1)滑槽(7)滑动连接，所述支撑架(8)顶部对称固定有限位板(2)，所述限位板(2)顶部等距开设有限位槽(3)，所述放置架(1)侧壁位于底部相邻支撑架(8)之间固定有清洗板(4)，所述清洗板(4)内部开设有蓄水槽(13)，所述蓄水槽(13)一侧与进水管(12)一端连通，且进水管(12)另一端穿过支撑架(8)侧壁裸露在空气中，所述清洗板(4)底部等距固定有喷嘴(5)，且喷嘴(5)顶部与蓄水槽(13)连通，所述放置架(1)两侧外壁位于清洗板(4)底部对称固定有热风机(14)，所述热风机(14)的出风口穿过放置架(1)侧壁裸露在放置架(1)内部，所述放置架(1)底部内壁开设有引流槽(9)，所述放置架(1)位于引流槽(9)一侧开设有排水孔(10)，所述排水孔(10)与引流槽(9)一端相连通。...

【技术特征摘要】
1.一种用于载玻片低残留清洗的存取装置，包括放置架(1)、限位板(2)、清洗板(4)、喷嘴(5)、滑块(6)、滑槽(7)、支撑架(8)、载玻片(11)、进水管(12)和热风机(14)，其特征在于：所述放置架(1)两侧内壁均等距开设有滑槽(7)，所述放置架(1)内部与滑槽(7)同距设置有支撑架(8)，所述支撑架(8)的两侧对称固定有滑块(6)，所述支撑架(8)通过滑块(6)与放置架(1)滑槽(7)滑动连接，所述支撑架(8)顶部对称固定有限位板(2)，所述限位板(2)顶部等距开设有限位槽(3)，所述放置架(1)侧壁位于底部相邻支撑架(8)之间固定有清洗板(4)，所述清洗板(4)内部开设有蓄水槽(13)，所述蓄水槽(13)一侧与进水管(12)一端连通，且进水管(12)另一端穿过支撑架(8)侧壁裸露在空气中，所述清洗板(4)底部等距固定有喷嘴(5)，且喷嘴(5)顶部与蓄水槽(13)连通，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴中祥，
申请(专利权)人：盐城市弘达医学器材有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32