一种新型光刻胶显影装置及显影方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种新型光刻胶显影装置，包括基台固定架、光刻胶板固定架、显影液罐、超纯水罐、缓存槽以及液体流通口；所述显影液罐、超纯水罐选择性的与所述缓冲槽连通，所述缓冲槽内的液体通过液体流通口与外部连通；所述液体流通口位于光刻胶固定架上方，显影工艺是通过显影液与光刻胶发生化学反应而生成纹理图案，由于本装置显影时显影液均匀的流过光刻胶表面，避免了显影不均匀和光刻图案上残留气泡的问题，提高了产品的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种新型光刻胶显影装置及显影方法
本专利技术属于显影装置
，具体地说是涉及一种新型光刻胶显影装置及显影方法。
技术介绍
光刻是现代微纳加工技术中的重要一环，作为光刻后的一道重要工艺，如何完美无瑕疵的在光刻胶板上呈现出光刻图案是显影工艺追求的目标。传统的显影工艺采用将光刻板放入显影盆，静止或手摇的方式显影，静止显影存在显影可能不完全的问题，手摇显影存在手摇速度不稳定，导致显影不均的问题。且都有可能在显影过程中在图案区产生气泡。综上所述，为解决光刻胶板的显影问题，本专利技术涉及了一种简易的光刻胶板显影装置及方法，使光刻胶板的显影方便易操作，同时由于显影时显影液均匀接触光刻胶板，避免了传统显影方法时显影不均匀和光刻图案上残留气泡的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种新型光刻胶显影装置及显影方法，其可以方便的进行光刻胶板的显影操作，有效避免传统显影方法显影不均匀和光刻图案上残留气泡的问题。为解决上述技术问题，本专利技术的目的是这样实现的：一种新型光刻胶显影装置，包括基台固定架、光刻胶板固定架、显影液罐、超纯水罐、缓存槽以及液体流通口；所述显影液罐、超纯水罐选择性的与所述缓冲槽连本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型光刻胶显影装置，其特征在于：包括基台固定架(1)、光刻胶板固定架(2)、显影液罐(4)、超纯水罐(5)、缓存槽(8)以及液体流通口(7)；所述显影液罐(4)、超纯水罐(5)选择性的与所述缓冲槽(8)连通，所述缓冲槽(8)内的液体通过液体流通口(7)与外部连通；所述液体流通口(7)位于光刻胶固定架(2)上方。

【技术特征摘要】
1.一种新型光刻胶显影装置，其特征在于：包括基台固定架(1)、光刻胶板固定架(2)、显影液罐(4)、超纯水罐(5)、缓存槽(8)以及液体流通口(7)；所述显影液罐(4)、超纯水罐(5)选择性的与所述缓冲槽(8)连通，所述缓冲槽(8)内的液体通过液体流通口(7)与外部连通；所述液体流通口(7)位于光刻胶固定架(2)上方。2.根据权利要求1所述的一种新型光刻胶显影装置，其特征在于：所述显影液罐(4)、超纯水罐(5)与所述缓冲槽(8)的连通通路中设置有液体流量阀(6)。3.根据权利要求1所述的一种新型光刻胶显影装置，其特征在于：所述光刻胶板固定架(2)由第一光刻胶板固定杆(21)、第一固定杆导向架(22)、第二光刻胶板固定杆(23)、第二固定杆导向架(24)、第三光刻胶板固定杆(25)、第三固定杆导向架(26)依次连接后围合成矩形状，所述第一光刻胶板固定杆(21)、第二光刻胶板固定杆(23)、第三光刻胶板固定杆(25)的内侧均开设有固定卡槽，光刻胶板的边缘被接纳在所述固定卡槽内。4.根据权利要求3所述的一种新型光刻胶显影装置，其特征在于：还包括锁紧机构(3)，所述第一固定杆导向架(22)、第二固定杆导向架(24)、第三固定杆导向架(26)开设有导向槽，所述第一光刻胶板固定杆(21)、第二光刻胶板固定杆(23)、第三光刻胶板固定杆(25)可分别在其连接端的所述第一固定杆导向架(22)、第二固定杆导向架(24)、第三固定杆导向架(26)内的导向槽内滑动，所述锁紧机构(3)可选择性的限制所述第一固定杆导向架(22)、第二固...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晓龙，姚俊俊，
申请(专利权)人：上海彩丞新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31