成膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种成膜装置。该成膜装置具备：蒸镀源，用于使蒸镀材料蒸发；和防附着板，包括本体部，所述本体部覆盖在所述蒸镀源的上方并具有开口部，所述开口部用于露出所述蒸镀源的至少一部分；其特征在于，所述防附着板还包括立壁，所述立壁自所述本体部向上立起。根据该实用新型专利技术，能够利用防附着板的立壁来防止蒸镀材料的颗粒落到蒸镀源的坩埚中而污染坩埚中的蒸镀材料。

Film forming device

The utility model provides a film forming device. The film forming device has: a vaporizing source for evaporating the evaporating plating material; and an anti-attachment plate, including a body part, which covers the top of the vaporizing source and has an opening part, which is used to expose at least a part of the vaporizing source; and the characteristics of the anti-attachment plate include a vertical wall, which rises upward from the body part. According to the utility model, the vertical wall of the anti-attachment plate can be used to prevent the particles of the evaporation material from falling into the crucible of the evaporation source and polluting the evaporation material in the crucible.

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本技术涉及一种成膜装置，具体涉及一种利用防附着板的立壁来防止蒸镀材料的颗粒下落到蒸镀源的坩埚中的成膜装置。
技术介绍
真空蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料并使之气化，粒子飞至基板表面凝聚成膜的方法。当今，各类轻薄终端屏幕的主要选材是OLED(有机发光二极管)，而OLED生产过程最重要的一环就是“真空蒸镀”，其工艺难度极高，对精度的要求也极为苛刻。一般而言，真空蒸镀装置具备真空腔。在真空腔的内部的上部设有基板保持单元和掩模台，在真空腔的底面设有蒸镀源。蒸镀源包括：用于收纳在基板上成膜的蒸镀材料的坩埚、加热器、防附着板、蒸发挡板等。蒸镀源一般以能够旋转的方式在真空腔的底面设置多个，各蒸镀源包括多个坩埚。每个蒸镀源由旋转驱动机构驱动而旋转，能够使坩埚移动到所要求的位置。多个坩埚以能够公转的方式配置的蒸镀源被称为旋转型蒸镀源(revolver)。防附着板配置在坩埚和蒸发挡板之间，并具有与处于蒸镀位置的坩埚相向的开口部。在具有旋转型蒸镀源的蒸镀装置中，在对蒸镀源中的蒸镀材料进行加热使其气化从而在基板成膜时，坩埚的蒸发挡板打开，气化后的蒸镀材料通过防附着板的开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置(2)，具备：蒸镀源(23)，用于使蒸镀材料蒸发；和防附着板(25)，包括本体部(31)，所述本体部(31)覆盖在所述蒸镀源(23)的上方并具有开口部(311)，所述开口部(311)用于露出所述蒸镀源(23)的至少一部分；其特征在于，所述防附着板(25)还包括立壁(30)，所述立壁(30)自所述本体部(31)向上立起。

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置(2)，具备：蒸镀源(23)，用于使蒸镀材料蒸发；和防附着板(25)，包括本体部(31)，所述本体部(31)覆盖在所述蒸镀源(23)的上方并具有开口部(311)，所述开口部(311)用于露出所述蒸镀源(23)的至少一部分；其特征在于，所述防附着板(25)还包括立壁(30)，所述立壁(30)自所述本体部(31)向上立起。2.根据权利要求1所述成膜装置(2)，其特征在于，所述立壁(30)设置在所述开口部(311)的边缘。3.根据权利要求1所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述立壁(30)与所述本体部(31)一体成型。4.根据权利要求1所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述立壁(30)的高度为自所述本体部(31)起30mm以上。5.根据权利要求1-4中任一项所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述蒸镀源(23)为多个坩埚以能够公转的方式配置的旋转型蒸镀源，具有用于对蒸镀材料进行预加热的第一加热位置(237)和用于对预加热后的蒸镀材料进行主加热的第二加热位置(232)；所述立壁(30)包括第一壁(30a)，其中，所述第一壁(30a)位于所述第一加热位置(237)和所述第二加热位置(232)之间。6.根据权利要求5所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述防附着板(25)还包括第一防附着部(251a)，所述第一防附着部(251a)与所述第一加热位置(237)相对应，并且相对于所述本体部(31)向上凸起。7.根据权利要求6所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述蒸镀源(23)具有用于对主加热后的蒸镀材料进行冷却的冷却位置(234)；所述立壁(30)包括第二壁(30b)，其中，所述第二壁(30b)位于所述第二加热位置(232)和所述冷却位置(234)之间。8.根据权利要求7所述的成膜装置(2)，其特征在于，所述防附着板(25)还包括第二防附着部(25...

【专利技术属性】
技术研发人员：石野俊树，相泽雄树，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP