工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置制造方法及图纸

本申请提供一种工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。所述工艺设备维护方法包括控制器获取通过设备观察窗的光通量数值。所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。本申请的所述工艺设备维护方法应用在真空镀膜设备中，可以实时获取所述设备观察窗的光通量数值，通过所述设备观察窗的光通量的下降情况来监控所述设备观察窗是否需要清理，检测结果更准确，从而有效避免对真空腔室的破空检测，提高了工艺设备中产品的良率，延长了设备运行时间。

【技术实现步骤摘要】
工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置
本申请涉及工业生产工艺检测
，特别是涉及工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。
技术介绍
随着经济迅速发展，工业化水平不断前进，在工业生产中使用的设备正朝着大型化、复杂化、精密化以及智能化的方向迈进。针对真空镀膜设备中存在设备观察窗污染的现象，传统的方法是通过真空腔体内基片是否存在的检测，来判定设备观察窗是否已经被污染。一旦设备观察窗被污染，将无法检测到真空腔体内基片的存在及位置信息，导致整个基片传送系统故障，甚至会导致当前工艺停止，造成整个工艺室内的基片成为废片。基于传统的检测方法，对真空镀膜设备无法检测到真空腔体内基片的存在及位置信息时，都需要对真空镀膜设备的整机破空检测，破空检测后进行设备观察窗清理或更换，再将真空腔室恢复至真空状态。传统的检测方法检测结果不够准确，对设备的维护时间需要很长，而且向真空腔室内充气容易污染腔室环境，对恢复工艺环境有很大的影响。
技术实现思路
基于此，有必要针对传统的检测方法检测结果不准确，设备维护时间长的问题，提供一种工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。本申请实施例提供了一种工艺设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工艺设备维护方法，其特征在于，包括：控制器获取通过设备观察窗的光通量数值，其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取；若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

【技术特征摘要】
1.一种工艺设备维护方法，其特征在于，包括：控制器获取通过设备观察窗的光通量数值，其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取；若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。2.如权利要求1中所述的工艺设备维护方法，其特征在于，还包括：所述控制器获取所述光通量数值的持续时间；若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值的持续时间大于或等于预设持续时间，则所述控制器判断所述光通量数值是否小于光通量设备停运阈值；其中，所述光通量设备维护阈值大于或等于所述光通量设备停运阈值；若所述光通量数值小于或等于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。3.如权利要求2中所述的工艺设备维护方法，其特征在于，还包括：若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值且大于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器以预设调整值减小所述光通量设备维护阈值，并返回判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值的步骤。4.如权利要求3中所述的工艺设备维护方法，其特征在于，还包括：当所述光通量设备维护阈值减小至等于所述光通量设备停运阈值时，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。5.如权利要求2所述的工艺设备维护方法，其特征在于，还包括：所述控制器将所述设备观察窗待清理的控制指令以及所述设备停止运行的控制指令传输至显示器，以供所述显示器显示。6.如权利要求2或4中所述的工艺设备维护方法，其特征在于，还包括：在所述设备停止运行之后，所述控制器发出所述设备观察窗待更换的控制指令。7.如权利要求1所述的工艺设备维护方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11