一种适用于染色机的玻片放置框架制造技术

本实用新型专利技术提供了一种适用于染色机的玻片放置框架，包括框架本体、玻片支撑机构及导流机构；导流机构及支撑机构均设置在框架本体内壁，玻片支撑机构设置在导流机构下方；框架本体内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽，每一内清理凹槽均设置在玻片支撑机构下方，框架本体外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽，每一外清理凹槽均与导流机构连通，内清理凹槽及外清理凹槽内均设有吸水性材料。本实用新型专利技术所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，解决了由于传统全自动染色机工作过程中，因其机械臂提拉玻片容易把试剂或染液低落在机器内部，造成机器内部的污染盒脏乱，容易引起环境的部卫生和后期清洁打扫的不方便。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于染色机的玻片放置框架
本技术属于生物
，尤其是涉及一种适用于染色机的玻片放置框架。
技术介绍
随着医学技术的快速发展和自动化仪器应用的普及，病理常规染色从繁琐的人工染色发展到全自动染色机的批量产出。全自动组织切片染色机，避免了人工染色中的随意性、工作效率低、质量不稳定等因素的影响，逐渐为各大医院和医疗组织所接受并使用。传统全自动染色机应用于常规苏木伊红染色及细胞学涂片的巴士染色，因其机械臂提拉玻片过程中，容易把试剂或染液低落在机器内部，造成机器内部的污染盒脏乱，容易引起环境的部卫生和后期清洁打扫的不方便。
技术实现思路
有鉴于此，本技术旨在提出一种适用于染色机的玻片放置框架，解决了由于传统全自动染色机工作过程中，因其机械臂提拉玻片容易把试剂或染液低落在机器内部，造成机器内部的污染盒脏乱，容易引起环境的部卫生和后期清洁打扫的不方便。为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：一种适用于染色机的玻片放置框架，包括框架本体、玻片支撑机构及导流机构；所述导流机构及支撑机构均设置在框架本体内壁，玻片支撑机构设置在所述导流机构下方；所述框架本体内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：包括框架本体(101)、玻片支撑机构及导流机构；所述导流机构及支撑机构均设置在框架本体(101)内壁，玻片支撑机构设置在所述导流机构下方；所述框架本体(101)内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽(103)，每一所述内清理凹槽(103)均设置在所述玻片支撑机构下方，所述框架本体(101)外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽(104)，每一所述外清理凹槽(104)均与所述导流机构连通，所述内清理凹槽(103)及外清理凹槽(104)内均设有吸水性材料。

【技术特征摘要】
1.一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：包括框架本体(101)、玻片支撑机构及导流机构；所述导流机构及支撑机构均设置在框架本体(101)内壁，玻片支撑机构设置在所述导流机构下方；所述框架本体(101)内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽(103)，每一所述内清理凹槽(103)均设置在所述玻片支撑机构下方，所述框架本体(101)外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽(104)，每一所述外清理凹槽(104)均与所述导流机构连通，所述内清理凹槽(103)及外清理凹槽(104)内均设有吸水性材料。2.根据权利要求1所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：所述框架本体(101)为空心矩形，所述框架本体(101)上下均不设有顶盖。3.根据权利要求2所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：所述玻片支撑机构包括四个玻片支撑板(201)，四个所述玻片支撑板(201)分别设置在所述框架本体(101)内壁的四个棱角处。4.根据权利要求3所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：所述导流机构包括四个导流槽(102)，四个所述导流槽(102)分别设置在所述框架本体...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔颖，张晓峰，郭美芝，景燕平，张子秀，
申请(专利权)人：中检科健天津检验检测有限责任公司，
类型：新型
国别省市：天津,12