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本实用新型提供了一种适用于染色机的玻片放置框架，包括框架本体、玻片支撑机构及导流机构；导流机构及支撑机构均设置在框架本体内壁，玻片支撑机构设置在导流机构下方；框架本体内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽，每一内清理凹槽均设置在玻片支撑机构...
该专利属于中检科健（天津）检验检测有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过中检科健（天津）检验检测有限责任公司授权不得商用。

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