一种预制棒沉积反应室制造技术

本实用新型专利技术公开一种预制棒沉积反应室，包括反应室，反应室内装置待沉积加工的靶棒，反应室的侧壁上设置了由沿靶棒轴向排布的若干喷灯构成的喷灯组，在喷灯组所在的反应室的侧壁上设置了进风口，进风口在喷灯组两侧各设置有一个，在喷灯组对侧的反应室的侧壁上设置了排废管道，在喷灯组所在的反应室内壁上设置了导流板一，导流板一在喷灯组两侧各设置有一个并位于喷灯组与进风口之间。本实用新型专利技术利用导流板一挡住从进风口进入的气流，空气中的杂质不会携带进喷灯喷出的火焰中，气流影响不到喷灯喷出的火焰方向，保障喷灯火焰的稳定性，也避免气流将水解反应生成的SiO2粉尘携带走而从排废管道排出，有效提高沉积效率。

【技术实现步骤摘要】
一种预制棒沉积反应室
本技术涉及光纤制造设备
，尤其涉及一种预制棒沉积反应室。
技术介绍
近年来，光纤预制棒的制造仍面临着巨大压力，原材料、能源、人力资源等成本迅速增加，预制棒价格也呈现逐年下降趋势，为了降低其预制棒制造成本最有效的解决方式是预制棒尺寸大型化工艺开发。目前，生产大尺寸预制棒主要分两个技术路线，一种RIC套管技术，一种是多喷灯OVD技术。多喷灯OVD设备主要采用横向与纵向两种方式，为了提高反应室内的环境洁净度采用了对空气进行过滤并采用主动送风方式实现。现有的多喷灯OVD沉积反应室的难以保障喷灯火焰的稳定性，气流容易使得水解反应生成的SiO2粉尘在喷灯周边、反应室左右两壁堆积，原料浪费严重，沉积效率低。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题和提出的技术任务是对现有技术进行改进，提供一种预制棒沉积反应室，解决目前技术中的沉积反应室的气流难以稳定喷灯火焰，容易使得SiO2粉尘堆积在反应室内，沉积效率低的问题。为解决以上技术问题，本技术的技术方案是：一种预制棒沉积反应室，包括反应室，所述的反应室内装置待沉积加工的靶棒，其特征在于，所述的反应室的侧壁上设置了由沿靶棒轴向排布的若干本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种预制棒沉积反应室，包括反应室(1)，所述的反应室(1)内装置待沉积加工的靶棒(2)，其特征在于，所述的反应室(1)的侧壁上设置了由沿靶棒(2)轴向排布的若干喷灯(31)构成的喷灯组(3)，在喷灯组(3)所在的反应室(1)的侧壁上设置了进风口(4)，所述进风口(4)在喷灯组(3)两侧各设置有一个，在喷灯组(3)对侧的反应室(1)的侧壁上设置了排废管道(5)，在喷灯组(3)所在的反应室(1)内壁上设置了导流板一(6)，所述的导流板一(6)在喷灯组(3)两侧各设置有一个并位于喷灯组(3)与进风口(4)之间。

【技术特征摘要】
1.一种预制棒沉积反应室，包括反应室(1)，所述的反应室(1)内装置待沉积加工的靶棒(2)，其特征在于，所述的反应室(1)的侧壁上设置了由沿靶棒(2)轴向排布的若干喷灯(31)构成的喷灯组(3)，在喷灯组(3)所在的反应室(1)的侧壁上设置了进风口(4)，所述进风口(4)在喷灯组(3)两侧各设置有一个，在喷灯组(3)对侧的反应室(1)的侧壁上设置了排废管道(5)，在喷灯组(3)所在的反应室(1)内壁上设置了导流板一(6)，所述的导流板一(6)在喷灯组(3)两侧各设置有一个并位于喷灯组(3)与进风口(4)之间。2.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室，其特征在于，所述的导流板一(6)在喷灯(31)的喷射方向上的长度不超过喷灯(31)的喷射口部。3.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室，其特征在于，所述的导流板一(6)距离喷灯(31)的侧边100～150mm...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海斌，李应，王小辉，陈剑，兰兴玲，陈强，李秀鹏，
申请(专利权)人：成都富通光通信技术有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51