一种真空镀膜机的离子源控制器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜机的离子源控制器，包括底座，所述底座的顶部一侧放置有离子源控制器本体，所述底座的顶部另一侧焊接有立柱，所述立柱与离子源控制器本体之间设有焊接在底座顶部的限位杆，所述离子源控制器本体的一侧固定安装有安装板，所述安装板活动套设在限位杆上，所述安装板的一侧与立柱靠近离子源控制器本体的一侧相接触，所述安装板的另一侧开设有滑槽，所述滑槽内设有水平设置的滑杆，所述滑杆的一端焊接有竖杆。本实用新型专利技术设计合理，结构简单，操作方便，能够快速的对离子源控制器本体进行安装，且便于调节并固定离子源控制器本体的高度，以方便人们操控离子源控制器本体，有利于人们使用。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的离子源控制器
本技术涉及真空镀膜机
，尤其涉及一种真空镀膜机的离子源控制器。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。经检索，申请号为201010194038.9的专利文件公开了一种电子轰击离子源控制系统，包括上位机和第一灯丝，所述上位机分别连有离子源加热模块和离子源温度反馈模块，所述离子源加热模块的HT+端连接有一加热棒用于加热离子源，所述离子源温度反馈模块的PT+端连接有一铂电阻，用于感测离子源的温度，所述离子源加热模块采用的是PWM(脉宽调制)方式控制电压输出，输出电压值可以从0-24V线性可调。该电子轰击离子源控制系统使得电子轰击离子源的控制变得简单，只需主控板给一个设定值，就可以自动将离子源的各项状态调整到最佳状态，避免了灯丝老化，温度跳变等因素的对信号稳定性的影响。现有技术中，人们通过真空镀膜机上的离子源控制器控制离子源的各项参数，但传统的离子源控制器其不便安装，且高度不便调节，不利于人们操控离子源控制器，因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜机的离子源控制器，包括底座（1），所述底座（1）的顶部一侧放置有离子源控制器本体（5），其特征在于，所述底座（1）的顶部另一侧焊接有立柱（2），所述立柱（2）与离子源控制器本体（5）之间设有焊接在底座（1）顶部的限位杆（3），所述离子源控制器本体（5）的一侧固定安装有安装板（4），所述安装板（4）活动套设在限位杆（3）上，所述安装板（4）的一侧与立柱（2）靠近离子源控制器本体（5）的一侧相接触，所述安装板（4）的另一侧开设有滑槽（6），所述滑槽（6）内设有水平设置的滑杆（7），所述滑杆（7）的一端焊接有竖杆（8），所述滑杆（7）的另一端焊接有滑板（18），所述滑板（18）滑动安...

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的离子源控制器，包括底座（1），所述底座（1）的顶部一侧放置有离子源控制器本体（5），其特征在于，所述底座（1）的顶部另一侧焊接有立柱（2），所述立柱（2）与离子源控制器本体（5）之间设有焊接在底座（1）顶部的限位杆（3），所述离子源控制器本体（5）的一侧固定安装有安装板（4），所述安装板（4）活动套设在限位杆（3）上，所述安装板（4）的一侧与立柱（2）靠近离子源控制器本体（5）的一侧相接触，所述安装板（4）的另一侧开设有滑槽（6），所述滑槽（6）内设有水平设置的滑杆（7），所述滑杆（7）的一端焊接有竖杆（8），所述滑杆（7）的另一端焊接有滑板（18），所述滑板（18）滑动安装在滑槽（6）内，所述滑槽（6）的底部内壁上开设有凹槽（9），所述凹槽（9）的两侧内壁上转动安装有同一个绕线轮（10），所述绕线轮（10）上绕设有拉丝（11），所述拉丝（11）的一端与竖杆（8）的一侧固定连接，所述拉丝（11）的另一端固定连接有卡柱（12），所述立柱（2）靠近离子源控制器本体（5）的一侧开设有多个与卡柱（12）相适配的卡槽（13），所述卡柱（12）远离拉丝（11）的一端与多个卡槽（13）中的一个卡槽（13）相卡装，...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈琪，莫超超，刘悦洲，孙阳，陈志龙，
申请(专利权)人：爱发科商贸上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31