光固化环氧改性有机硅涂层组合物及其制备方法技术

本发明专利技术涉及光固化环氧改性有机硅涂层组合物及其制备方法，基于100重量份的涂层组合物，主要包含：组分A：30‑98重量份的一种或多种环氧改性有机硅低聚物；组分B：0.5‑40重量份的一种或多种环氧活性稀释单体；组分C：0.5‑10重量份的一种或多种光固化引发剂；和组分D：0.5‑10.0质量份的气相二氧化硅以调节组合物粘度和触变性。本发明专利技术涂层组合物特别适用于电子行业的有机硅材料表面涂层，和有机硅压敏胶材料具有好的相容性，同时配方设计主体为有机硅结构，涂层具有优异的耐热性能。

【技术实现步骤摘要】
光固化环氧改性有机硅涂层组合物及其制备方法
本专利技术涉及光固化有机硅
，特别涉及光固化环氧改性有机硅涂层组合物及其制备方法。
技术介绍
光固化有机硅材料兼具有机硅材料的优异性能及光固化技术高效、节能的特点，故而逐步得到广泛的应用。有机硅材料是以硅氧键为主链，通过硅与有机基团组成侧链的半无机半有机高分子化合物。结构的特殊性赋予了其许多优异的性能，如耐高低温、耐候、耐老化、耐腐蚀、低表面张力以及生理惰性等，从而使其在航空航天、电子电气、化工等方面应用广泛。有机硅材料与光固化技术的结合，使有机硅材料的应用扩展到了新的领域。近年来电子行业飞速发展，触摸屏用膜材料得到极大的发展。在此类细分市场中，PET压敏胶膜发展迅速，此类PET膜材料一般用作手机或电子设备的临时保护，在PET膜的上部涂敷有机硅压敏胶，在终端客户使用时会将其剥离扔掉。这一层有机硅压敏胶在电子设备的运输过程中，有可能会对熟料基材发生迁移等问题，因此，对于某些高端手机或显示贴合的应用场合，此类膜材料往往需要局部的特别处理，在膜材料贴合电子设备的塑料基材位置进行光油处理，即在上面再次涂敷一层光固化涂层材料，要求此类涂层对于有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光固化环氧改性有机硅涂层组合物，其特征在于，包括A组分、B组分、C组分和D组分，所述A组分包括一种或多种环氧改性有机硅低聚物，所述B组分包括一种或多种环氧活性稀释单体，所述C组分为一种或多种光固化引发剂，所述D组分为气相二氧化硅；原料各组分按重量份计为，A组分：30‑98份；B组分：0.5‑40份；C组分：0.5‑10份；D组分：0.5‑10份。

【技术特征摘要】
1.光固化环氧改性有机硅涂层组合物，其特征在于，包括A组分、B组分、C组分和D组分，所述A组分包括一种或多种环氧改性有机硅低聚物，所述B组分包括一种或多种环氧活性稀释单体，所述C组分为一种或多种光固化引发剂，所述D组分为气相二氧化硅；原料各组分按重量份计为，A组分：30-98份；B组分：0.5-40份；C组分：0.5-10份；D组分：0.5-10份。2.根据权利要求1所述的光固化环氧改性有机硅涂层组合物，其特征在于，所述A组分的重均分子量大于5000，环氧官能度为6；所述A组分的制备过程如下：1)先用端乙烯基硅油与含氢D4加成反应在两端，做成端含氢环体的硅油(端含氢D4过量2倍)，反应介质为甲苯，催化剂选择顺-二(三苯基膦)二氯化铂，在温度110℃反应三小时；2)反应后减压蒸馏去除甲苯和过量的端含氢D4，继续加入过量的VCHO(1，2-环氧-4-乙烯基环己烷)或者2，3-环氧基-5-乙烯基降冰片烯，反应介质为甲苯，催化剂选择顺-二(三苯基膦)二氯化铂，在温度110℃反应三小时，从而做成两端各有3个环氧基团，共6个环氧基团的有机硅预聚物；3)减压蒸馏去除甲苯和过量的1，2-环氧-4-乙烯基环己烷或者2，3-环氧基-5-乙烯基降冰片烯；通用结构式如下：3.根据权利要求1所述的光固化环氧改性有机硅涂层组合物，其特征在于，所述B组分为3，3′-[氧基双亚甲基]双[3-乙基]氧杂环丁烷、3-乙基-3-环氧丙烷甲醇、3，4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯、3，4-环氧环己基甲基丙烯酸酯、4-(2-环氧乙烷基甲氧基)丁基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘...

【专利技术属性】
技术研发人员：王洪宇，姚磊，薛丹丹，蘧建星，
申请(专利权)人：江苏科琪高分子材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32