一种传感器刻蚀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种传感器刻蚀装置，包括加温板、挡液板架、上挡液板、下挡液板、刻蚀反应箱，所述刻蚀反应箱内部顶端设置有所述加温板，所述刻蚀反应箱顶端设置有第一雾化管，所述第一雾化管一侧设置有旋转电机，所述旋转电机一侧设置有第二雾化管，所述旋转电机顶部设置有刻蚀药液箱，所述加温板底部设置有旋转轴，所述旋转轴底部设置有硅片放置台，所述硅片放置台一侧设置有所述下挡液板，所述下挡液板一侧设置有挡液板架。有益效果在于：设置加温板对顶部进行加热，避免了凝结药液滴落对未刻蚀部分的干扰，同时上挡液板和下挡液板可以有效遮挡硅片未刻蚀部分，装置刻蚀效率高，质量好。

【技术实现步骤摘要】
一种传感器刻蚀装置
本技术涉及传感器刻蚀
，特别是涉及一种传感器刻蚀装置。
技术介绍
传感器用单晶硅在加工过程中，均需对其进行刻蚀处理，刻蚀工艺分为干法刻蚀和湿法刻蚀，湿法刻蚀被广泛用于金属薄膜及氧化物薄膜的刻蚀。湿法刻蚀工艺主要是指采用化学药液对刻蚀物进行去除的一种技术，对待刻蚀的基板进行湿法刻蚀时，通过化学药液与刻蚀物发生化学反应，把未被光刻胶覆盖的薄膜进行去除完成刻蚀。对比申请号201510399735.7的中国专利，公开了一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置，其包括有反应室，反应室外侧设置有电磁线圈：所述反应室外部设置有多个在水平方向上的置放端架，每一个置放端架的均沿反应室的侧端面成环形延伸，电磁线圈固定于其所对应的置放端架的上端面；多个置放端架之间通过在竖直方向上延伸的支撑杆件进行连接：所述反应室的外部设置有多个升降丝杆，其连接至设置在反应室上端面的升降电机，所述升降丝杆与置放端架彼此固定连接；采用上述技术方案的可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置，其可通过升降丝杆驱动电磁线圈升降，以使得批量处理的单晶硅的整体加工精度得以改善，并使得传感器整体的工艺效率得本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种传感器刻蚀装置，其特征在于：包括加温板（3）、挡液板架（4）、上挡液板（5）、下挡液板（9）、刻蚀反应箱（10），所述刻蚀反应箱（10）内部顶端设置有所述加温板（3），所述刻蚀反应箱（10）顶端设置有第一雾化管（2），所述第一雾化管（2）一侧设置有旋转电机（16），所述旋转电机（16）一侧设置有第二雾化管（15），所述旋转电机（16）顶部设置有刻蚀药液箱（1），所述加温板（3）底部设置有旋转轴（12），所述旋转轴（12）底部设置有硅片放置台（11），所述硅片放置台（11）一侧设置有所述下挡液板（9），所述下挡液板（9）一侧设置有挡液板架（4），所述挡液板架（4）一侧设置有所述上挡液板（...

【技术特征摘要】
1.一种传感器刻蚀装置，其特征在于：包括加温板（3）、挡液板架（4）、上挡液板（5）、下挡液板（9）、刻蚀反应箱（10），所述刻蚀反应箱（10）内部顶端设置有所述加温板（3），所述刻蚀反应箱（10）顶端设置有第一雾化管（2），所述第一雾化管（2）一侧设置有旋转电机（16），所述旋转电机（16）一侧设置有第二雾化管（15），所述旋转电机（16）顶部设置有刻蚀药液箱（1），所述加温板（3）底部设置有旋转轴（12），所述旋转轴（12）底部设置有硅片放置台（11），所述硅片放置台（11）一侧设置有所述下挡液板（9），所述下挡液板（9）一侧设置有挡液板架（4），所述挡液板架（4）一侧设置有所述上挡液板（5），所述上挡液板（5）表面设置有齿条（6），所述齿条（6）底部设置有驱动齿轮（7），所述驱动齿轮（7）底部设置有步进电机（8），所述刻蚀反应箱（10）的另一侧设置有抽液管（13），所述抽液管（13）一侧设置有泵（14）。2.根据权利要求1所述的一种传感器刻蚀装置，其特征在于：所述第一雾化管（2）与所述刻蚀药液箱（1）插接，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：方高健，
申请(专利权)人：方高健，
类型：新型
国别省市：浙江,33