一种单晶硅片退火冷却箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种单晶硅片退火冷却箱。包括：进风装置，用于将空气冷却并引入腔室内；腔室，其设置在所述进风装置的一侧，并与所述进风装置连接，在所述腔室内设有单晶硅片载物架，在所述腔室前端面设有进料口，腔室用于放置和固定待冷却的单晶硅片；以及出风装置，其与所述腔室连接，并位于所述进风装置的对侧，用于将空气排出腔室外；其中，所述单晶硅片载物架包括：螺旋形支撑架，用于承托待冷却的单晶硅片；伸缩装置，其与所述螺旋形支撑架连接，用于带动所述螺旋形支撑架前后移动本实用新型专利技术的有益效果是：能够快速冷却单晶硅片。

A Single Crystal Silicon Sheet Annealing Cooling Box

The utility model discloses a single crystal silicon wafer annealing cooling box. Including: an air intake device for cooling air and introducing it into the chamber; a chamber, which is arranged on one side of the air intake device and connected with the air intake device, a single crystal silicon wafer carrier frame is arranged in the chamber, an inlet opening is arranged on the front end face of the chamber, a chamber is used for placing and fixing the single crystal silicon wafer to be cooled; and an air outlet device, which is connected and positioned with the chamber. On the opposite side of the air intake device, the air is discharged out of the chamber; the single crystal silicon wafer carrier frame includes: a spiral support frame for supporting the cooling single crystal silicon wafer; and a telescopic device connected with the spiral support frame for driving the spiral support frame to move forward and backward. The beneficial effect of the utility model is that the single crystal silicon wafer can be rapidly cooled.

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片退火冷却箱
本技术涉及单晶硅片制造领域，特别涉及一种单晶硅片退火冷却箱。
技术介绍
单晶硅片是硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。在单晶硅片的处理过程有一步退火工艺，目的是将晶体中的氧施主效应去除，该现象让硅片出现电阻率虚高的现象，针对于此，必须要进行退火。针对于退火工艺进程中的一个冷却过程，以前都是直接放置在室外，用风扇进行冷却。这种冷却方式，受到环境限制很多，如果室温较高，降温的效果就不会很明显。一种能够提高退火稳定性的硅片退火冷却箱成为解决问题的关键。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种单晶硅片退火冷却箱，能够快速冷却单晶硅片。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案，包括：进风装置，用于将空气冷却并引入腔室内；腔室，其设置在所述进风装置的一侧，并与所述进风装置连接，在所述腔室内设有单晶硅片载物架，在所述腔室前端面设有进料口，腔室用于放置和固定待冷却的单晶硅片；以及出风装置，其与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单晶硅片退火冷却箱，其特征在于，包括：进风装置，用于将空气冷却并引入腔室内；腔室，其设置在所述进风装置的一侧，并与所述进风装置连接，在所述腔室内设有单晶硅片载物架，在所述腔室前端面设有进料口，腔室用于放置和固定待冷却的单晶硅片；以及出风装置，其与所述腔室连接，并位于所述进风装置的对侧，用于将空气排出腔室外；其中，所述单晶硅片载物架包括：螺旋形支撑架，用于承托待冷却的单晶硅片；伸缩装置，其与所述螺旋形支撑架连接，用于带动所述螺旋形支撑架前后移动。

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片退火冷却箱，其特征在于，包括：进风装置，用于将空气冷却并引入腔室内；腔室，其设置在所述进风装置的一侧，并与所述进风装置连接，在所述腔室内设有单晶硅片载物架，在所述腔室前端面设有进料口，腔室用于放置和固定待冷却的单晶硅片；以及出风装置，其与所述腔室连接，并位于所述进风装置的对侧，用于将空气排出腔室外；其中，所述单晶硅片载物架包括：螺旋形支撑架，用于承托待冷却的单晶硅片；伸缩装置，其与所述螺旋形支撑架连接，用于带动所述螺旋形支撑架前后移动。2.根据权利要求1所述的单晶硅片退火冷却箱，其特征在于，所述螺旋形支撑架包括：多圈螺旋圈体，其水平放置，能够间隔放置多片待冷却的单晶硅片；弧形托板，其设置所述多圈螺旋圈体的下部，并与所述螺旋圈体相配合，用于承托冷却的单晶硅片；其中，在所述弧形托板上设有多道用于放置单晶硅片的凹槽。3.根据权利要求2所述的单晶硅片退火冷却箱，其特征在于，所述伸缩装置包括：滑槽，其设置在所述腔室的底面上；滑块，其设置在所述弧形托板的下端，并与所述滑槽相匹配，滑动支撑所...

【专利技术属性】
技术研发人员：何翠翠，韩刚，孙鹏，
申请(专利权)人：锦州神工半导体股份有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21