【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】投影曝光装置及投影曝光方法
本专利技术涉及提高投影曝光装置的吞吐量的技术，尤其涉及通过减少总的投影曝光时间来提高吞吐量的技术。
技术介绍
例如，参考文献1或参考文献2公开了通过使用光刻技术使光掩模(光罩)上的图案转印到晶圆或基板等工件上的投影曝光装置。在参考文献1中，原板(光罩：光掩模)上的图案通过投影透镜而被投影到在可沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动的载物台(或载置台)上载置的一个被曝光体(工件)上。通过使用激光干涉仪的位置检测设备来检测被曝光体(工件)在XY各个方向上的位置。在参考文献1中，公开了用于高精度地进行步进式曝光中的光罩与晶圆的对位的步进式移动方向，以及晶圆相对于位置检测设备的激光干涉仪的移动方向。在参考文献2中，不仅载置一个工件的载物台(或载置台)能够沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动，而且载置光掩模(光罩)的桌也能够沿X(横)-Y(纵)-θ(旋转)方向移动。在参考文献2中，公开了能够单独地设定两个桌的扫描方向和扫描速度等的技术。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-203161号专利文献2：特开平11-260697号然而...
【技术保护点】
1.一种投影曝光装置，使光掩模的规定图案与工件上的规定位置对准并利用来自于光源的光进行投影曝光，由此在所述工件上形成所述规定图案，其中，所述投影曝光装置具有：滑动载物台，在载置所述工件的部位的顶面上，以两个工件不重叠且能够同时载置两个工件的方式形成有第一区域和第二区域两个区域，所述滑动载物台能够交替向彼此相反的方向滑动并且能够临时停止在各个所述方向的端部的规定的第一停止位置与第二停止位置上；两个第一装载器，能够对所述滑动载物台的各个所述区域内单独地装载及卸载各个所述工件；第一位置检测设备，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第一停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.26 JP 2016-1050901.一种投影曝光装置，使光掩模的规定图案与工件上的规定位置对准并利用来自于光源的光进行投影曝光，由此在所述工件上形成所述规定图案，其中，所述投影曝光装置具有：滑动载物台，在载置所述工件的部位的顶面上，以两个工件不重叠且能够同时载置两个工件的方式形成有第一区域和第二区域两个区域，所述滑动载物台能够交替向彼此相反的方向滑动并且能够临时停止在各个所述方向的端部的规定的第一停止位置与第二停止位置上；两个第一装载器，能够对所述滑动载物台的各个所述区域内单独地装载及卸载各个所述工件；第一位置检测设备，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第一停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第一区域的正上部，以检测在该第一区域内载置的工件的载置位置；第二位置检测设备，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第二停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第二区域的正上部，以检测在该第二区域内载置的工件的载置位置；光源、光掩模以及投影光学系统，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第一停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第二区域的正上部，能够对载置于该第二区域内的所述工件进行投影曝光，并且在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第二停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第一区域的正上部，能够对载置于该第一区域内的所述工件进行投影曝光；以及控制部，对如下各个处理进行控制：所述滑动载物台的滑动和在各个停止位置上的停止、由第一装载器对各个区域内进行的工件的装载和卸载、由所述位置检测设备进行的各个区域内的工件的载置位置的检测、以及由所述光源、光掩模以及投影光学系统进行的对各个区域内的工件的投影曝光，所述控制部实施并行处理，即，当通过所述光源、光掩模以及投影光学系统对载置于所述第二区域内的工件进行投影曝光时，并行地通过所述位置检测设备检测在所述第一区域内载置的工件的载置位置，相反地，当通过所述光源、光掩模以及投影光学系统对在所述第一区域内载置的工件进行投影曝光时，并行地通过所述位置检测设备检测载置于所述第二区域内的工件的载置位置。2.根据权利要求1所述的投影曝光装置，其中，所述投影曝光装置是通过步进式曝光将要投影曝光的图案逐步曝光到一个工件上的曝光装置。3.根据权利要求1或2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：小谷秀人，田中良和，大庭隆正，
申请(专利权)人：萨玛精密股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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