液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法制造方法及图纸

技术编号:20020129 阅读:44 留言:0更新日期:2019-01-06 01:37
一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法,所述的测量装置包括探测激光器、第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜、样品台、第二半波片、第二偏振分光镜、功率计和计算机,该方法通过探测激光的功率变化在线实时测量连续激光作用下液晶器件相位调控特性变化。该方法简单易行,可以准确评估不同激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。

【技术实现步骤摘要】
液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法
本专利技术涉及液晶器件,特别是一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法。
技术介绍
液晶器件具有相位调控功能,在光束空间整形、相干波前校正、动态全息、光镊技术、自适应光学、光束偏转等方面具有广泛的应用。激光辐照会加热液晶器件,尤其是高功率连续激光辐照,会使液晶器件表现出明显的热效应,从而影响液晶器件的相位调控功能。测量连续激光辐照下液晶器件的相位调控特性变化,对液晶器件在连续激光中的应用具有非常重要的科学意义和实用价值。
技术实现思路
本专利技术提出一种连续激光辐照下液晶器件相位调控特性测量装置和测量方法。该方法简单易行,可以准确评估不同激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。本专利技术的技术解决方案如下:一种液晶器件相位调控特性的测量装置,其特点在于包括探测激光器、第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜、样品台、第二半波片、第二偏振分光镜、功率计和计算机,上述部件的关系如下:待测的液晶器件置于所述样品台上,所述探测激光器输出探测激光经所述的第一偏振分光镜、第一半波片、聚焦透镜后辐照于所述液晶器件表面,在探测激光经所述液晶器件的反射光路上依次是所述的第二半波片、第二偏振分光镜、功率计,所述的功率计的输出端接所述计算机的输入端,所述的连续激光在所述液晶器件前方辐照所述液晶器件,所述的探测激光经过第一半波片后,偏振态与液晶分子长轴成45°;探测激光经过第二半波片后,偏振态与液晶分子的长轴成-45°。利用上述液晶器件相位调控特性的测量装置测量液晶器件相位调控特性的方法,该方法包括下列步骤:①将所述的功率计首先放置在所述的聚焦透镜后,开启所述的探测激光器,所述的功率计测量并记录探测激光的功率为P0并输入所述的计算机;②将所述功率计放置在第二偏振分光镜后,无连续激光加载时,所述功率计探测的激光功率为P1并输入所述的计算机;③所述的连续激光辐照所述的液晶器件表面与所述的探测激光辐照的同一位置,所述功率计示数无明显变化后的激光功率为P2并输入所述的计算机;④关闭所述连续激光后,所述功率计示数无明显变化后,记录激光功率为P3并输入所述的计算机;⑤所述计算机按下列公式计算依次获得液晶器件在无连续激光加载、有连续激光加载、连续激光卸载后液晶器件的实时调控相位β1,β2,β3;⑥改变所述连续激光的辐照功率或者时间,重复②~⑤,即可获得不同连续激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。本专利技术的技术效果是:本专利技术通过探测激光功率的变化在线实时表征连续激光对液晶器件相位调控特性的影响,简单易行,可在线实时连续激光作用下测量液晶器件相位调控特性的变化。附图说明图1是本专利技术液晶器件相位调控特性测量装置的示意图。图2是计算机记录的探测光功率变化图。具体实施方式下面结合实例和附图对本专利技术作进一步说明,但不应以此限制专利技术的保护范围。请参阅图1。图1是本专利技术液晶器件相位调控特性测量装置示意图。由图可见,本专利技术液晶器件相位调控特性的测量装置,包括探测激光器102、第一偏振分光镜103、第一半波片104、聚焦透镜105、样品台107、第二半波片108、第二偏振分光镜109、功率计110和计算机111,上述部件的关系如下:待测的液晶器件106置于所述样品台107上,所述探测激光器102输出探测激光经所述的第一偏振分光镜103、第一半波片104、聚焦透镜105后辐照于所述液晶器件106的表面上,在探测激光经所述液晶器件106的反射光路上依次是所述的第二半波片108、第二偏振分光镜109、功率计110,所述的功率110的输出端接所述计算机111的输入端,所述的连续激光101在所述液晶器件106前方辐照所述液晶器件106,所述的探测激光经过第一半波片104后,偏振态与液晶分子长轴成45°;探测激光经过第二半波片108后,偏振态与液晶分子的长轴成-45°。利用上述液晶器件相位调控特性的测量装置测量液晶器件相位调控特性的方法,该方法包括下列步骤:①将所述的功率计110首先放置在所述的聚焦透镜105后,开启所述的探测激光器102,所述的功率计110测量并记录探测激光的功率为P0并输入所述的计算机;②将所述功率计110放置在第二偏振分光镜109后,无连续激光加载时,所述功率计110探测的激光功率为P1并输入所述的计算机111;③所述的连续激光101辐照所述的液晶器件106表面与所述的探测激光辐照的同一位置,所述功率计110示数无明显变化后的激光功率为P2并输入所述的计算机111;④关闭所述连续激光101后,所述功率计110示数无明显变化后,记录激光功率为P3并输入所述的计算机111;⑤所述计算机111按下列公式计算:依次获得液晶器件在无连续激光加载、有连续激光加载、连续激光卸载后液晶器件的实时调控相位β1,β2,β3;⑥改变所述连续激光101辐照功率或者时间,重复②~⑤,即可获得不同连续激光参数作用对液晶器件相位调控特性的影响。请参阅图2。图2是计算机记录的探测光功率变化图。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶器件相位调控特性的测量装置,其特征在于包括探测激光器(102)、第一偏振分光镜(103)、第一半波片(104)、聚焦透镜(105)、样品台(107)、第二半波片(108)、第二偏振分光镜(109)、功率计(110)和计算机(111),上述部件的关系如下:待测的液晶器件(106)置于所述样品台(107)上,所述探测激光器(102)输出探测激光经所述的第一偏振分光镜(103)、第一半波片(104)、聚焦透镜(105)后辐照于所述液晶器件(106)表面,在探测激光经所述液晶器件(106)的反射光路上依次是所述的第二半波片(108)、第二偏振分光镜(109)、功率计(110),所述的功率计(110)的输出端接所述计算机(111)的输入端,所述的连续激光(101)在所述液晶器件(106)前方辐照所述液晶器件(106),所述的探测激光经过第一半波片(104)后,偏振态与液晶分子长轴成45°;探测激光经过第二半波片(108)后,偏振态与液晶分子的长轴成‑45°。

【技术特征摘要】
1.一种液晶器件相位调控特性的测量装置,其特征在于包括探测激光器(102)、第一偏振分光镜(103)、第一半波片(104)、聚焦透镜(105)、样品台(107)、第二半波片(108)、第二偏振分光镜(109)、功率计(110)和计算机(111),上述部件的关系如下:待测的液晶器件(106)置于所述样品台(107)上,所述探测激光器(102)输出探测激光经所述的第一偏振分光镜(103)、第一半波片(104)、聚焦透镜(105)后辐照于所述液晶器件(106)表面,在探测激光经所述液晶器件(106)的反射光路上依次是所述的第二半波片(108)、第二偏振分光镜(109)、功率计(110),所述的功率计(110)的输出端接所述计算机(111)的输入端,所述的连续激光(101)在所述液晶器件(106)前方辐照所述液晶器件(106),所述的探测激光经过第一半波片(104)后,偏振态与液晶分子长轴成45°;探测激光经过第二半波片(108)后,偏振态与液晶分子的长轴成-45°。2.利用权利要求1所述的液晶器件相位调控特性...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓凤彭丽萍赵元安李大伟胡国行朱美萍邵建达
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
类型:发明
国别省市:上海,31

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