液体槽制造技术

该发明专利技术涉及一种液体槽，其中，所述液体槽包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。本发明专利技术的液体槽具有流量均匀板，通过设置在所述流量均匀板上的孔对穿过所述流量均匀板的液体进行分流，使得通过所述孔进入到上腔的液体被分流成更多股，更多股的液体对上腔内存放的液体进行推动、搅拌，因此具有更好的推动效果，能够使液体槽中的液体中各种离子均匀分布。

Liquid tank

The invention relates to a liquid groove, in which the liquid groove comprises a groove body for holding liquid, a number of water intakes are arranged at the bottom of the groove body, a number of flow uniform plates through holes are arranged, the flow uniform plates are used for placing in the groove body, and the space enclosed by the groove body is separated into upper and lower cavities along the depth direction of the groove body, and the objects to be treated are used. The water inlet is positioned in the upper cavity and the water inlet is positioned in the lower cavity. The liquid tank of the present invention has a flow uniform plate. The liquid passing through the flow uniform plate is diverted by a hole arranged on the flow uniform plate, so that the liquid entering the upper cavity through the hole is diverted into more strands, and more strands of liquid are driven and stirred by the liquid stored in the upper cavity, so that the liquid in the liquid tank has a better driving effect and can make the liquid in the liquid tank. All kinds of ions are evenly distributed.

【技术实现步骤摘要】
液体槽本专利技术涉及半导体生产制备领域，尤其涉及一种液体槽。
技术介绍
为了改善存储器件的密度，业界已经广泛致力于研发减小二维布置的存储器单元的尺寸的方法。随着二维(2D)存储器件的存储器单元尺寸持续缩减，信号冲突和干扰会显著增大，以至于难以执行多电平单元(MLC)操作。为了克服2D存储器件的限制，具有三维(3D)结构的存储器件今年来的研究逐渐升温，通过将存储器单元三维地布置在衬底之上来提高集成密度。在3DNAND的制备工艺中，去除栅极线中的氮化硅是关键步骤之一。目前，去除栅极线中的氮化硅采用的是将形成了栅线隔槽的半导体结构放入磷酸箱中、由高温的磷酸对栅线隔槽中的氮化硅进行刻蚀的方法。然而，随着反应的进行，磷酸箱中不同位置的硅浓度不同，磷酸箱中存在局部硅浓度过高的现象。磷酸箱中的局部硅浓度过高，会使得磷酸对氮化硅进行刻蚀的过程中副产物的数量也增多，回沾到栅线隔槽的氧化硅上的氧化物增多，形成大头现象，影响后续处理。
技术实现思路
本专利技术中提供了一种液体槽，能够使液体槽中的液体中各种离子均匀分布。为了解决上述技术问题，本专利技术中提供了一种液体槽，包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。可选的，所述进水口处设置有喷嘴。可选的，所述槽体还设有排水口；所述液体槽还包括：位于所述槽体外的循环管路，所述循环管路至少包括连通的若干进水支管和若干排水支管，所述排水支管的一端与所述排水口连接并导通，所述进水支管的一端与所述进水口连接并导通。可选的，所述循环管路上设置有增压泵，用于使所述进水口排出的液体的速度大于一预设值。可选的，所述槽体至少设置有三排进水口。可选的，其中一排所述进水口位于槽底的中部，另外两排所述进水口关于位于所述中部的一排进水口对称排布。可选的，相邻两排进水口之间的距离相等，同一排内的进水口等距设置。可选的，所述流量均匀板设有若干排平行排列的孔，各排所述孔的排列方向与各排所述进水口的排列方向一致。可选的，所述流量均匀板包括至少十五排孔，每排孔的数目为二十五个以上。可选的，所述流量均匀板可拆卸地安装在所述槽体上。本专利技术的液体槽具有流量均匀板，通过设置在所述流量均匀板上的孔对穿过所述流量均匀板的液体进行分流，使得通过所述孔进入到上腔的液体被分流成更多股，更多股的液体对上腔内存放的液体进行推动、搅拌，因此具有更好的推动效果，能够使液体槽中的液体中各种离子均匀分布。附图说明图1为本专利技术的一种具体实施方式中的液体槽的结构示意图。图2为本专利技术的一种具体实施方式中的流量均匀板的结构示意图。图3为本专利技术的一种具体实施方式中的槽底的俯视示意图。图4为一种具体实施方式中使用所述液体槽来进行湿法刻蚀时的流程示意图。图5为本专利技术的一种具体实施方式中使用所述液体槽来进行湿法刻蚀时待刻蚀半导体结构的结构示意图。图6为本专利技术的一种具体实施方式中使用所述液体槽来进行湿法刻蚀时被刻蚀后的半导体结构的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施方式对本专利技术提出的液体槽作进一步详细说明。请参阅图1至3，其中图1为本专利技术的一种具体实施方式中的液体槽的结构示意图，图2为本专利技术的一种具体实施方式中的流量均匀板的结构示意图，图3为本专利技术的一种具体实施方式中的槽底的俯视示意图。在该具体实施方式中，所述液体槽包括：槽体100，用于盛放液体，所述槽体100的底部设有若干进水口101；设有若干通孔的流量均匀板102，所述流量均匀板102用于放置在所述槽体100内，并将所述槽体100所围成的空间沿所述槽体100的深度方向分隔为上腔107和下腔108，待处理物体用于放置在所述上腔107，所述进水口101位于所述下腔108。由于所述槽体100中盛放的液体可能呈现强烈的酸性或碱性，因此，在实际的使用过程中，所述槽体100需要由耐腐蚀的材料制成，或具有耐腐蚀的表面，以防止在盛放强酸强碱时被强酸强碱所腐蚀。所述流量均匀板102可拆卸地安装在所述槽体100上，设置于所述槽体100的下腔108的进水口101流出的液体需要经过所述流量均匀板102才能进入至所述上腔107，而由于所述流量均匀板102上设置有若干通孔，经过所述流量均匀板102才进入至所述上腔107的液体被所述流量均匀板102均匀化，上腔107内的液体中各种离子均匀分布。在一种具体实施方式中，所述流量均匀板102放置于所述槽体100内时，与进水口101的开口朝向垂直，对所述进水口101喷出的绝大部分液体进行均匀话处理，且此时所述流量均匀板102对所述进水口101喷出的液体的均匀化处理的效率最高。实际上，本领域的技术人员也可以设置所述流量均匀板102与所述进水口101的开口朝向呈一非直角夹角，如40°、60°等，只是此时所述流量均匀板102对所述进水口101喷出的液体的均匀化处理的效率会发生变化。所述流量均匀板102的尺寸与所述槽体100的尺寸相匹配，卡设于所述槽体100内，将所述槽体100隔断为上腔107和下腔108。在一种具体实施方式中，所述流量均匀板102包括至少十五排孔104，所述孔104在垂直所述流量均匀板102表面方向上贯穿所述流量均匀板102，用于使穿过所述流量均匀板102的液体分流成更多股，被分流成的多股液体搅拌、推动上腔107中放置的液体，使所述上腔107中放置的液体的各种离子均匀分布。由于所述孔104设置于所述流量均匀板102的各个位置，因此当液体流经所述流量均匀板102、从所述流量均匀板102朝向所述槽体100底部的一侧进入到所述流量均匀板102朝向所述槽体100顶部的一侧时，会从所述流量均匀板102上的各个位置涌出，使所述流量均匀板102朝向所述槽体100顶部的一侧所盛放的液体被更多喷流所搅拌、推动，效果更佳。在一种具体实施方式中，每排孔104的数目为二十五个以上，且各排孔104相互平行设置，任意两相邻孔104之间的距离相等。在一种具体实施方式中，所述孔104在所述流量均匀板102上均匀分布，使被喷出的液体被所述流量均匀板102在进入到上腔107时分流到各个位置，对上腔107内放置的液体也具有均匀的搅拌、推动作用。在其他的具体实施方式中，也可设置各个孔104在所述流量均匀板102上非等距分布。实际上，本领域的技术人员可以根据需要设置所述流量均匀板102上孔104的个数。所述流量均匀板102上孔104的个数越多，流经所述流量均匀板102的液体被分流成的股数越多，对所述上腔107内放置的液体的搅拌、推动作用更均匀。请参阅图2，所述流量均匀板102上均匀分布有25×25个孔104，即所述流量均匀板102上平行设置有二十五排的孔104，且每排孔104中包括二十五个孔104，相邻两孔104之间的距离相等，将所述流量均匀板102等分为10份，以获取较好的均匀化处理效果。在图1所示的具体实施方式中，待处理物件103放置在所述上腔107内，经进水口101流出的液体在流入所述槽体100的上半截时经过流量均匀板102的均匀化处理被分流成多股，多股液体流都能够对所述上腔107中盛放的液体进行搅拌、推动，因而能够获取更好的搅拌本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体槽，其特征在于，包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。

【技术特征摘要】
1.一种液体槽，其特征在于，包括：槽体，用于盛放液体，所述槽体的底部设有若干进水口；设有若干通孔的流量均匀板，所述流量均匀板用于放置在所述槽体内，并将所述槽体所围成的空间沿所述槽体的深度方向分隔为上腔和下腔，待处理物体用于放置在所述上腔，所述进水口位于所述下腔。2.根据权利要求1所述的液体槽，其特征在于，所述进水口处设置有喷嘴。3.根据权利要求1或2所述的液体槽，其特征在于，所述槽体还设有排水口；所述液体槽还包括：位于所述槽体外的循环管路，所述循环管路至少包括连通的若干进水支管和若干排水支管，所述排水支管的一端与所述排水口连接并导通，所述进水支管的一端与所述进水口连接并导通。4.根据权利要求3所述的液体槽，其特征在于，所述循环管路上设置有增压泵，用于使所述进...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋冬门，李君，夏余平，刘开源，王二伟，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42