The present application discloses a preparation method of a display substrate, a display substrate and a display screen. The method includes: coating a metal material on a substrate using the first mask to form a black matrix area; coating a photoresist on the metal material; first exposing the photoresist using the second mask; second exposing the photoresist using the first mask; and developing the photoresist after two exposures. It is reasonable to expose part of the metal material; etch the exposed metal material to form a metal layer. The technical scheme of the embodiment of the present invention can improve the utilization rate of the mask plate and reduce the production and development cost.
【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制备方法、显示基板和显示屏
本公开涉及显示
，尤其涉及一种显示基板的制备方法、显示基板和显示屏。
技术介绍
现有的触摸屏产品由于触摸精度需求不断提高，因此对其生产工艺的要求也逐渐变得苛刻。目前通过掩膜版曝光和蚀刻等光刻工艺制作的触摸屏产品，由于其叠层间对位精度高，各层制作工艺优异，能够满足一些高端产品的性能需求。但是，上述光刻工艺要求在每个新产品的开发过程中，都需要设计和定制对应的一套掩膜版。对于整体尺寸相同的产品，即使其AA(AtiveArea，有效显示区域)区尺寸也相同，但是外围走线和绑定(Bonding)区位置不同，也需要重新设计和定制新的掩膜版。由于触摸屏产品更新换代快，单项目物量小，这对触摸屏生产厂家的生产开发成本造成很大压力。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种能够提高掩膜版利用率以降低生产开发成本的显示基板的制备方案。第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：在采用第一掩膜版形成黑色矩阵区域的衬底基板上涂覆金属材料；在所述金属材料上涂覆光刻胶；采用第二掩膜版对所述光刻胶进行第一次曝光处理；采...
【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在采用第一掩膜版形成黑色矩阵区域的衬底基板上涂覆金属材料；在所述金属材料上涂覆光刻胶；采用第二掩膜版对所述光刻胶进行第一次曝光处理；采用所述第一掩膜版对所述光刻胶进行第二次曝光处理；对经过两次曝光处理后的光刻胶进行显影处理以裸露出部分金属材料；对裸露的金属材料进行蚀刻处理以形成金属层。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在采用第一掩膜版形成黑色矩阵区域的衬底基板上涂覆金属材料；在所述金属材料上涂覆光刻胶；采用第二掩膜版对所述光刻胶进行第一次曝光处理；采用所述第一掩膜版对所述光刻胶进行第二次曝光处理；对经过两次曝光处理后的光刻胶进行显影处理以裸露出部分金属材料；对裸露的金属材料进行蚀刻处理以形成金属层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻胶为正性光刻胶。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述金属层上形成用于保护所述金属层的保护层。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述金属层上形成用于保护所述金属层的保护...
【专利技术属性】
技术研发人员：田健，许邹明，张雷，李亚英，刘纯建，郑启涛，丁贤林，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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