一种制备含硅多孔整体材料的方法及整体材料的应用技术

本发明专利技术涉及一种基于光引发巯基‑炔基聚合反应快速制备含硅的多孔整体材料。具体是将含硅的二炔基化合物(功能单体)、多巯基化合物(功能单体)、致孔剂及光引发剂混合并超声溶解，然后在一定波长的紫外灯照射下发生巯基‑炔基聚合反应(photoinduced thiol‑yne polymerization reaction)，即可一步制备出多孔的杂化整体材料。所述的制备方法具有条件温和、快速等优点，另外还可以根据不同的应用要求选用不同的功能单体，或调节致孔剂体系，制备出一系列具有不同物理和化学性质的含硅的杂化多孔整体材料。

A Method for Preparing Porous Monolithic Materials Containing Silicon and Its Application

The invention relates to a rapid preparation of silicon-containing porous monolithic materials based on photo-initiated mercaptoalkynyl polymerization reaction. Specifically, the silicon-containing diacetyl compounds (functional monomers), polysulfide compounds (functional monomers), porogens and photoinitiators are mixed and dissolved by ultrasound, and then photoinduced thiol-yne polymerization reaction occurs under the irradiation of a certain wavelength of ultraviolet lamp. The porous hybrid monolithic materials can be prepared one step. The preparation method has the advantages of mild and fast conditions. In addition, a series of silicon-containing hybrid porous monolithic materials with different physical and chemical properties can be prepared by selecting different functional monomers or adjusting the pore-forming agent system according to different application requirements.

【技术实现步骤摘要】
一种制备含硅多孔整体材料的方法及整体材料的应用
本专利技术涉及一种基于光引发的巯基-炔聚合反应快速制备含硅多孔整体材料，具体是将含硅的二炔基化合物、多巯基化合物、致孔溶剂和光引发剂混合超声均匀后，利用光引发的巯基-炔基聚合聚合反应(photoinducedthiol-ynepolymerizationreaction)一步制备含硅的多孔整体材料。
技术介绍
近二十年来整体材料受到越来越多的关注，已广泛用于催化、吸附、分离介质和储存载体等领域。毛细管整体柱是一种在毛细管内部原位聚合形成连续多孔结构的整体材料(主要包括有机整体材料、无机硅胶整体材料和有机-无机杂化整体材料)，在分离分析小分子和生物大分子等样品中具有一定的优势。其中，有机整体材料容易制备且具有较好的pH稳定性，但柱效偏低；无机硅胶整体材料具有比表面积大、柱效高等优点，但其制备过程繁琐且操作技术要求高。有机–无机杂化整体柱同时具有硅胶整体柱和有机聚合物整体柱的优点，又在一定程度上克服了两者的缺点，近年来受到越来越多的关注。由于硅基材料具有制备简便和易于后修饰的特点，因此目前绝大多数有机–无机杂化整体柱都是硅胶基质材料。其制备本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含硅的杂化多孔整体材料的制备方法，其特征在于：将含硅的二乙炔基化合物，具体是将二乙炔基四甲基二硅氧烷，多巯基化合物、致孔溶剂和光引发剂混合超声均匀，在光引发条件下发生巯基‑炔基聚合反应(photoinduced thiol‑yne polymerization reaction)一步制备含有硅的杂化多孔整体材料。

【技术特征摘要】
1.一种含硅的杂化多孔整体材料的制备方法，其特征在于：将含硅的二乙炔基化合物，具体是将二乙炔基四甲基二硅氧烷，多巯基化合物、致孔溶剂和光引发剂混合超声均匀，在光引发条件下发生巯基-炔基聚合反应(photoinducedthiol-ynepolymerizationreaction)一步制备含有硅的杂化多孔整体材料。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：其过程如下，1)向反应容器中加入18～36mg含硅的二炔基化合物；2)向反应容器中加入多巯基化合物，使巯基官能团(-SH)与乙炔基官能团(-C≡C)的摩尔(mol)比为2:1～1:1；3)向反应容器中加入80～150μL的二乙二醇二乙醚(diethyleneglycoldiethylether,DEGDE)和20～140μL的聚乙二醇(PEG，分子量为180-220)；4)向反应容器中加入0.3～3.0mg的光引发剂2,2-二甲氧基-苯基苯乙酮(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone,DMPA)；5)将上述混合体系在常温下超声使其完全溶解形成均匀透明溶液；6)将步骤5)中所得到的混合溶液引入到容器中并密封；7)将步骤6)中所得到的盛有混合溶液的容器置于紫外灯下反应，直至形成固体；8)用甲醇冲洗上述整体材料，以去除致孔剂及未反应或未结合上的物质，得到含硅的多...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧俊杰，马淑娟，叶明亮，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：辽宁,21