显示器用玻璃基板及其制造方法技术

本申请是涉及显示器用玻璃基板及其制造方法的发明专利技术。本申请提供一种将失透温度抑制得较低并且满足高应变点的玻璃基板及其制造方法。显示器用玻璃基板包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，失透温度为1235℃以下，且应变点为720℃以上。或者包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，(SiO2+MgO+CaO)－(Al2O3+SrO+BaO)未达42％，失透温度为1260℃以下，且应变点为720℃以上。显示器用玻璃基板的制造方法包含：熔解步骤，至少使用直接通电加热使调制成特定组成的玻璃原料熔解；成形步骤，使在所述熔解步骤中熔解所得的熔融玻璃成形为平板状玻璃；及缓冷步骤，使所述平板状玻璃缓冷，并且以降低所述平板状玻璃的热缩率的方式控制所述平板状玻璃的冷却条件。

Glass Substrate for Display and Its Manufacturing Method

The present application relates to the invention of a glass substrate for display and a manufacturing method thereof. The present application provides a glass substrate with low impermeability temperature and high strain point and a manufacturing method thereof. The glass substrate for display includes the following glass, which contains SiO 2 and AlO 3. The glass is expressed by mass percent. B2O 3 is above 0% and less than 3%, BaO is 5-14%. In fact, it does not contain SbO 3. The impermeability temperature is below 1235 C, and the strain point is above 720 C. Or it contains the following glass, which contains SiO 2 and AlO 3. In terms of mass percent, B2O 3 is above 0% and less than 3%, MgO is above 1.8%, BaO is 5-14%. In fact, it does not contain SbO 3, (SiO 2+MgO+CaO) - (Al2O3+SrO+BaO) less than 42%, and the impermeability temperature is below 1260 C, and the strain point is above 720 C. The manufacturing method of the glass substrate for display includes: melting step, at least melting the glass material modulated into a specific composition by direct electrification heating; forming step, forming the melted glass obtained in the melting step into flat glass; and cooling step to slow down the flat glass and to control the thermal shrinkage of the flat glass in a way that reduces the thermal shrinkage of the flat glass. Cooling conditions for making the flat glass.

【技术实现步骤摘要】
显示器用玻璃基板及其制造方法分案申请的相关信息本案是分案申请。该分案的母案是申请日为2016年6月28日、申请号为201680037857.8、专利技术名称为“显示器用玻璃基板及其制造方法”的专利技术专利申请案。
本专利技术涉及一种显示器用玻璃基板及其制造方法。本专利技术特别涉及一种低温多晶硅薄膜晶体管(以下，记载为LTPS-TFT(Low-Temperature-Polycrystalline-SiliconThin-Film-Transistor))显示器用玻璃基板。此外，本专利技术涉及一种氧化物半导体薄膜晶体管(以下，记载为OS-TFT(Oxide-SemiconductorThin-Film-Transistor))显示器用玻璃基板。更详细来说，本专利技术涉及一种所述显示器为液晶显示器的显示器用玻璃基板。或本专利技术涉及一种所述显示器为有机EL(Electroluminescence，电激发光)显示器的显示器用玻璃基板。而且，本专利技术涉及一种所述显示器为平板显示器的平板显示器用玻璃基板。[相关申请的相互参照]本申请主张2015年6月30日申请的日本专利特愿2015-131780号的优先权其全部记载尤其作为揭示而被援用于本文中。
技术介绍
就可降低功耗等理由来说，移动设备等所搭载的显示器期待将LTPS应用于制造薄膜晶体管(TFT)，在LTPS-TFT的制造中，需要在400～600℃的相对高温下进行热处理。另一方面，近年来逐渐要求小型移动设备的显示器高精细化。因此，引起像素的间距偏差的制造显示器面板时所产生的玻璃基板的热缩成为问题。此外，即便在形成有OS-TFT的玻璃基板中，同样地抑制热缩也成为课题。玻璃基板的热缩率通常可通过提高玻璃的应变点、提高玻璃转移点(以下称为Tg)、或者减缓缓冷速度而降低。根据此种情况，揭示有为了降低热缩率而提高玻璃的应变点的技术(专利文献1)。此外，揭示有调整缓冷点至应变点附近的温度区域下的平均密度曲线的斜率与平均线膨胀系数的比而减少热缩的技术(专利文献2)。此外，揭示有为了降低热缩率而提高Tg的技术(专利文献3)。而且，由于近年来逐渐要求显示器面板的高精细化，因此专利文献3的技术成为不充分的热缩率的降低。为此，也揭示有将玻璃的应变点设为725℃以上的技术(专利文献4)。专利文献1：日本专利特开2010-6649号公报专利文献2：日本专利特开2004-315354号公报专利文献3：日本专利特开2011-126728号公报专利文献4：日本专利特开2012-106919号公报专利文献1～4的全部记载尤其作为揭示而被援用于本文中。
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]近年来，由于逐渐要求高精细化，因此要求进一步缩小热缩率。在为了进一步缩小热缩率而提高玻璃基板的应变点的情况下，必须使玻璃中的SiO2或Al2O3的含量增多，结果，有熔融玻璃的比电阻上升的倾向。近年来，存在为了使玻璃在溶解槽中有效率地熔解而使用直接通电加热的情况。在使用直接通电加热的情况下，若熔融玻璃的比电阻上升，则电流并非流过熔融玻璃而是流过构成熔解槽的耐火物，结果很明显有可能会导致产生熔解槽熔损。然而，在所述专利文献1所记载的专利技术中，关于熔融玻璃的比电阻并未做任何考虑。因此，在欲经过基于直接通电加热的熔融制造专利文献1所记载的玻璃的情况下，严重担心会产生所述熔解槽熔损的问题。而且，由于近年来逐渐要求高精细化，进一步要求提高玻璃的应变点，因此所述问题变得更加显著。此外，由于所述专利文献2所揭示的玻璃的应变点为682～699℃，因此为了设为比如使热缩充分地缩小的平均密度曲线的斜率，必须使缓冷速度极慢，存在生产性降低的问题。而且，专利文献2所揭示的玻璃由于失透温度为1287℃以上，因此也存在容易产生失透的问题。此外，所述问题在使用下拉法进行成形的情况下变得特别显著。而且，在使用玻璃基板的显示器的制造中要求提高生产性，例如也要求提高将形成有薄膜晶体管的玻璃基板制成薄板的步骤的生产性。将玻璃基板制成薄板的步骤的生产性较大地依赖于玻璃基板的蚀刻所耗的时间。因此，要求显示器玻璃基板同时实现蚀刻速率的上升所带来的生产性的提高及热缩率的降低。然而，关于所述专利文献4所记载的玻璃基板，应变点虽较高，但仍存在并未顾虑到蚀刻速率的问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种将失透温度抑制得较低并且满足高应变点的玻璃基板、及其制造方法。本专利技术的目的尤其在于提供一种适合使用LTPS-TFT或者OS-TFT的显示器的显示器用玻璃基板及其制造方法。[解决问题的技术手段]本专利技术如以下所述。[1]一种显示器用玻璃基板，包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，失透温度为1235℃以下，且应变点为720℃以上。[2]一种显示器用玻璃基板，包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，(SiO2+MgO+CaO)－(Al2O3+SrO+BaO)未达42％，失透温度为1260℃以下，且应变点为720℃以上。[3]如[1]至[2]中任一项的玻璃基板，其中所述玻璃基板在500℃的温度下保持30分钟，然后放冷至常温的情况下的由下述式所表示的热缩率为15ppm以下。热缩率(ppm)＝{热处理前后的玻璃的收缩量/热处理前的玻璃的长度}×106[4]如[1]至[3]中任一项的玻璃基板，其中所述玻璃基板的蚀刻速率大于75μm/h。[5]如[1]至[4]中任一项的玻璃基板，在玻璃基板表面形成有使用低温多晶硅或氧化物半导体而形成的薄膜晶体管的平板显示器用玻璃基板。[6]一种显示器用玻璃基板的制造方法，制造如[1]至[5]中任一项的玻璃基板，且包含：熔解步骤，至少使用直接通电加热使调制成特定组成的玻璃原料熔解；成形步骤，使在所述熔解步骤中熔解所得的熔融玻璃成形为平板状玻璃；及缓冷步骤，使所述平板状玻璃缓冷，并且以降低所述平板状玻璃的热缩率的方式控制所述平板状玻璃的冷却条件。[专利技术的效果]根据所述本专利技术的玻璃基板，可制造将失透温度抑制得较低并且满足高应变点的玻璃基板。由此，可以较高的生产性提供可减少制造显示器时的热缩的显示器用玻璃基板、尤其是适合使用LTPS-TFT或OS-TFT的平板显示器的显示器用玻璃基板。具体实施方式在本申请说明书中，关于玻璃的组成，只要未特别说明，则含量以质量％表示，以％表示含量是指质量％。构成玻璃组成的成分的比以质量比表示。本专利技术的显示器用玻璃基板(第一形态)包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，失透温度为1235℃以下，且应变点为720℃以上。本专利技术的显示器用玻璃基板(第二形态)包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，BaO为5～14％，实质上不含有Sb2O3，(SiO2+MgO+CaO)－(Al2O3+SrO+BaO)未达42％，失透温度为1260℃以下，且应变点为720℃以上。以下，对本实施方式的显示器用玻本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示器用玻璃基板，包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，实质上不含有Sb2O3，MgO/(CaO+SrO)为0.36以上，且应变点为720℃以上。

【技术特征摘要】
2015.06.30 JP 2015-1317801.一种显示器用玻璃基板，包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，实质上不含有Sb2O3，MgO/(CaO+SrO)为0.36以上，且应变点为720℃以上。2.一种显示器用玻璃基板，包含以下玻璃，该玻璃含有SiO2、Al2O3，以质量％表示，B2O3为0％以上且未达3％，MgO为1.8％以上，实质上不含有Sb2O3，MgO/(CaO+SrO)为0.36以上，(SiO2+MgO+CaO)－(Al2O3+SrO+BaO)未达42％，且应变点为720℃以上。3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板，其中所述玻璃基板在500℃的温度...

【专利技术属性】
技术研发人员：市川学，
申请(专利权)人：安瀚视特控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP