The invention provides a plasma source with high ion or electron extraction efficiency. The plasma source (1) includes a chamber (11), with an opening (11a) for radiating ions or electrons generated inside the chamber (11); a gas inlet (31) for introducing gases into the chamber (11); a vacuum connector (14), which is located on the circumference (111) opposite to the opening (11a); an antenna (15), a base end (15a) and a vacuum connector (14), which extend inward to the opening (11a) in the chamber (11). The first insulator part (21) covers the first part (P1) on the front end (15b) side of the antenna (15) in the room (11); the second insulator part (13), the second part (P2) on the base end (15a) side of the antenna (15) in the room (11); and the conductor part (16) covers the second insulator part (13).
【技术实现步骤摘要】
等离子体源
本专利技术涉及一种等离子体源。
技术介绍
以往提出了一种离子自由基源,其包括:等离子体生成室;气体导入部,用于向等离子体生成室导入气体;天线,配置在等离子体生成室的内部;以及引出电极,配置在用于将等离子体生成室内的离子或自由基向等离子体生成室外辐射的开口部附近(例如参照专利文献1)。在此,天线的基端部固定在等离子体生成室内的与开口部相对的内壁上,其前端部向开口部突出。专利文献1:日本专利公开公报特开平8-31358号并且,在专利文献1记载的结构的离子自由基源中,在等离子体生成室内的天线的基端部附近生成的等离子体的密度较高。另一方面,在等离子体生成室内,距开口部的距离越远的位置生成的离子或电子利用引出电极从开口部向等离子体生成室外引出时的引出效率越低。因此,如果等离子体生成室内的等离子体的密度表现出距开口部的距离较远的天线的基端部附近变高的分布,则相应地离子或电子向等离子体生成室外的引出效率下降。
技术实现思路
鉴于上述问题,本专利技术的目的在于提供离子或电子的引出效率高的等离子体源。为了达成上述目的,本专利技术提供一种等离子体源,其包括:室,呈箱状,具有用 ...
【技术保护点】
1.一种等离子体源,其特征在于包括:室,呈箱状,具有用于将在内侧生成的离子或电子向外辐射的开口部;气体导入部,通过贯通所述室的周壁的供给通道,将气体导入所述室内;连接器,设置在所述周壁的与所述开口部相对的位置上;天线,基端部与所述连接器连接,在所述室内朝向所述开口部延伸;第一绝缘体部,覆盖所述天线的位于所述室内的前端部侧的第一部位;第二绝缘体部,覆盖所述天线的位于所述室内的所述基端部侧的第二部位;以及导体部,覆盖所述第二绝缘体部。
【技术特征摘要】
2017.06.23 JP 2017-1230841.一种等离子体源,其特征在于包括:室,呈箱状,具有用于将在内侧生成的离子或电子向外辐射的开口部;气体导入部,通过贯通所述室的周壁的供给通道,将气体导入所述室内;连接器,设置在所述周壁的与所述开口部相对的位置上;天线,基端部与所述连接器连接,在所述室内朝向所述开口部延伸;第一绝缘体部,覆盖所述天线的位于所述室内的前端部侧的第一部位;第二绝缘体部,覆盖所述天线的位于所述室内的所述基端部侧的第二部位;以及导体部,覆盖所述第二绝缘体部。2.根据权利要求1所述的等离子体源,其特征在于,所述连接器具有:长销;保持部,由绝缘体形成,保持所述销的长边方向的中央部;以及筒状部,由导电性材料形成为圆筒状,在外壁上设置有阳螺纹部,并且在内侧配置所述销,所述导体部为筒状,在内壁上设置有与所述阳螺纹部螺纹连接的阴螺纹部。3.根据权利要求1或2所述的等离子体源,其特征在于,所述连接器...
【专利技术属性】
技术研发人员:藤田秀树,糸井骏,
申请(专利权)人:日新离子机器株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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