对位装置、对位系统和对位方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种对位装置、对位系统和对位方法，用于供若干个待对位结构进行对位，待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记，对位标记的材料包括介电材料，该对位装置包括：第一电极、第二电极和电容检测电路；第一电极和第二电极相对设置，第一电极朝向第二电极的一侧为第一表面，第二电极朝向第一电极的一侧为第二表面，第一表面和第二表面均具有预设形状，第一表面与第二表面正对；电容检测电路用于在对位过程中检测第一电极与第二电极之间的电容变化，并根据第一电极与第二电极之间的电容变化确定待对位结构上的对位标记是否与第一表面正对。本发明专利技术的技术方案有利于待对位结构的精准对位。

Alignment device, alignment system and alignment method

The invention discloses a alignment device, a alignment system and a alignment method for alignment of several structures to be aligned. The alignment structure is provided with a alignment mark with preset shape. The alignment mark material includes dielectric material. The alignment device comprises a first electrode, a second electrode and a capacitance detection circuit; the first electrode and a second electrode are relatively arranged; and the first electric material is positioned with a preset shape. One side of the second electrode is the first surface, the other side of the second electrode is the second surface. The first surface and the second surface have preset shapes, and the first surface is directly opposite to the second surface. The capacitance detection circuit is used to detect the capacitance change between the first electrode and the second electrode during the alignment process, and according to the capacitance change between the first electrode and the second electrode. Determine whether the alignment marker on the structure to be aligned with the first surface. The technical scheme of the invention is advantageous to the accurate alignment of the alignment structure.

【技术实现步骤摘要】
对位装置、对位系统和对位方法
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种对位装置、对位系统和对位方法。
技术介绍
在显示面板的生产过程中，需要将两块显示基板进行对位、密封，两块显示基板的对位精准度将直接影响最终成型后的显示面板的性能。在现有技术中，往往是基于光学检测技术来控制两块显示基板的对位精准度。具体地，两块显示基板上均预先设置有适配的对位标记，在对位过程中通过自动光学检测(AutomaticOpticInspection，简称AOI)设备来观察两块显示基板上对位标记的图像，当两个对位标记的图像完完全重合时，则表示两块显示基板精准对位。在实际应用过程中发现，由于两块显示基板层叠放置，因此距离AOI设备较远的显示基板上对位标记所反射的光会先经过距离AOI设备较近的显示基板，然后再射入至AOI设备；其中，光线在经过距离AOI设备较近的显示基板过程中会发生折射，使得AOI设备中所观察到的距离AOI设备较远的显示基板上的对位标记的位置，与该对位标记的真实位置存在一定偏差，因此当AOI设备中两个对位标记的图像完完全重合时，两个对位标记并未真正正对。由此可见，现有的基于光学检测技术的对位过程，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对位装置，用于供若干个待对位结构进行对位，所述待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记，所述对位标记的材料包括介电材料，其特征在于，所述对位装置包括：第一电极、第二电极和电容检测电路；所述第一电极和所述第二电极相对设置，所述第一电极朝向所述第二电极的一侧为第一表面，所述第二电极朝向所述第一电极的一侧为第二表面，所述第一表面和所述第二表面均具有所述预设形状，所述第一表面与所述第二表面正对；所述电容检测电路用于在对位过程中检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化，并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。

【技术特征摘要】
1.一种对位装置，用于供若干个待对位结构进行对位，所述待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记，所述对位标记的材料包括介电材料，其特征在于，所述对位装置包括：第一电极、第二电极和电容检测电路；所述第一电极和所述第二电极相对设置，所述第一电极朝向所述第二电极的一侧为第一表面，所述第二电极朝向所述第一电极的一侧为第二表面，所述第一表面和所述第二表面均具有所述预设形状，所述第一表面与所述第二表面正对；所述电容检测电路用于在对位过程中检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化，并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。2.根据权利要求1所述的对位装置，其特征在于，所述电容检测电路包括：发射单元、检测单元和判断单元；所述发射单元与所述第一电极连接，用于向所述第一电极提供初始振荡信号；所述检测单元与所述第二电极连接，用于检测所述第二电极输出的感应振荡信号的变化，所述感应振荡信号的变化表征所述第一电极与所述第二电极之间的电容的变化；所述判断单元与所述检测单元连接，用于根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号来确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。3.根据权利要求2所述的对位装置，其特征在于，所述判断单元用于根据所述感应振荡信号的频率或周期来判断所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。4.根据权利要求2所述的对位装置，其特征在于，所述电容检测电路还包括：负载，所述发射单元通过所述负载与所述第一电极连接。5.一种对位系统，其特征在于，包括：如上述权利要求1～4中任一所述对位装置。6.一种对位方法，其特征在于，所述对位方法基于上述权利要求1～4中任一所述的对位装置，所述对位方法包括：调节所述待对位结构的位置，以改变所述待对位结构上的所述对位标记与所述第一表面之间的相对位置；所述电容检测电路检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容，并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对；其中，当所述电容检测电路检测出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为预设阈值时，则判断出所述对位标记与所述第一表面正对；否则，判断出所述对位标记不与所述第一表面正对，再...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱学强，陈东川，王丹，刘冰洋，马新利，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11