X射线Talbot干涉仪和X射线Talbot干涉仪系统技术方案

本发明专利技术涉及X射线Talbot干涉仪和X射线Talbot干涉仪系统。X射线Talbot干涉仪包括：包括多个X射线透射部分的源光栅，被配置为允许来自X射线源的X射线中的一些通过；具有周期性结构的分束器光栅，被配置为通过使用所述周期性结构使来自所述X射线透射部分的X射线衍射以形成干涉图案；以及X射线检测器，被配置为检测来自所述分束器光栅的X射线。所述分束器光栅使来自所述多个X射线透射部分中的每个X射线透射部分的X射线衍射以形成各自与所述多个X射线透射部分之一对应的干涉图案。所述多个X射线透射部分被布置为使得各自与所述多个X射线透射部分之一对应的干涉图案相互叠加以增强通过所述干涉图案的调制而生成的边带中的空间频率分量。

X-ray Talbot interferometer and X-ray Talbot interferometer system

The present invention relates to X-ray Talbot interferometer and X-ray Talbot interferometer system. The X-ray Talbot interferometer includes: a source grating comprising a plurality of X-ray transmission portions, which is configured to permit the passage of some X-rays from the X-ray source; a beam splitter grating having a periodic structure, which is configured to make X-ray diffraction from the X-ray transmission portions to form an interference pattern by using the periodic structure; and an X-ray detector, which is configured for detection. X-ray from the beam splitter grating. The beam splitter grating causes X-ray diffraction from each X-ray transmission portion of the plurality of X-ray transmission portions to form respective interference patterns corresponding to one of the plurality of X-ray transmission portions. The plurality of X-ray transmission portions are arranged so that each interference pattern corresponding to one of the plurality of X-ray transmission portions overlaps with each other to enhance the spatial frequency component in the sideband generated by modulation of the interference pattern.

【技术实现步骤摘要】
X射线Talbot干涉仪和X射线Talbot干涉仪系统本申请是申请号为201580008324.2、申请日为2015年2月12日、专利技术名称为“X射线Talbot干涉仪和X射线Talbot干涉仪系统”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种X射线Talbot干涉仪和X射线Talbot干涉仪系统。
技术介绍
X射线相位成像方法是利用当X射线穿过样品时由该样品引起的相位变化的成像方法。在相关技术中提出的几种X射线相位成像方法之一是例如PTL1中所述的Talbot干涉仪。Talbot干涉仪一般包括两个或三个光栅，每个光栅具有周期性结构。在光栅当中，一般被放置在样品附近的光栅可以被称为“分束器光栅”，一般被放置在X射线检测器附近的光栅可以被称为“分析器光栅”，一般被放置在X射线源附近的光栅可以被称为“源光栅”。上述每个光栅均可以是具有一维周期性图案的光栅或者具有二维图案的光栅。所使用的X射线检测器一般是能够测量入射在X射线检测器的检测表面上的X射线的二维强度分布的检测器。分束器光栅典型地是基于相位调制透射的衍射光栅。入射在分束器光栅上的X射线被光栅的周期性结构衍射，由于所谓的Ta本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线Talbot干涉仪，该X射线Talbot干涉仪包括：具有周期性结构的分束器光栅，被配置为通过使用所述周期性结构使来自X射线源的X射线衍射以形成干涉图案；分析器光栅，被配置为遮挡所述干涉图案的一部分；以及X射线检测器，被配置为检测来自所述分析器光栅的X射线，其中，所述分析器光栅执行关于所述干涉图案的信息的空间‑频移以使得所述X射线检测器能检测到关于所述干涉图案的空间频带的信息，并且其中，所述空间频带以通过特定于所述干涉图案的空间频率分量被样品调制而生成的边带中的空间频率分量为中心。

【技术特征摘要】
2014.02.14 JP 2014-0266771.一种X射线Talbot干涉仪，该X射线Talbot干涉仪包括：具有周期性结构的分束器光栅，被配置为通过使用所述周期性结构使来自X射线源的X射线衍射以形成干涉图案；分析器光栅，被配置为遮挡所述干涉图案的一部分；以及X射线检测器，被配置为检测来自所述分析器光栅的X射线，其中，所述分析器光栅执行关于所述干涉图案的信息的空间-频移以使得所述X射线检测器能检测到关于所述干涉图案的空间频带的信息，并且其中，所述空间频带以通过特定于所述干涉图案的空间频率分量被样品调制而生成的边带中的空间频率分量为中心。2.根据权利要求1所述的X射线Talbot干涉仪，其中，所述分束器光栅的周期性方向和所述分析器光栅的周期性方向相互匹配。3.根据权利要求1所述的X射线Talbot干涉仪，还包括所述X射线源。4.根据权利要求1所述的X射线Talbot干涉仪，还包括移动单元，所述移动单元被配置为使所述分析器光栅相对于所述干涉图案的相对位置移动，其中，所述X射线检测器在所述移动单元使所述相对位置移动之前和之后执行检测，以在所述分析器光栅相对于所述干涉图案的不同相对位置处获取多个检测结果。5.根据权利要求4所述的X射线Talbot干涉仪，其中，所述移动单元使所述分束器光栅和所述分析器光栅中的至少一个的位置移动。6.根据权利要求4所述的X射线Talbot干涉仪，还包括包含多个X射线透射部分的源光栅，所述源光栅被配置为允许来自X射线源的X射线中的一些通过，其中，所述移动单元使所述源光栅的位置移动。7.一种X射线Talbot干涉仪系统，该X射线Talbot干涉仪系统包括：根据权利要求4至6中的任何一个所述的X射线Talbot干涉仪；以及样品信息获取单元，被配置为通过使用与所述多个检测结果相关的信息来获取关于样品的信息。8.一种X射线Talbot干涉仪系统，该X射线Talbot干涉仪系统包括：根据权利要求1至3中的任何一个所述的X射线Talbot干涉仪；以及样品信息获取单元，被配置为通过使用与由所述X射线检测器执行的检测的结果相关的信息来获取关于样品的信息。9.根据权利要求8所述的X射线Talbot干涉仪系统，其中，所述样品信息获取单元以比所述X射线检测器获取X射线强度分布的采样间隔小的数据间隔显示图像或记录图像信息。10.根据权利要求1所述的X射线Talbot干涉仪，其中，所述分析器光栅具有用下式表示的光栅周期d2：[数学式70]其中，d1表示所述分束器光栅的光栅周期，n2和m是正整数，LS1表示所述X射线源和所述分束器光栅之间的距离，L12表示所述分束器光栅和所述分析器光栅之间的距离，α2表示以下范围内的常数：[数学式69]其中，wD表示特定于所述X射线检测器的点扩展函数的半高全宽。11.根据权利要求10所述的X射线Talbot干涉仪，其中，所述分束器光栅的周期性方向和所述分析器光栅的周期性方向相互匹配。12.根据权利要求10所述的X射线Talbot干涉仪，其中，m为1或2。13.根据权利要求10所述的X射线Talbot干涉仪，还包括所述X射线源。14.根据权利要求10所述的X射线Talbot干涉仪，还包括移动单元，所述移动单元被配置为使所述分析器光栅相对于所述干涉图案的相对位置移动，其中，所述X射线检测器在所述移动单元使所述相对位置移动之前和之后执行检测，以在所述分析器光栅相对于所述干涉图案的不同相对位置处获取多个检测结果。15.根据权利要求14...

【专利技术属性】
技术研发人员：半田宗一郎，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP