一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器及其制备方法技术

技术编号:19937227 阅读:27 留言:0更新日期:2018-12-29 05:45
本发明专利技术公布了一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器及制备方法,结构包括图形化蓝宝石衬底、ZnO缓冲层、非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层、第一Ni/Au叉指电极、第二Ni/Au叉指电极。AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器制备方法包括:首先对图形化蓝宝石衬底进行清洗,采用金属有机物化学气相淀积技术在图形化蓝宝石衬底上生长获得外延结构ZnO缓冲层和非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层,在非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层和图形化蓝宝石衬底上均先后溅射金属Ti层和Au层,最后整个器件在300℃的N2氛围中快速热退火200s。本发明专利技术的有益效果:采用图形化蓝宝石衬底,相比普通的蓝宝石衬底,可以降低外延层材料的位错密度,提高外量子效率;采用ZnO缓冲层技术,可以获得极低暗电流。

【技术实现步骤摘要】
一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器及其制备方法
本专利技术涉及光电传感器领域,具体涉及一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器及其制备方法。
技术介绍
紫外光在电磁波谱中的位置通常被定义为波长在100nm-400nm的区域,而太阳光中大约有10%的紫外光,在大气层中,波长范围小于280nm的紫外光会被吸收,因此紫外光波长在240-280nm的区域通常被称为“日盲”区域。“日盲”区域的紫外光受自然光的噪音干扰可以忽略不计,因此可以对此区域的紫外光充分利用。目前在通讯、预警等相关领域均有广泛应用,日盲型紫外探测器受到越来越多的关注,科研人员对相关的研究热度也一直很高。较为常见的紫外光探测器器件有金属-半导体-金属(MSM)结构、肖特基结构、光电导型结构和p-i-n型结构,本专利技术制备了一种AlGaN基MSM结构日盲紫外探测器,具有制作简单、响应速度快等优点,同时,本专利技术也为日盲紫外光电探测器的研究和探索提供理论依据和技术支持。
技术实现思路
为了提供性能优异、质量好的AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,包括:图形化蓝宝石衬底、ZnO缓冲层、非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层、第一Ni/Au叉指电极、第二Ni/Au叉指电极,所述ZnO缓冲层位于图形化蓝宝石衬底上,且面积与图形化蓝宝石衬底相同,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层位于ZnO缓冲层上方,所述第一Ni/Au叉指电极位于非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层上方,所述第二Ni/Au叉指电极位于图形化蓝宝石衬底上方,且与ZnO缓冲层平行布置。进一步的,所述ZnO缓冲层厚度为0.1μm。进一步的,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层厚度为0.1μm。进一步的,所述第一Ni/Au叉指电极指间距为7μm,指宽为5μm,指长为500μm。本专利技术同时公开了一种AlGaN基MSM结构日盲紫外探测器的制备方法,包括如下步骤:首先对图形化蓝宝石衬底进行清洗,将依次其放入丙酮、乙醇中浸泡8分钟,再取出用去离子水淋洗,最后吹干即可;采用金属有机物化学气相淀积技术在图形化蓝宝石衬底上生长获得外延结构ZnO缓冲层和非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层,外延层生长温度为1000℃;利用磁控溅射方法,在非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层和图形化蓝宝石衬底上均先后溅射金属Ti层和Au层,形成第一Au/Ti叉指电极和第二Au/Ti叉指电极,溅射工艺条件如下:背底真空为1.5×10-4Pa,衬底温度为25℃,工作气氛为Ar气,工作气压为1Pa,溅射功率为45W,Ti层的溅射时间为40s,Au层的溅射时间为60s;最后整个器件在300℃的N2氛围中快速热退火200s。进一步的,所述金属有机物化学气相淀积技术是一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。进一步的,所述磁控溅射技术是一种材料镀膜技术,在电场和磁场的作用下,将二次电子束缚在特定区域,从而实现高速率溅射。本专利技术的有益效果:(1)采用图形化蓝宝石衬底,相比普通的蓝宝石衬底,可以降低外延层材料的位错密度,提高外量子效率;(2)本专利技术采用ZnO缓冲层技术,可以获得极低暗电流。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。图中:1-图形化蓝宝石衬底,2-ZnO缓冲层,3-非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层,4-第一Ni/Au叉指电极,5-第二Ni/Au叉指电极。具体实施方式下面结合附图与具体实例对本专利技术进行详细说明。如图1所示:一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,包括图形化蓝宝石衬底(1)、ZnO缓冲层(2)、非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)、第一Ni/Au叉指电极(4)、第二Ni/Au叉指电极(5),所述ZnO缓冲层(2)位于图形化蓝宝石衬底(1)上,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)位于ZnO缓冲层(2)上方,所述第一Ni/Au叉指电极(4)位于非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)上方,所述第二Ni/Au叉指电极(5)位于图形化蓝宝石衬底(1)上方,且与ZnO缓冲层(2)平行布置。所述ZnO缓冲层(2)厚度为0.1μm。所述ZnO缓冲层(2)面积与图形化蓝宝石衬底(1)面积相同。所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)厚度为0.1μm。所述第一Ni/Au叉指电极(4)指间距为7μm,指宽为5μm,指长为500μm。一种AlGaN基MSM结构日盲紫外探测器的制备方法,首先对图形化蓝宝石衬底(1)进行清洗,将依次其放入丙酮、乙醇中浸泡8分钟,再取出用去离子水淋洗,最后吹干即可;在生长温度为1000℃的条件下,采用金属有机物化学气相淀积技术在图形化蓝宝石衬底(1)上生长获得外延结构ZnO缓冲层(2)和非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3);利用磁控溅射方法在非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)和图形化蓝宝石衬底(1)上先后溅射金属Ti层和Au层,获得第一Au/Ti叉指电极(4)和第二Au/Ti叉指电极(5),最后整个器件在300℃的N2氛围中快速热退火200s。所述磁控溅射方法的工艺条件如下:背底真空为1.5×10-4Pa,衬底温度为常温,工作气氛为Ar气,工作气压为1Pa,溅射功率为45W,Ti层的溅射时间为40s,Au层的溅射时间为60s。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,其特征在于:包括图形化蓝宝石衬底(1)、ZnO缓冲层(2)、非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)、第一Ni/Au叉指电极(4)、第二Ni/Au叉指电极(5),所述ZnO缓冲层(2)位于图形化蓝宝石衬底(1)上,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)位于ZnO缓冲层(2)上方,所述第一Ni/Au叉指电极(4)位于非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)上方,所述第二Ni/Au叉指电极(5)位于图形化蓝宝石衬底(1)上方,且与ZnO缓冲层(2)平行布置。

【技术特征摘要】
1.一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,其特征在于:包括图形化蓝宝石衬底(1)、ZnO缓冲层(2)、非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)、第一Ni/Au叉指电极(4)、第二Ni/Au叉指电极(5),所述ZnO缓冲层(2)位于图形化蓝宝石衬底(1)上,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)位于ZnO缓冲层(2)上方,所述第一Ni/Au叉指电极(4)位于非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层(3)上方,所述第二Ni/Au叉指电极(5)位于图形化蓝宝石衬底(1)上方,且与ZnO缓冲层(2)平行布置。2.如权利要求1所述一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,其特征在于,所述ZnO缓冲层(2)厚度为0.1μm。3.如权利要求1或2所述一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,其特征在于,所述ZnO缓冲层(2)面积与图形化蓝宝石衬底(1)面积相同。4.如权利要求1所述一种AlGaN基MSM结构日盲型紫外探测器,其特征在于,所述非故意掺杂Al0.3Ga0.7N光吸收层厚度为0.1μm。5.如权利要求1所述一种AlGaN基MS...

【专利技术属性】
技术研发人员:陆海周东渠凯军
申请(专利权)人:镇江镓芯光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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