【技术实现步骤摘要】
印制品结构
本技术涉及印制品结构。
技术介绍
现有印制品通常是多层结构，例如可包括承印层、印墨层、覆膜层；现有印制品在使用过程中，通常还是会出现覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化至消失的情况，导致印制品保存年限有限。
技术实现思路
本技术提供一种印制品结构，其可以有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，从而提高印制品的保存年限。为解决以上技术问题，本技术提供一种技术方案，即一种印制品结构，包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。优选的，所述第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的环形宽度分别从外向内逐渐减小。优选的，所述第一环形凹凸结构包括第一凸起和第一凹部，所述第二环形凹凸结构包括第二凸起和第二凹部；第一凸起和第一凹部对称设置，第二凸起和第二凹部对称设置。优选的，相邻的第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构之间的间隔距离从外向内逐渐增大。本申请印制品结构，其分别在承印层的上表面设置第一环形凹凸结构，在覆膜层的下表面设置第二环形凹凸结构，利用凹凸结构的设置增大印墨层分别与承印层和覆膜层之间的接触面积，并提高其两者之间的粘结力，从而有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，提高印制品的保存年限；另外，本申请方案中第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，这样的设置方式可以更好地提高承印层与覆膜层对印墨层的锁定程度，并且可以减少两者的制作难度。附图说明图1是本申请实施方式印制品结构的示意...
【技术保护点】
1.印制品结构，其特征在于：包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。
【技术特征摘要】
1.印制品结构，其特征在于：包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。2.根据权利要求1所述的印制品结构，其特征在于：所述第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的环形宽度...
【专利技术属性】
技术研发人员：王大训，
申请(专利权)人：成都通通印防伪票证标签有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51
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