【技术实现步骤摘要】
一种调节电子显微镜成像参数的方法及装置
本公开涉及大数据应用
，具体而言，涉及一种调节电子显微镜(EM，ElectronMicroscope)成像参数的方法及装置。
技术介绍
EM是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，用于放大微小物体以便获取该微小物体的微观结构信息。其中，扫描电子显微镜(SEM，ScanningElectronMicroscope)以其最大分辨率可达1纳米(nm)，放大倍数在20-200000倍之间连续可调，能够对光学显微镜极限范围外的微小物体进行成像，并基于成像的图像进行分析，广泛应用在生物、医学、材料学、电子、半导体工业等领域中。在对SEM成像的图像进行分析时，图像质量，例如，图像清晰度直接影响后续图像分析结果。而图像质量与成像质量直接相关，因而，提升成像质量，可以有效提升图像分析结果精度。SEM或EM成像的原理是通过电子束照射样品，通过信号收集器收集样品表面反射出来的二次电子(SecondaryElectrons)，再经过图像技术处理后在显示屏上成像。其中，电压、电流、电子束光斑尺寸(Spotsize)、工作距离、像散矫正参...
【技术保护点】
1.一种调节电子显微镜成像参数的方法，其特征在于，应用于电子显微镜EM，该方法包括：所述EM获取执行成像前的准备阶段的第一参数，将所述第一参数输入预先训练得到的所述EM对应的第一成像模型，得到第二参数，所述电子显微镜成像参数包括所述第一参数和第二参数；按照所述准备阶段的第一参数和得到的第二参数进行成像，得到第一图像；提取所述得到的第二参数中的第三参数，将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型，得到第四参数；按照所述准备阶段的第一参数、提取的第三参数以及得到的第四参数进行成像，得到第二图像；基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述电子显微镜成像参数，并按照...
【技术特征摘要】
1.一种调节电子显微镜成像参数的方法，其特征在于，应用于电子显微镜EM，该方法包括：所述EM获取执行成像前的准备阶段的第一参数，将所述第一参数输入预先训练得到的所述EM对应的第一成像模型，得到第二参数，所述电子显微镜成像参数包括所述第一参数和第二参数；按照所述准备阶段的第一参数和得到的第二参数进行成像，得到第一图像；提取所述得到的第二参数中的第三参数，将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型，得到第四参数；按照所述准备阶段的第一参数、提取的第三参数以及得到的第四参数进行成像，得到第二图像；基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述电子显微镜成像参数，并按照确定的所述电子显微镜成像参数成像。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述电子显微镜成像参数，包括：获取所述第一图像的清晰度和所述第二成像图片的清晰度；计算所述第一图像的清晰度与所述第二图像的清晰度的差值；若所述差值小于或等于预设清晰度差阈值，获取所述清晰度最高的图像的成像参数，作为所述EM的成像参数；若所述差值大于预设清晰度差阈值，提取清晰度最高的图像，替换所述第一图像；修改所述第三参数以调节再次成像的成像参数，执行所述将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型的步骤，直至所述差值小于或等于预设清晰度差阈值。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：显示所述清晰度最高的图像和所述清晰度最高的图像的成像参数。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述EM包括扫描电子显微镜SEM，在所述EM获取执行成像前的准备阶段的第一参数之前，所述方法还包括：获取清晰的SEM样本图像集，提取所述SEM样本图像集中每一SEM样本图像的成像参数，所述成像参数包括第一参数以及第二参数；依据所述第一参数，对提取的各SEM样本图像的成像参数进行分类，得到以第一参数为键，以该第一参数对应的第二参数为值的第一键值对集，以及，构建以第三参数为键，以该第三参数对应的第四参数为值的第二键值对集；以所述第一键值对集中的键作为输入，以该键对应的值作为输出，对预设的第一成像初始模型进行训练，得到所述SEM对应的第一成像模型；以及，以所述第二键值对集中的键作为输入，以该键对应的值作为输出，对预设的第二成像初始模型进行训练，得到所述SEM对应的第二成像模型。5.如权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于，所述第一参数包括放大倍数值和加速电压值，所述第二参数包括：电流值、束斑直径值、工作距离值、聚焦函数值、像散函数值；所述第三参数包括：电流值、束斑直径值和工作距离值，所述第四参数包括聚焦函数值和像散函数值。6...
【专利技术属性】
技术研发人员：王伯丁，李应成，
申请(专利权)人：新华三大数据技术有限公司，
类型：发明
国别省市：河南,41
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