【技术实现步骤摘要】
基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除效果的方法
本专利技术涉及一种基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除度的方法。该方法用于分析空间舱室材料表面菌斑清除前后的图像得到除菌率。技术背景空间舱室材料表面易被微生物附着,并形成菌斑。如果不及时清除这些菌斑,微生物将会腐蚀材料,进而会影响设备的整体寿命,并对乘员的生命健康形成严重威胁。因此对空间密闭舱室内微生物进行清除具有重要意义。微生物附着后形成菌落,菌落密集程度高,难以直接计数,在空间站环境下,由于空间和物资都有限,不能像地面上一样进行长时间的微生物培养来对微生物清除的效果进行评价,而且微生物培养需要大量的实验耗材,并且会产生大量垃圾。因此在空间舱室中对菌斑进行清除后,如何快速、实时地对清除之后的材料表面微生物丰富度进行量化表征从而对菌斑清除度进行评价尤为关键。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提出了一种基于图像分析的空间舱室材料表面菌斑清除度评价的方法。本专利技术通过对菌斑清除前后的材料表面进行拍摄得到图像,然后对图像进行分析对菌斑清除前后的表面微生物丰富度进行量化表征。本专利技术目的通过以下技术方案实现 ...
【技术保护点】
1.一种基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除度的方法,其特征在于,包括步骤:对获得的菌斑图像进行去高光处理,准确获得菌斑图像中的高光区域,对标记好高光区域的菌斑图像进高光去除处理;对高光去除后的菌斑图像进行特征提取获得颜色特征参数,和LBP特征谱的统计直方图作为特征向量,将以上特征向量进行归一化处理作为神经网络的数据集对模型进行训练,识别菌斑并对其进行标记;菌斑面积计算:对图像标记的菌斑区域计算面积;计算清除率:清除率为菌斑清除前后图像标记菌斑区域面积之比。
【技术特征摘要】
1.一种基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除度的方法,其特征在于,包括步骤:对获得的菌斑图像进行去高光处理,准确获得菌斑图像中的高光区域,对标记好高光区域的菌斑图像进高光去除处理;对高光去除后的菌斑图像进行特征提取获得颜色特征参数,和LBP特征谱的统计直方图作为特征向量,将以上特征向量进行归一化处理作为神经网络的数据集对模型进行训练,识别菌斑并对其进行标记;菌斑面积计算:对图像标记的菌斑区域计算面积;计算清除率:清除率为菌斑清除前后图像标记菌斑区域面积之比。2.根据权利要求1所述基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除效果的方法,其特征在于,使用K-means聚类算法获得菌斑图像中的高光区域。3.根据权利要求1所述基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除效果的方法,其特征在于,计算每个像素到聚类中心的距离:通过距离来进行划分对菌斑图像像素进行分类,获得高光区域并进行标记。4.根据权利要求1所述基于图像分析评价空间舱室材料表面菌斑清除效果的方法,其特征在于,对标...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘红,王敏娜,付玉明,
申请(专利权)人:北京航空航天大学,
类型:发明
国别省市:北京,11
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