一种晶石输送控制机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶石输送控制机构，包括输送径向排列晶石的输送通道，所述的输送通道上设有控制晶石通过数量、往复滑移的通过器及与通过器配合的插槽，所述的通过器包括可通过插槽插入输送通道的上插片、下插片及固定连接上、下插片的框架，所述的上、下插板随通过器的往复滑移交替插入或离开输送通道，所述的上、下插片距离为晶石直径的整数倍或大致整数倍，所述的通过器还设有驱动通过器框架往复滑移的第一驱动结构。本实用新型专利技术是在输送通道上设置控制晶石通过数量、往复滑移的通过器，通过器的上插片、下插片通过插槽插入输送通道来控制和选取输送通道内相应数量的晶石并隔断其他晶石，使准确选取相应数量的晶石能输出。

【技术实现步骤摘要】
一种晶石输送控制机构
本技术公开了一种晶石输送控制机构。
技术介绍
晶石由于外观漂亮，在织物上得到了广泛应用。但是现有的晶石多通过手工上料或机械手拾取相应圆盘上的晶石，在晶石使用过程中，经常需要准确输送特定数量的晶石，而现有的设备无法满足此需要。
技术实现思路
本技术为解决现有技术在使用中存在的问题，提供一种可连续快速准确输送相应数量晶石的输送机构。本技术解决现有问题的技术方案是：一种晶石输送控制机构，包括输送径向排列晶石的输送通道，所述的输送通道上设有控制晶石通过数量、往复滑移的通过器及与通过器配合的插槽，所述的通过器包括可通过插槽插入输送通道的上插片、下插片及固定连接上、下插片的框架，所述的上、下插板随通过器的往复滑移交替插入或离开输送通道，所述的上、下插片距离为晶石直径的整数倍或大致整数倍，所述的通过器还设有驱动通过器框架往复滑移的第一驱动结构。作为进一步改进，还包括设置于输送通道出口与通道配合的晶石转送块，所述的转送块上设有与输送通道相对应的转送通道；上述的转送通道上端设有喇叭状的导入口；上述的输送通道上设有视口。作为进一步改进，所述的转送块可滑行设置，所述的转送块设有驱动转送块趋近或远离输送通道出口的第二驱动结构。作为进一步改进，所述的第二驱动结构包括可扭转的曲柄，所述的曲柄一端与转送块相配合，驱动转送块趋近或远离输送通道出口。作为进一步改进，所述的第一驱动结构包括滑板，驱动滑板的滑插及驱动电机，所述的滑插底部设有驱动凸块，所述的第二驱动结构的曲柄设有与驱动凸块相配合的驱动臂，所述的驱动凸块与驱动臂相配合驱动曲柄扭转。本技术与现有技术相比较，其有益效果是在输送通道上设置控制晶石通过数量、往复滑移的通过器，通过器的上插片、下插片通过插槽插入输送通道来控制和选取输送通道内相应数量的晶石并隔断其他晶石，使准确选取相应数量的晶石能输出。附图说明图1是本技术的结构示意图。图2是图1a处的放大示意图。图3是通过器的另一种工作状态示意图。具体实施方式参见图1-3，本实施案例包括输送径向排列晶石11输送通道1，晶石11最好单排排列，输送通道11可垂直或倾斜放置，以便于晶石仅仅依靠自身重力，在不通过外力的状况下能输送。输送通道1上设有控制晶石通过数量、往复滑移的通过器2及与通过器配合的插槽3，通过器2包括可通过插槽3插入输送通道1的上插片、下插片4、5及固定连接上、下插片4、5的框架6，上、下插板4、5随通过器2的往复滑移交替插入或离开输送通道1，上、下插片4、5距离为晶石直径的整数倍或大致整数倍，即可允许上下有少许的偏差，即不影响到上、下插片4、5快速的分离晶石，通过器2还设有驱动通过器框架6往复滑移的第一驱动结构21。本实施案例中上、下插片4、5之间的距离为一个晶石的直径，以便于一次可送出一个晶石11。参见图2，通过器2滑动，上插片4从插槽3插入，由于上、下插片4、5距离为晶石直径的整数倍或大致整数倍，上插片4刚好位于两个晶石11的空隙之间，插入后的上插片4可有效分离位于插片处的上、下晶石11，恰好下插板5离开输送通道1，位于上、下插板4、5之间的晶石滑落处输送通道1达到准确数量的输送。参见图3，通过器2反向滑动，下插片5开始插入输送通道1，上插片4开始离开输送通道1，下插片5完全插入，作为止挡板。上插片4将完全离开，位于上插片4上的晶石进入位于上、下插板4、5之间的通道，作为一个工作流程。可重复图2-3的流程，以实现连续输送。还包括设置于输送通道1出口与通道配合的晶石转送块7，转送块7上设有与输送通道1相对应的转送通道71。转送通道71上端设有喇叭状的导入口。输送通道11上设有视口。转送块7可滑行设置，转送块7设有驱动转送块7趋近或远离输送通道1出口的第二驱动结构。第二驱动结构包括可扭转的曲柄8，曲柄8一端与转送块7相配合，驱动转送块7趋近或远离输送通道1出口。第一驱动结构21包括滑板22，驱动滑板22的滑插23及驱动电机，滑插23底部设有驱动凸块24，第二驱动结构的曲柄8设有与驱动凸块24相配合的驱动臂81，驱动凸块24与驱动臂81相配合驱动曲柄8扭转。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶石输送控制机构，包括输送径向排列晶石的输送通道，其特征在于：所述的输送通道上设有控制晶石通过数量、往复滑移的通过器及与通过器配合的插槽，所述的通过器包括可通过插槽插入输送通道的上插片、下插片及固定连接上、下插片的框架，所述的上、下插板随通过器的往复滑移交替插入或离开输送通道，所述的上、下插片距离为晶石直径的整数倍，所述的通过器还设有驱动通过器框架往复滑移的第一驱动结构。

【技术特征摘要】
1.一种晶石输送控制机构，包括输送径向排列晶石的输送通道，其特征在于：所述的输送通道上设有控制晶石通过数量、往复滑移的通过器及与通过器配合的插槽，所述的通过器包括可通过插槽插入输送通道的上插片、下插片及固定连接上、下插片的框架，所述的上、下插板随通过器的往复滑移交替插入或离开输送通道，所述的上、下插片距离为晶石直径的整数倍，所述的通过器还设有驱动通过器框架往复滑移的第一驱动结构。2.如权利要求1所述的晶石输送控制机构，其特征在于：还包括设置于输送通道出口与通道配合的晶石转送块，所述的转送块上设有与输送通道相对应的转送通道。3.如权利要求2所述的晶石输送控制机构，其特征在于：所述的转送块可滑行设置，所述的转送块设有驱动转送块趋近或远...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈镇杆，
申请(专利权)人：浙江合和机电有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33