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釉面砖制造技术

技术编号:1988244 阅读:155 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种釉面砖,特别是经过抛光处理的釉面砖。在基板上覆盖有经过抛光处理的釉面层。经过抛光处理的釉面层覆盖在基板的上表面和四周。经过抛光处理的釉面光滑细腻、视觉、质感强烈,不存在任何吸污缺点,并且色彩、图案都能具备。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
釉面砖
本技术涉及一种釉面砖,特别是经过抛光处理的釉面砖。
技术介绍
普通建筑陶瓷砖由于没有经过抛光处理,光泽差、色彩单调,档次低。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种表面光滑细腻、色彩丰富的釉面砖。为达到上述目的,本技术采用如下的技术方案:本技术所述的釉面砖,在基板上覆盖有经过抛光处理的釉面层。经过抛光处理的釉面层覆盖在基板的上表面和四周。采用上述技术方案后,釉面光滑细腻、视觉、质感强烈,不存在任何吸污缺点,并且色彩、图案都能具备。附图说明附图是本技术的一个实施例的结构示意图。具体实施方式如附图所示,本技术所述的釉面砖是在普通基板1上覆盖有-->经过3000目磨块抛光处理的釉面层2。经过抛光处理的釉面层2覆盖在基板1的上表面和四周。当然,为了降低生产成本,也可以仅对基板1的上表面进行抛光处理。

【技术保护点】
釉面砖,其特征在于:在基板(1)上覆盖有经过抛光处理的釉面层(2)。

【技术特征摘要】
1、釉面砖,其特征在于:在基板(1)上覆盖有经过抛光处理的釉面层(2)。2、根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒲鼎新
申请(专利权)人:蒲鼎新
类型:实用新型
国别省市:44[中国|广东]

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