旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够对与晶圆旋转保持装置的旋转台连接的负载以非接触的方式进行电力供给的旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置。旋转台用非接触电力供给机构是晶圆旋转保持装置的旋转台用非接触电力供给机构，包括：旋转轴；载置于所述旋转轴的前端且在上表面上保持晶圆的旋转台；向所述旋转轴供给动力的驱动马达；卷绕在所述旋转轴的周围的固定侧初级线圈；与所述固定侧初级线圈连接的电力供给源；与所述固定侧初级线圈隔开规定距离地对应设置且安装在所述旋转台上的旋转台侧次级线圈；以及与所述旋转台侧次级线圈连接的负载，通过电磁感应，经由所述次级线圈向所述负载供给电力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置
本专利技术涉及晶圆旋转保持装置中的旋转台用非接触电力供给机构及方法、以及晶圆旋转保持装置。
技术介绍
以往，在半导体制造工序中，如旋转蚀刻、旋转干燥、旋涂等那样一边使硅等半导体晶圆旋转一边进行各种处理的工序日益增多。作为具体的装置，已知有旋转蚀刻装置、旋转干燥装置、旋涂装置等晶圆旋转保持装置。此外，作为设备的制造工序中的晶圆表面的处理，除了用于去除背面研磨后的损伤层的蚀刻处理之外，还能够举出显影液向晶圆的涂敷、在显影液被涂敷于将电路图案曝光后的晶圆表面的晶圆上烧成半导体电路的显影处理、晶圆表面的清洗等。作为用于对这样的晶圆进行旋转处理的晶圆旋转保持装置和方法，例如存在专利文献1～4所记载的装置和方法。在这些晶圆旋转保持装置中，除了用于使旋转台旋转的电力供给之外，还需要向用于对旋转台上的晶圆实施处理的机构供给电力。近年来，对旋转台上的晶圆进行的处理也趋于复杂化，需要使用各种控制器件或电力器件。在先技术文献专利文献专利文献1：日本专利第4625495号专利文献2：日本专利第4111479号专利文献3：日本专利第4257816号专利文本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转台用非接触电力供给机构，其是晶圆旋转保持装置的旋转台用非接触电力供给机构，其中，所述旋转台用非接触电力供给机构包括：旋转轴；旋转台，其载置于所述旋转轴的前端且在上表面上保持晶圆；驱动马达，其向所述旋转轴供给动力；固定侧初级线圈，其卷绕在所述旋转轴的周围；电力供给源，其与所述固定侧初级线圈连接；旋转台侧次级线圈，其与所述固定侧初级线圈隔开规定距离地对应设置，且安装在所述旋转台上；以及负载，其与所述旋转台侧次级线圈连接，通过电磁感应，经由所述次级线圈向所述负载供给电力。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.21 JP 2016-0853651.一种旋转台用非接触电力供给机构，其是晶圆旋转保持装置的旋转台用非接触电力供给机构，其中，所述旋转台用非接触电力供给机构包括：旋转轴；旋转台，其载置于所述旋转轴的前端且在上表面上保持晶圆；驱动马达，其向所述旋转轴供给动力；固定侧初级线圈，其卷绕在所述旋转轴的周围；电力供给源，其与所述固定侧初级线圈连接；旋转台侧次级线圈，其与所述固定侧初级线圈隔开规定距离地对应设置，且安装在所述旋转台上；以及负载，其与所述旋转台侧次级线圈连接，通过电磁感应，经由所述次级线圈向所述负载供给电力。2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：土屋正人，
申请(专利权)人：三益半导体工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP