含有全氟（聚）醚改性酰胺硅烷化合物的组合物制造技术

本发明专利技术提供一种表面处理剂，其含有至少1种下述式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物：[式中，各符号的意义与说明书中的记载相同。]和至少1种下述式(2)所示的羧酸酯化合物：[式中，各符号的意义与说明书中的记载相同。]，相对于式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和式(2)所示的羧酸酯化合物的总含量，式(2)所示的羧酸酯化合物的含量为4.1mol％以上35mol％以下，

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有全氟（聚）醚改性酰胺硅烷化合物的组合物
本专利技术涉及一种含有全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和羧酸酯化合物而成的表面处理剂。
技术介绍
已知某种含氟硅烷化合物在用于基材的表面处理时，可以提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)，作为所谓的功能性薄膜，已被施用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材。作为这样的含氟硅烷化合物，已知有在分子主链中具有全氟(聚)醚基、经由含有酰胺键的有机基团，与含氟硅烷化合物的末端或末端部具有能够水解的基团的Si原子结合的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物(参照专利文献1～3)。将含有该全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物的表面处理剂适用于基材时，与Si原子结合的能够水解的基团在与基材之间以及化合物之间发生反应而结合，能够形成表面处理层。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11－29585号公报专利文献2：日本特开2000－14399号公报专利文献3：日本特开2000－327772号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题由含有全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物的表面处理剂得到的层，即使为薄膜也能够发挥拨水性、拨油性、防污性等功能，因此，已被合适地用于要求透光性和透明性的眼镜和触摸面板等光学部件。特别是在这些用途中，要求摩擦耐久性，使得即使经受反复摩擦，也能够维持这样的功能。本专利技术的目的在于，提供一种具有拨水性、拨油性、防污性、防水性并且能够形成具有高摩擦耐久性的层的含有全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物而成的组合物。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的专利技术人进行了精心研究，结果发现，通过使用含有全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和羧酸酯化合物而成的组合物，能够形成具有高的摩擦耐久性的表面处理层，直至完成了本专利技术。即，通过本专利技术的第一主旨，能够提供一种表面处理剂，其含有至少1种下述式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和至少1种下述式(2)所示的羧酸酯化合物，相对于式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和式(2)所示的羧酸酯化合物的总含量，式(2)所示的羧酸酯化合物的含量为4.1mol％以上35mol％以下。[式(1)中：Rf1各自独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；PFPE1各自独立地表示－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－，其中，a、b、c、d、e和f各自独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标有a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；X1表示单键或2价的有机基团；R1表示－X2－SiRa1l1Rb1m1Rc1n1；X2表示2价的有机基团；Ra1在每次出现时各自独立地表示－Z1－SiRa2l2Rb2m2Rc2n2；Z1在每次出现时各自独立地表示氧原子或2价的有机基团；Ra2在每次出现时各自独立地表示Ra1’；Ra1’的意义与Ra1相同；Ra1中，经由Z1基连结成直链状的Si最多为5个；Rb2在每次出现时各自独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc2在每次出现时各自独立地表示氢原子或低级烷基；l2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；m2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；n2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；Rb1在每次出现时各自独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc1在每次出现时各自独立地表示氢原子或低级烷基；l1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；m1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；n1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；R2表示氢原子、低级烷基或苯基；p为1或2；其中，式(1)中存在至少1个Rb1或Rb2。][式(2)中：R3表示烃基；R4表示有机基团。]通过本专利技术的第二主旨，能够提供一种包含基材和在该基材的表面由上述本专利技术的表面处理剂形成的层的物品。专利技术效果通过使用本专利技术的含有全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和羧酸酯化合物的组合物，能够形成具有高的摩擦耐久性的表面处理层。具体实施方式以下，对本专利技术的表面处理剂进行说明。用于本说明书时，“1价的有机基团”或“2价的有机基团”分别是指含有碳的1价或2价的基团。作为这样的1价的有机基团，没有特别限定，可以列举烃基。作为2价的有机基团，没有特别限定，可以列举从烃基中再脱除1个氢原子后的2价的基团。用于本说明书时，所谓“烃基”，是含有碳和氢的基团，是指从烃中脱除1个氢原子后的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可以列举可以被1个或1个以上的取代基取代的碳原子数1～20的烃基、例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”可以为直链状、支链状或环状中的任意种，也可以为饱和或不饱和中的任意种。另外，烃基也可以含有1个或1个以上的环结构。另外，关于这样的烃基，其末端或分子链中也可以具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺基、磺酰基、硅氧烷基、羰基、羰氧基等。用于本说明书时，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举卤原子；选自可以被1个或1个以上的卤原子取代的C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元杂环基、5～10元不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元杂芳基中的1个或1个以上的基团。在本说明书中，烷基和苯基只要没有特别记载，可以是非取代的，也可以被取代的。作为这样的基团的取代基，没有特别限定，例如可以列举卤原子、选自C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的基团。本专利技术提供一种含有下述式(1)所示的至少1种全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和下述式(2)所示的至少1种胺化合物而成的表面处理剂(以下，也称为“本专利技术的表面处理剂”)。以下，对式(1)所示的化合物进行说明。上述式(1)中，Rf1表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16的烷基。上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16的烷基的“C1－16的烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6的烷基、特别是C1－3的烷基，更优选为直链的C1－3的烷基。上述Rf1优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16的烷基，更优选为CF2H－C1－15氟代亚烷基，进一步优选为C1－16的全氟烷基。上述C1－16的全氟烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6的全氟烷基、特别是C1－3的全氟烷基，更优选为直链的C1－3的全氟烷基，具体地为－CF3、－CF2CF3或－CF2CF2CF3。上述式(1)中，PFPE1为－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团。式中，a、b、c、d、e和f各自独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1。优选a、b、c、d、e和f各自独立地为0以上100以下的整数。优选a、b、c、d、e和f之和为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。另外，标有a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。这些重复单元可以为直链状，也可以为支链状，优选为直链状。例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理剂，其特征在于：含有至少1种下述式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和至少1种下述式(2)所示的羧酸酯化合物，相对于式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和式(2)所示的羧酸酯化合物的总含量，式(2)所示的羧酸酯化合物的含量为4.1mol％以上35mol％以下，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.08 JP 2016-1758421.一种表面处理剂，其特征在于：含有至少1种下述式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和至少1种下述式(2)所示的羧酸酯化合物，相对于式(1)所示的全氟(聚)醚改性酰胺硅烷化合物和式(2)所示的羧酸酯化合物的总含量，式(2)所示的羧酸酯化合物的含量为4.1mol％以上35mol％以下，式(1)中：Rf1表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；PFPE1各自独立地表示－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－，其中，a、b、c、d、e和f各自独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标有a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；X1表示单键或2价的有机基团；R1各自独立地表示－X2－SiRa1l1Rb1m1Rc1n1；X2表示2价的有机基团；Ra1在每次出现时各自独立地表示－Z1－SiRa2l2Rb2m2Rc2n2；Z1在每次出现时各自独立地表示氧原子或2价的有机基团；Ra2在每次出现时各自独立地表示Ra1’；Ra1’的意义与Ra1相同；Ra1中，经由Z1基连结成直链状的Si最多为5个；Rb2在每次出现时各自独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc2在每次出现时各自独立地表示氢原子或低级烷基；l2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；m2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；n2在每次出现时各自独立地为0～3的整数；Rb1在每次出现时各自独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc1在每次出现时各自独立地表示氢原子或低级烷基；l1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；m1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；n1在每次出现时各自独立地为0～3的整数；R2各自独立地表示氢原子、低级烷基或苯基；p为1或2；其中，式(1)中存在至少1个Rb1或Rb2，式(2)中：R3表示烃基；R4表示有机基团。2.如权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于：Rf1为碳原子数1～16的全氟烷基。3.如权利要求1或2所述的表面处理剂，其特征在于：PFPE1为下述式(a)、(b)或(c)：－(OC3F6)d－(a)式(a)中，d为1以上200以下的整数，－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－(b)式(b)中，c和d各自独立地为0以上30以下的整数；e和f各自独立地为1以上200以下的整数；c、d、e和f之和为10以上200以下的整数；标有下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，－(R6－R7)q－(c)式(c)中，R6为OCF2或OC2F4；R7为选自OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为选自这些基团中的2个或3个基团的组合；q为2～100的整数。4.如权利要求1～3中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：X1的2价的有机基团为－(CR82)k1－(O)k2－(NR9)k3－，式中：R8各自独立地为氢原子或氟原子；R9各自独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基；k1为1～20的整数；k2为0～10的整数；k3为0～10的整数；其中，标有k1、k2或k3并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。5.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：X2的2价的有机基团为－(CR102)k4－(O)k5－(NR11)k6－，式中：R10各自独立地为氢原子或氟原子；R11各自独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基；k4为1～20的整数；k5为0～10的整数；k6为0～10的整数；其中，标有k4、k5或k6并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。6.如权利要求1～5中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：X1为－(CF2)k1’－或－(CF2)k1’－(O)k2’－，式中：k1’为1～6的整数；k2’为1～3的整数；其中，标有k1’或k2’并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，X2为－(CH2)k4’－或－(CH2)k4’－Ok5’－，式中：k4’为1～6的整数；k5’为1～3的整数；其中，标有k4’或k5’并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中任意的。7.如权利要求1～6中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：R2为碳原子数1～3个的烷基或苯基。8.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：三桥尚志，野村孝史，能势雅聪，内藤真人，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP