用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途技术

一种组合物包含溶剂、催化剂、包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。示例性的交联剂包括双甲硅烷基苯、双烷氧基硅烷、1,3‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,4‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑萘、9,10‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑蒽和1,6‑双(三甲氧基甲硅烷基)‑芘。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途对相关申请的交叉引用本申请要求2016年3月14日提交的美国临时专利申请序列62/307,958的优先权，其公开内容全文特此通过引用并入本文。
本公开大体上涉及聚硅氧烷配制物和由这些组合物制成的涂层，更特别涉及用于光电子器件和应用的聚硅氧烷配制物和涂层。背景用于电子、光电子和显示器件的聚硅氧烷涂层公开在例如名称为COMPOSITIONS,LAYERSANDFILMSFOROPTOELECTRONICDEVICES,METHODSOFPRODUCTIONANDUSESTHEREOF的美国专利8,901,268中，其公开内容全文经此引用并入本文。在典型的聚硅氧烷涂层中，该涂层由基于硅的化合物，如硅氧烷单体或低聚物的水解和缩合反应形成，通常借助缩合催化剂。用于显示器的典型厚膜电介质遭受历史相关型收缩（history-dependentshrinkage）。也就是说，当该膜经过多个热循环时，该材料缺乏尺寸稳定性并可发生在其应用中不利地影响该材料的结构变化。这在大面积制造中特别重要，其中该材料必须在工艺热循环过程中在整个面积上保持尺寸稳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种组合物，其包含：溶剂；催化剂；包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷；和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.14 US 62/307958;2017.02.28 US 15/4459661.一种组合物，其包含：溶剂；催化剂；包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷；和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。2.权利要求1的组合物，其中所述交联剂选自1,4-双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,3-双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6-双(三乙氧基甲硅烷基)-萘、9,10-双(三乙氧基甲硅烷基)-蒽和1,6-双(三甲氧基甲硅烷基)-芘。3.权利要求1的组合物，其中苯基侧基与甲基侧基的比率为大于1:1至小于10:1。4.权利要求1的组合物，其中所述组合物是可交联组合物。5.由权利要求4的组合物形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：NE伊瓦莫托，JT肯尼迪，D瓦拉普拉萨德，S穆霍帕迪亚伊，谢松元，
申请(专利权)人：霍尼韦尔国际公司，
类型：发明
国别省市：美国,US