噁唑啉假二聚体、药物组合物及其用途制造技术

本公开涉及噁唑啉单‑和杂‑假二聚体化合物，例如式(I)的化合物或其药学上可接受的盐或溶剂合物。这些化合物可用于治疗疼痛。本公开还涉及包含药学上可接受的载体和治疗有效量的式(I)或(II)的化合物或其药学上可接受的盐或溶剂合物的药物组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】噁唑啉假二聚体、药物组合物及其用途专利技术背景本专利技术属于药物化学领域。具体而言，公开了新型噁唑啉单-和杂-假二聚体化合物。这些化合物具有药物活性，并且可用于治疗病状，例如疼痛。疼痛是患者寻求医疗建议和治疗的最常见的症状。虽然急性疼痛通常是自限性的，但慢性疼痛可持续3个月或更长时间，并引起患者个性、生活方式、功能能力和整体生活质量的显著变化(K.M.Foley，Pain，inCecilTextbookofMedicine100-107，J.C.Bennett和F.Plum编辑，1996年第20版)。慢性疼痛可以发生在已知损伤或疾病之后，或者可以在没有任何已知身体原因的情况下发生。而且，可以伴随已知的组织病理学，例如发生在某些类型的关节炎中的慢性炎症，或者可以在损伤组织愈合很久之后发生，怀疑或已知损伤组织是慢性疼痛的原因。慢性疼痛是一个非常通用的概念，并且有几种与肌肉骨骼系统、脏器、皮肤和神经系统有关的慢性疼痛。慢性疼痛可分为伤害性或神经性疼痛。伤害性疼痛包括组织损伤引起的疼痛和炎症性疼痛，例如与关节炎相关的疼痛。神经性疼痛是由外周或中枢神经系统的损伤引起的，并通过异常的躯体感觉处理维本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种式(I)的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.04 US 62/331,7101.一种式(I)的化合物或其药学上可接受的盐或溶剂合物，其中每个R1和每个R5独立地为：氘，氚，低级烷基，低级烷氧基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷氧基，卤素，未取代的或经一个或多个相同或不同卤素取代的苯基，苯氧基，苄基，苄氧基，-COO-低级烷基，-O-(CH2)0-O-低级烷基，-NH-环烷基，环烷基，哌啶-1-基，或四氢吡喃-4-基氧基；X1和X2各自独立地为键、-CH(R20)-、-CH(R20)CH(R21)-、-OCH(R20)-、-N(R20)CH(R21)-、-CH2OCH(R20)-、-CH2CH2CH2-、-SCH(R20)-、-S(O)2CH(R20)-、-CH2SCH2-、-CH2N(R20)CH2-、-环烷基-CH2-或-Si(R20)(R21)CH2-，其中R20和R21各自独立地为氢、低级烷基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基，或未取代的或经一个或多个选自烷氧基和卤素的相同或不同取代基取代的苄基；R2和R6各自独立地为氢、苯基或低级烷基；R3、R4、R7和R8各自独立地为氢、低级烷基、低级烷氧基、经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基，或经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷氧基；Y1和Y2各自独立地为苯基、萘基、噻吩基、吡啶基、环烷基、1，2，3，4-四氢-萘-2-基、2，3-二氢苯并[1，4]二噁英6-基、苯并[1，3]二氧杂环戊烯-5-基、嘧啶基、茚满基、2，3-二氢吲哚-1-基或3，4-二氢-喹啉-1-基；m和n各自独立地为0、1、2或3；并且o为1、2或3。2.根据权利要求1所述的化合物，其中式(I)中的所述两个噁唑啉部分相同。3.根据权利要求1所述的化合物，其中式(I)中的所述两个噁唑啉部分不同。4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中X1和X2各自独立地为键、-CH(R20)-、-CH(R20)CH(R21)-、-OCH2-、-CH2OCH(R20)-或-N(R20)CH(R21)-，其中R20和R21各自独立地为氢、低级烷基或经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。5.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物，其中Y1和Y2各自独立地为苯基、萘基、噻吩基、吡啶基、环烷基、1，2，3，4-四氢-萘-2-基、2，3-二氢苯并[1，4]二噁英6-基或苯并[1，3]二氧杂环戊烯-5-基；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。6.根据权利要求1至5中任一项所述的化合物，其中X1和X2各自独立地为键、-CH(R20)CH(R21)-或-N(R20)CH(R21)-；并且Y1和Y2为苯基；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的化合物，其中每个R1和每个R5独立地为：低级烷基，低级烷氧基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷氧基，或卤素；R2和R6各自独立地为氢、苯基或低级烷基；并且R3、R4、R7和R8为氢；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。8.根据权利要求1至6中任一项所述的化合物，其中每个R1和每个R5独立地为：低级烷基，低级烷氧基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基，经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷氧基，或卤素；R2和R6为氢；R3和R7各自独立地为低级烷基或经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基；并且R4和R8各自独立地为氢、低级烷基或经一个或多个相同或不同卤素取代的低级烷基；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。9.根据权利要求1-8中任一项所述的化合物，其中每个R1和每个R5独立地为卤素或低级烷基；并且R2、R3、R4、R6、R7和R8为氢；或其药学上可接受的盐或溶剂合物。10.根据权利要求1所述的化合物，其具有式(I-A)：或其药学上可接受的盐或溶剂合物。11.根据权利要求10所述的化合物，其具有式(I-Aa)：或其药学上可接受的盐或溶剂合物。12.根据权利要求1或10所述的化合物，其具有以下结构：或其药学上可接受的盐或溶剂合物。13.根据权利要求11所述的化合物，其具有以下结构：或其药学上可接受的盐或溶剂合物。14.一种式(I-B)的化合物或其药学上可接受的盐或溶剂合物，其中Z1和Z2各自独立地为N或CH；R2和R6各自独立地为氢或低级烷...

【专利技术属性】
技术研发人员：保罗·布莱克，莱基·塔费塞，
申请(专利权)人：普渡制药公司，
类型：发明
国别省市：美国,US